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11. 发明专利

JP4878063B2 Apparatus and method to get a place by the measurement 有权
公开(公告)号：JP4878063B2
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：JP2009509223
申请日：2008-03-28
申请人：国立大学法人京都大学
发明人：章文中井 , 宣夫佐藤 , 喬堀内 , 圭小林 , 啓文山田 , 建次郎木村 , 和美松重
IPC分类号： G01Q60/50 , G01Q30/04 , G01Q60/30
CPC分类号： G01R33/10 , G01Q30/04 , G01Q60/50 , G01R33/0206 , G01R33/0385
摘要： Above the sample (9) having magnetic domains, a distribution of magnetic force in a measurement plane (91) is obtained as a magnetic force image with use of a MFM, an auxiliary magnetic force image is obtained by performing measurement in a measurement plane (92) away from the measurement plane (91) by a minute distance d, and a difference between them is divided by the minute distance d to obtain a magnetic force gradient image. The magnetic force image and the auxiliary magnetic force image are Fourier transformed and substituted into a three-dimensional field obtaining equation derived from a general solution of the Laplace equation, and the three-dimensional field indicating the magnetic force is obtained with high accuracy. A state of the magnetic domains at the surface (93) of the sample (9) can be obtained with high accuracy by obtaining the three-dimensional field. The three-dimensional field obtaining method using the three-dimensional field obtaining equation can be used for various fields of magnetic, electric, temperature and gravity potential and so on satisfying the Laplace equation. The obtaining of the three-dimensional field can be extended to obtaining of an n-dimensional field having high-dimension.

12. 发明专利

JP4876216B2 Surface position measuring method and surface position measuring device 有权
公开(公告)号：JP4876216B2
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：JP2006550729
申请日：2005-12-22
申请人：国立大学法人北海道大学
发明人：孝治岡嶋 , 洋志徳本 , 賢田中
IPC分类号： G01Q20/02 , G01Q60/34 , G01Q30/04 , G01Q60/32
CPC分类号： G01Q30/04 , G01Q60/32

13. 发明专利

JP4822330B2 Integrated verification and manufacturability tool 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP4822330B2
公开(公告)日：2011-11-24
申请号：JP2006161662
申请日：2006-06-09
申请人：メンター・グラフィクス・コーポレーション
发明人：サフーリアエミリー , ユースーション , ビー．コブニコラス , シー．アンダーソンリー , ダブリュー．グロッドローレンス
IPC分类号： G03F1/08 , G01Q30/04 , G01Q60/00 , G01Q70/06 , G01Q80/00 , G03F1/00 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/26

14. 发明专利

JP2011215112A Multi-probe afm nanoprober and measurement method using the same 审中-公开
标题翻译：多探针AFM纳米聚合物及其测量方法
公开(公告)号：JP2011215112A
公开(公告)日：2011-10-27
申请号：JP2010086105
申请日：2010-04-02
申请人： National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology , Wafer Integration株式会社 , Wafer Integration Inc , 独立行政法人産業技術総合研究所
发明人： SHIODA TAKASHI , ITAYA TARO , KOMATSUZAKI TAKAO
IPC分类号： G01Q60/24 , G01Q30/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a structure for implementing scanning on the stage side by an AFM nanoprober, using multiple probes which quickly corrects the positional relation between a sample and probes, avoids conflicts among the probes, and facilitate electrical measurements in a submicron region.SOLUTION: AFM images are simultaneously obtained by the probes so as to form an overlapping region. The overlapping region is searched from the AFM images to find their respective relative positions, and the probe positions are derived. The probe positions for a measurement are set from the derived probe positions, and electrical measurements are implemented by contacting and pressing the probes to a to-be-measured object. First, detection is implemented in a state where the probes are located close by and are initiated from the state that the probes are adjacent, so that the overlapping region can be reduced to thereby enable the measurements to be implemented quickly. The scanning is a raster scan or a spiral scan.
摘要翻译：要解决的问题：为了获得通过AFM纳米粒子在舞台侧实现扫描的结构，使用多个探针快速校正样品和探针之间的位置关系，避免了探针之间的冲突，并且促进了亚微米区域的电测量解决方案：通过探针同时获得AFM图像，以形成重叠区域。从AFM图像搜索重叠区域以找到它们各自的相对位置，并导出探针位置。用于测量的探针位置是从导出的探针位置设定的，电测量是通过将探头接触并按压到被测物体来实现的。首先，在探针位于靠近探测器的状态并且从探头相邻的状态开始的状态下实现检测，从而可以减少重叠区域，从而能够快速实现测量。扫描是光栅扫描或螺旋扫描。

15. 发明专利

JP4665704B2 Measuring probe and the surface properties of the measuring device and the surface properties measuring method 有权
公开(公告)号：JP4665704B2
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：JP2005301204
申请日：2005-10-17
申请人：セイコーインスツル株式会社
发明人：亜三子二瓶 , 明井上 , 直哉渡邉 , 喜春白川部
IPC分类号： G01Q60/00 , G01Q10/00 , G01Q30/02 , G01Q30/04 , G01Q60/02 , G01Q60/24 , G01Q60/40

16. 发明专利

JPWO2008123432A1 測定により場を取得する装置および方法有权
公开(公告)号：JPWO2008123432A1
公开(公告)日：2010-07-15
申请号：JP2009509223
申请日：2008-03-28
申请人：国立大学法人京都大学
发明人：建次郎木村 , 建次郎木村 , 圭小林 , 圭小林 , 啓文山田 , 啓文山田 , 松重　和美 , 和美松重 , 喬堀内 , 喬堀内 , 佐藤　宣夫 , 宣夫佐藤 , 章文中井 , 章文中井
IPC分类号： G01Q60/50 , G01Q30/04 , G01Q60/30
CPC分类号： G01R33/10 , G01Q30/04 , G01Q60/50 , G01R33/0206 , G01R33/0385
摘要：磁区を有する試料(9)の上方において、MFMを用いて測定面(91)での磁気力の分布が磁気力画像として取得され、測定面(91)から微小距離dだけ離れた測定面(92)にて測定を行って補助磁気力画像が取得され、これらの差分を微小距離dで除算して磁気力勾配画像が取得される。磁気力画像および補助磁気力画像はフーリエ変換されてラプラス方程式の一般解から導かれる3次元場取得式に代入され、磁気力を示す3次元場が高精度に取得される。3次元場の取得により、試料(9)の表面93における磁区の様子も高精度に得ることができる。3次元場取得式を利用する3次元場取得方法は、ラプラス方程式を満たす磁位、電位、温度、重力ポテンシャル等の様々な場に利用することができる。また、3次元場の取得は高次のn次元場の取得に拡張することができる。

17. 发明专利

JP4497753B2 Scanning probe microscope of the physical property measurement method and program as well as a scanning probe microscope apparatus 有权
公开(公告)号：JP4497753B2
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：JP2001165308
申请日：2001-05-31
申请人：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
发明人：正新井 , 喜春白川部 , 寛高橋
IPC分类号： G01B21/30 , G01Q60/10 , G01Q30/04 , G01Q30/06 , G01Q60/16 , G01Q60/24 , G01Q60/50 , H01L21/3205 , H01L23/52
CPC分类号： G01Q60/50 , G01Q10/06

18. 发明专利

JP4460436B2 Electron microscope, the method of operation electron microscope, readable recording medium with an electron microscope operation program and a computer and recording equipment 有权
公开(公告)号：JP4460436B2
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：JP2004366741
申请日：2004-12-17
申请人：株式会社キーエンス
发明人：一正佐竹 , 和広橘 , 晋也高橋
IPC分类号： H01J37/22 , G01Q30/02 , G01Q30/04 , H01J37/28

19. 发明专利

JP4444734B2 Fine pattern forming apparatus 有权
公开(公告)号：JP4444734B2
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：JP2004167920
申请日：2004-06-07
申请人：キヤノン株式会社
发明人：卓中村 , 裕久太田 , 英悟川上 , 和之春見 , 俊伸時田
IPC分类号： G01Q30/04 , G01Q80/00 , G01B5/28 , G01Q60/24 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2049 , G01Q10/06 , G01Q70/06 , G01Q80/00

20. 发明专利

JP4424065B2 Measurement method using a scanning probe microscope 有权
公开(公告)号：JP4424065B2
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：JP2004148545
申请日：2004-05-19
申请人：株式会社日立製作所
发明人：正浩渡辺 , 修一馬場
IPC分类号： G01B21/02 , G01Q60/50 , G01Q30/02 , G01Q30/04 , G01Q60/24 , G06T1/00

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