专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

JP2021105571A イメージング分析データ処理方法及び装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021105571A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019237277
申请日：2019-12-26
申请人：株式会社島津製作所
发明人：押川倫憲
IPC分类号： H01J49/26 , G01N27/62
摘要：【課題】目的物質と基準物質の測定データが1つの測定データとして得られない場合でも、目的物質の測定データを規格化することができるイメージング分析データ処理技術を提供する。【解決手段】試料Sの分析対象領域内の複数の測定点において第1の所定の分析を実行することにより取得された目的物質の測定データを該測定点の空間位置情報に対応づけたものである第1イメージング分析データと、前記複数の測定点のそれぞれにおいて第2の所定の分析を実行することにより取得された基準物質の測定データを該測定点の空間位置情報に対応付けたものである第2イメージング分析データが保存された記憶部21と、前記複数の測定点のそれぞれにおける目的物質の測定データを、当該測定点で取得された前記基準物質の測定データに基づいて規格化する規格化実行部28とを備えるイメージング分析データ処理装置。【選択図】図1

12. 发明专利

JP2021105525A 分析システム及び分析方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021105525A
公开(公告)日：2021-07-26
申请号：JP2019235638
申请日：2019-12-26
申请人：日本電子株式会社
发明人：生方正章
IPC分类号： G01N30/06 , G01N30/04 , G01N30/86 , G01N30/72 , H01J49/26 , H01J49/04 , G01N27/62
摘要：【課題】試料の温度変化に伴うガス成分変化を特定する。【解決手段】試料の温度変化により生じたガス流からガスパルス列54が生成される。各ガスパルス58がカラムに与えられ、これにより複数のガス成分流60が生成される。複数のガス成分流60の質量分析によりクロマトグラフが生成される。それには複数のガス成分流60に対応するセグメント列64が含まれる。セグメント列64のマッピングにより熱分析画像70が生成される。【選択図】図2

13. 发明专利

JP6897797B2 質量分析データ取得方法有权
公开(公告)号：JP6897797B2
公开(公告)日：2021-07-07
申请号：JP2019560792
申请日：2017-05-30
申请人：株式会社島津製作所
发明人：ホアンユンチン , スンウェンジャン , チャンシャオチィアン
IPC分类号： H01J49/26 , G01N30/72 , G01N27/62

14. 发明专利

JP2021077444A 質量分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021077444A
公开(公告)日：2021-05-20
申请号：JP2019200640
申请日：2019-11-05
申请人：株式会社島津製作所
发明人：前田一真
IPC分类号： H01J49/10 , G01N27/62 , H01J49/26
摘要：【課題】装置のメンテナンス性を向上させる。【解決手段】電場の作用によりイオンを輸送する又はイオンの挙動を制御する複数のイオン光学素子、を具備する質量分析装置であって、ユーザの指示に応じて、又は所定のタイミングで、所定の試料についての分析を実行し、その分析結果であるイオン強度信号に基づいて、当該装置の状態が正常であるか異常であるかを判定する装置状態判定部(41,52)と、装置状態判定部により装置の状態が異常であると判定された場合に、所定のシーケンスに従って複数のイオン光学素子に印加する電圧を順次変化させつつ所定の試料についての分析を実行したときのイオン強度信号の変化に基づいて、該複数のイオン光学素子におけるチャージアップの有無を判定するとともに、チャージアップしていたイオン光学素子を推定するチャージアップ判定部(42,53)と、判定結果をユーザに通知する通知部(8,61)と、を備える。【選択図】図1

15. 发明专利

JP2021069140A 電源モジュールおよび質量分析装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021069140A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：JP2019190656
申请日：2019-10-18
申请人：株式会社日立ハイテク
发明人：オンジーハオ , 西元琢真 , 古矢勇夫 , 任田浩
IPC分类号： H01J49/26 , H01J49/10 , H01J49/42 , H02M3/28
摘要：【課題】電源モジュールの性能を向上させる。特に、電源モジュール内において、放電の発生を防ぎ、かつ、電源モジュールを小型化する。【解決手段】電源モジュール内において、基板を平面視において重なるように複数設ける。このとき、第1基板2に、互いの間に沿面放電防止のための距離Lを保って低電圧回路3および高電圧回路を形成し、第2基板4に、低電圧回路5を形成する。また、高電圧回路に形成された高電圧交流回路8を構成する部品と、低電圧回路5を構成する部品との間の距離は、高電圧回路に形成された高電圧直流回路7を構成する部品と、低電圧回路5を構成する部品との間で空間放電が生じない最短の距離Dの3倍以上である。【選択図】図1

16. 发明专利

KR102238950B1 KR102238950B1 - Laser desorption ionization apparatus with fine spot size 有权
公开(公告)号：KR102238950B1
公开(公告)日：2021-04-12
申请号：KR1020190020428A
申请日：2019-02-21
申请人： 주식회사 아스타
发明人： 이승준 , 김양선 , 오주연 , 오윤석 , 한민욱
IPC分类号： H01J49/16 , H01J49/04 , H01J49/26
CPC分类号： H01J49/164 , H01J49/0418 , H01J49/26
摘要： 시료를 레이저 탈착 이온화 방식으로 분석하는 장치에 연관된다. 일실시예에서 레이저 조사부; 및 상기 시료에서 탈착되는 이온을 검출하는 이온 검출기를 포함할 수 있다.

17. 发明专利

JP2020202102A 質量分析装置及び質量較正方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020202102A
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：JP2019108809
申请日：2019-06-11
申请人：株式会社島津製作所
发明人：志知秀治
IPC分类号： H01J49/42 , H01J49/04 , H01J49/10 , G01N27/62 , H01J49/26
摘要：【課題】質量較正用サンプルの調製の手間と時間を軽減する。【解決手段】本発明の一態様による質量分析装置は、試料にレーザ光を照射するレーザ照射部(31,32,33)を含み、レーザ脱離イオン化法を用いて試料中の成分をイオン化するイオン源と、イオンをm/zに応じて分離して検出する分析部(41,42)と、を具備し、イオン源で生成されたイオンを分析部まで輸送して分析を行う質量分析装置であり、イオン照射部によるレーザ光が照射される位置で、且つ、レーザ光の照射により生成されたイオンが収集され得る位置に配置された、レーザ光の照射によりイオン化され得る物質から成るターゲット(23)と、ターゲットにレーザ光を照射し、それにより生成されたイオンを分析部で分析することで得られた結果に基づいて、質量較正情報を求める質量較正情報取得部(51)と、質量較正情報を利用して、目的試料を質量分析するときに質量較正を行う質量較正部(53)と、を備える。【選択図】図1

19. 发明专利

JPWO2019058768A1 レーザ脱離イオン化法及び質量分析方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019058768A1
公开(公告)日：2020-09-03
申请号：JP2018028682
申请日：2018-07-31
申请人：浜松ホトニクス株式会社
发明人：小谷政弘 , 大村孝幸
IPC分类号： H01J49/16 , H01J49/04 , H01J49/26 , G01N27/62
摘要：レーザ脱離イオン化法は、複数の貫通孔が形成された基板(2)と、基板の第1表面(2a)に設けられた導電層と、を備える試料支持体(1)が用意される第1工程と、氷点下雰囲気中において、凍結した試料(S)が載置部(6)の載置面(6a)に載置され、凍結した試料に第2表面(2b)が接触した状態で、載置部に対して試料支持体が固定される第2工程と、試料が解凍され、解凍された試料の成分が毛細管現象によって複数の貫通孔を介して第1表面側に移動する第3工程と、導電層に電圧が印加されつつ第1表面に対してレーザ光(L)が照射されることにより、第1表面側に移動した成分がイオン化される第4工程と、を備える。

20. 发明专利

JP6747601B2 イオン化プローブ及びイオン分析装置有权
公开(公告)号：JP6747601B2
公开(公告)日：2020-08-26
申请号：JP2019540208
申请日：2017-09-07
申请人：株式会社島津製作所
发明人：中野智仁
IPC分类号： H01J49/04 , H01J49/26 , G01N27/62

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式