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151. 发明专利

JP6742399B2 冷却装置及び熱処理装置有权
公开(公告)号：JP6742399B2
公开(公告)日：2020-08-19
申请号：JP2018507149
申请日：2017-02-22
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦
IPC分类号： C21D1/00 , C21D1/667

152. 发明专利

JPWO2018135038A1 発熱体及び真空熱処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018135038A1
公开(公告)日：2019-11-07
申请号：JP2017033796
申请日：2017-09-20
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦
IPC分类号： C21D1/773 , F27D11/02 , F27D21/00 , F27D19/00 , H05B3/02
摘要：この発熱体(10)は、真空熱処理装置(S1)に収容された被処理物(W)の周囲に配置され、真空雰囲気下で被処理物を加熱する発熱体であって、複数の電気ヒータ(18)と、当該複数の電気ヒータを相互に接続する導電性コネクタ(c4)とを備え、電気ヒータと導電性コネクタとは、互いに密着して接合されている。

153. 发明专利

JP2019183225A 熱処理方法及び熱処理治具审中-公开
公开(公告)号：JP2019183225A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018075435
申请日：2018-04-10
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦
IPC分类号： C23C8/22 , C21D1/06 , C21D1/00 , F27D3/12 , C21D1/70 , C23C8/04
摘要：【課題】特定部位の他部位に対する熱処理度合いを細かくコントロールすることが可能な熱処理方法及び熱処理治具の提供。【解決手段】部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する熱処理方法であって、被処理物の特定部位に浸炭抑制材Fを充填することにより特定部位の熱処理度合いを低くする。特定部位が環状面である場合、環状面を周面とする筒状空間に前記浸炭抑制材を充填する。筒状空間に前記特定部位と所定の隙間を空けて対峙する突部j4を設け、突部と環状面との間の空間に浸炭抑制材を充填する。【選択図】図3

154. 发明专利

JP2018128203A 熱処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018128203A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：JP2017022011
申请日：2017-02-09
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：中本一朗
IPC分类号： F27D1/00 , C21D1/00 , F27B5/08
摘要：【課題】断熱室内の被処理物を従来よりも効率よく冷却する。【解決手段】断熱室に収容された被処理物を加熱及び冷却することによって熱処理する熱処理装置であって、上記断熱室を形成し、内部に空間が形成された中空構造を備える断熱体と、上記空間に対する流体の充填状態を設定する流体設定装置とを備え、上記空間は被処理物を囲むように複数設けられる。【選択図】図2

155. 发明专利

JP6296657B2 熱処理装置有权
公开(公告)号：JP6296657B2
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：JP2014131870
申请日：2014-06-26
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦 , 磯本馨 , 永田喬裕 , 中山公 , 清水勇助 , 西谷玄
IPC分类号： F27B9/02 , F27B9/38 , F27B9/39 , F27B17/00 , C21D1/00 , F27B9/14
CPC分类号： F27D15/0206 , C21D1/00 , C21D1/62 , C21D9/005 , C21D9/0056 , C21D9/0062 , F27B17/00 , F27B17/0016 , F27D3/0024 , F27D3/06 , F27D3/12 , F27D2003/0001 , F27D2003/0018 , F27D2003/0034 , F27D2009/0081

156. 发明专利

JP6238498B2 熱処理装置及び冷却装置有权
公开(公告)号：JP6238498B2
公开(公告)日：2017-11-29
申请号：JP2016560144
申请日：2015-11-05
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦 , 磯本馨 , 西谷玄 , 中山公 , 永田喬裕 , 清水勇助
IPC分类号： C21D1/18 , C21D1/00 , C21D1/62
CPC分类号： C21D9/0006 , C21D1/00 , C21D1/60 , C21D1/62 , C21D1/667 , C21D9/0062

157. 发明专利

JPWO2016158029A1 熱処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2016158029A1
公开(公告)日：2017-07-20
申请号：JP2017509355
申请日：2016-02-12
申请人：株式会社Ihi , 株式会社Ihi , 株式会社Ihi機械システム
发明人：勝俣　和彦 , 和彦勝俣
IPC分类号： C21D1/773 , C21D1/74 , F27B17/00 , F27D7/06
CPC分类号： F27D7/06 , C21D1/76 , C21D1/773 , F27D2007/063 , F27D2007/066
摘要：熱処理装置が、被処理物(X)を加熱処理する加熱室(2)と、加熱室に隣接して設けられ、被処理物を加熱室との間で出し入れすると共に被処理物の周囲を真空雰囲気とする水分除去室(1)とを備える。

158. 发明专利

JP6153466B2 熱処理品の温度測定装置と方法有权
公开(公告)号：JP6153466B2
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：JP2013502334
申请日：2012-02-27
申请人：株式会社Ihi , 株式会社Ihi , 株式会社Ihi機械システム
发明人：勝俣　和彦 , 和彦勝俣 , 純治井上 , 純治井上 , 嵩久嶋田 , 嵩久嶋田 , 晋也工藤 , 晋也工藤 , 亜実上田 , 亜実上田
IPC分类号： G01J5/06 , C21D1/00 , C21D1/667 , F27D21/00 , G01J5/00
CPC分类号： G01J5/02 , C21D1/667 , C21D11/005 , F27D9/00 , F27D19/00 , F27D21/0014 , F27D21/02 , G01J5/0044 , G01J5/046 , G01J5/0875

159. 发明专利

JPWO2016006500A1 熱処理装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016006500A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016532890
申请日：2015-06-30
申请人：株式会社Ihi , 株式会社Ihi , 株式会社Ihi機械システム
发明人：勝俣　和彦 , 和彦勝俣 , 馨磯本 , 馨磯本 , 喬裕永田 , 喬裕永田 , 公中山 , 公中山 , 勇助清水 , 勇助清水 , 玄西谷 , 玄西谷
IPC分类号： F27B5/14 , C21D1/773 , F27B5/10 , F27D11/02
CPC分类号： F27B5/10 , F27B5/14 , F27D11/02
摘要：熱処理装置(1)は、内部に被処理物(W)を収容する加熱室(2)と、被処理物が収容される加熱室の領域である収容領域(R)の下部を加熱する下ヒータ(5a)と、収容領域の上部を加熱する上ヒータ(5b)とを備える。

160. 发明专利

JP2016160518A 多室型熱処理装置审中-公开
标题翻译：多室型热处理设备
公开(公告)号：JP2016160518A
公开(公告)日：2016-09-05
申请号：JP2015042635
申请日：2015-03-04
申请人：株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
发明人：勝俣和彦 , 磯本馨 , 中山公
IPC分类号： F27B9/12 , F27B9/02 , F27D9/00 , C21D1/00 , C21D1/62
CPC分类号： C21D1/00 , C21D1/62 , F27B9/02 , F27B9/12 , F27D9/00
摘要：【課題】ミスト冷却に対する冷却性能の低下を抑制した多室型熱処理装置を提供する。【解決手段】上面視で加熱室が中間搬送室を挟んで複数配置され、被処理物が中間搬送室を経由して前記加熱室に収容される多室型熱処理装置であって、上面視で中間搬送室に隣接して設けられ、冷却ガスを用いて被処理物を冷却するガス冷却室と、ガス冷却室内において被処理物に向けて延出するガス吹込口と、被処理物を挟んでガス吹込口に対向するように被処理物に向けて延出するガス排気口とを備え、ガス吹込口から冷却ガスを吹き付け、被処理物の冷却に寄与した冷却ガスをガス排気口から排気する冷却ガス流通機構とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抑制冷却性能降低的多室式热处理装置。解决方案：一种多室型热处理装置，其中多个加热室跨越中间转移室布置在顶面视图，经处理的物体经由中间转移室存储在加热室中，包括：气体冷却室，其以顶面观察与中间转印室相邻设置，并通过使用气体冷却被处理物体; 吹气口延伸到气体冷却室中的加工产品; 以及延伸到处理对象的气体排出口，以便面对被处理物体的气体吹出口。此外，还包括冷却气体循环机构，该冷却气体循环机构从气体吹出口吹送冷却气体，并从有助于被处理物体的冷却的排气口冷却气体排出。图1

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