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    • 18. 发明专利
    • 反応性シルセスキオキサン化合物を含む光導波路形成用組成物
    • JPWO2018199305A1
    • 2020-03-12
    • JP2018017254
    • 2018-04-27
    • 日産化学株式会社
    • 長澤 偉大田所 佐代子菓子野 翼大森 健太郎
    • C08F290/14C08F230/08C08F220/30G02B6/12
    • 【課題】長波長域においても低伝搬損失であり、かつ波長1,550nmにおける屈折率が高い光導波路形成材料を提供すること。 【解決手段】(a)式[1]で表されるアルコキシシラン化合物Aと、式[2]で表されるアルコキシシラン化合物Bとの重縮合物である反応性シルセスキオキサン化合物100質量部及び(b)式[3]で表されるフルオレン化合物10〜500質量部を含む光導波路形成用組成物及び該組成物を用いて作成された光導波路。 【化1】 (式中、Ar 1 は重合性二重結合を有する基を少なくとも1つ有するフェニル基、ナフチル基又はビフェニル基を表し、R 1 はメチル基又はエチル基を表す。) 【化2】 (式中、Ar 2 は炭素原子数1乃至6のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、縮合多環芳香族炭化水素基又は炭化水素環集合基を表し、R 2 はメチル基又はエチル基を表す。) 【化3】 (式中、R 3 及びR 4 はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、L 1 及びL 2 はそれぞれ独立して置換基を有していてもよいフェニレン基又はナフタレンジイル基を表し、L 3 及びL 4 はそれぞれ独立して炭素原子数1乃至6のアルキレン基を表し、m及びnはm+nが0乃至40となる0又は正の整数を表す。) 【選択図】なし