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91. 发明专利

JP2018154789A 研磨用組成物及び研磨方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018154789A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2017054336
申请日：2017-03-21
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：中村康行
IPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , C09K3/14
摘要：【課題】タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウムを研磨する用途においてより好適に使用可能な研磨用組成物を提供する。【解決手段】コロイダルシリカと、エチレンジアミン四酢酸のカリウム塩またはジエチレントリアミン五酢酸のカリウム塩と、水とを含む、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウム基板用研磨用組成物であって、組成物に占めるコロイダルシリカの含有量の割合が10〜35質量%であり、エチレンジアミン四酢酸のカリウム塩またはジエチレントリアミン五酢酸のカリウム塩におけるカルボキシル基中の水素原子のカリウム原子による中和率が60〜100モル%であり、これら含有物中のエチレンジアミン四酢酸のカリウム塩または前記ジエチレントリアミン五酢酸のカリウム塩の含有量の割合が0.2〜4.0質量%であり、かつpHが7〜12である、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウム基板用研磨用組成物。【選択図】なし

92. 发明专利

JP6396741B2 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法有权
公开(公告)号：JP6396741B2
公开(公告)日：2018-09-26
申请号：JP2014198547
申请日：2014-09-29
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：坂部晃一 , 松本千晶 , 安部佳弘
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14

93. 发明专利

JP6393231B2 合成石英ガラス基板用研磨剤及び合成石英ガラス基板の研磨方法有权
公开(公告)号：JP6393231B2
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：JP2015095657
申请日：2015-05-08
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：高橋光人 , 野島義弘
IPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , G11B5/84 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C08K2003/2213 , C09K3/1463 , G11B5/84

94. 发明专利

JP6389854B2 スラリー及びこれを用いた基板の研磨方法有权
公开(公告)号：JP6389854B2
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：JP2016185423
申请日：2016-09-23
申请人：ユービーマテリアルズインコーポレイテッド
发明人：パクジンヒョン
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14

95. 发明专利

JP2018123046A セリア系複合微粒子分散液、その製造方法及びセリア系複合微粒子分散液を含む研磨用砥粒分散液审中-公开
公开(公告)号：JP2018123046A
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：JP2017218402
申请日：2017-11-13
申请人：日揮触媒化成株式会社
发明人：小松通郎 , 俵迫祐二 , 碓田真也 , 中山和洋 , 川上翔大
IPC分类号： B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14 , C09G1/02 , C01B33/18
CPC分类号： B24B37/00 , C01B33/14 , C01F17/00 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：【課題】シリカ膜、Siウェハや難加工材であっても高速で研磨でき、同時に高面精度を達成できるシリカ系複合粒子分散液の提供。【解決手段】下記の特徴を備える平均粒子径50〜350nmのセリア系複合微粒子20を含むセリア系複合微粒子分散液。母粒子10とその表面上のセリウム含有シリカ層12とセリウム含有シリカ層12の内部に分散している子粒子14とを有し、母粒子は10非晶質シリカを主成分とし、子粒子14は結晶性セリアを主成分とするセリア系複合微粒子20。子粒子14の粒子径分布における変動係数(CV値)が14〜40%であり、セリア系複合微粒子20がシリカとセリアとの質量比が100:11〜316であり、セリア系複合微粒子20がX線回折に供するとセリアの結晶相のみが検出され、X線回折に供して測定される結晶性セリアの平均結晶子径が10〜25nmであるセリア系複合微粒子10。【選択図】図1

96. 发明专利

JP2018110146A 酸化セリウム砥粒审中-公开
公开(公告)号：JP2018110146A
公开(公告)日：2018-07-12
申请号：JP2016256308
申请日：2016-12-28
申请人：花王株式会社
发明人：衣田幸司 , 大井信
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：【課題】研磨速度を向上できる酸化セリウム砥粒の提供。【解決手段】本開示は、一態様において、研磨剤に使用される酸化セリウム砥粒であって、酸化セリウム砥粒表面における{100}面の露出量が30%以上である、酸化セリウム砥粒に関する。【選択図】図1

97. 发明专利

JP2018107294A 化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018107294A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016252453
申请日：2016-12-27
申请人： JSR株式会社
发明人：山田裕也 , 西村康平 , 石戸洋太 , 渋谷恭兵 , 國谷英一郎 , 野田昌宏
IPC分类号： B24B37/00 , C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
摘要：【課題】コバルト膜の腐食を抑制しながら良好な研磨特性を実現できる、半導体装置の製造に有用な化学機械研磨用組成物、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供する。【解決手段】本発明に係る化学機械研磨用組成物は、スルファニル基が共有結合を介して表面に固定化された砥粒と、液状媒体と、を含有することを特徴とする。【選択図】図4

98. 发明专利

JP2018076486A 安定化アミノシラン基含有シリカ粒子の水性組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018076486A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2017198635
申请日：2017-10-12
申请人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッド
发明人：イ・グォ , デビッド・モズリー , デビッド・エル・トーセン
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B1/00 , B24B37/044 , C01B33/14 , C01B33/18 , C09G1/00 , C09G1/04 , C09G1/06 , C09K3/1436 , C09K3/1454 , C09K3/1463 , C09K13/06 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要：【課題】高い除去速度を維持しながらも、貯蔵、輸送及び熱老化に対して安定なCMP研磨組成物の提供。【解決手段】二つの第四級アンモニウム基を含有する化合物と、組成物の全重量に基づいて固形分として1〜30重量%の量の、一つ以上のカチオン性窒素原子を含有するアミノシラン基含有シリカ粒子との混合物を含む、3〜5の範囲のpHを有する水性ケミカルメカニカルプラナリゼーション(CMP)研磨組成物であって、前記シリカ粒子上のアミノシラン及び前記二つの第四級アンモニウム基を含有する化合物からのカチオン性窒素原子の全量が、水性CMP研磨組成物中のシリカ粒子1m2あたり170〜500nMの範囲であり、さらに、45℃の温度で少なくとも6日間の熱老化ののち、固形分15重量%で目に見える沈殿又は沈降に対して安定である、水性ケミカルメカニカルプラナリゼーション(CMP)研磨組成物。【選択図】なし

99. 发明专利

JP2018510230A 窒化ケイ素の除去のためのＣＭＰ組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018510230A
公开(公告)日：2018-04-12
申请号：JP2017540578
申请日：2016-01-26
申请人：キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション
发明人：ホワーンフン−ツォン , イェーミーン−チー , ツァイチー−ピン
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC分类号： C09G1/04 , C09D1/02 , C09G1/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要：本発明は、(a)Mg、Ca、Al、B、Be及びこれらの組み合わせから選択される金属イオンで表面改質されたコロイド状シリカ粒子であって、コロイド状シリカ粒子は、粒子の表面積の1nm2当たり約1.5の水酸基〜1nm2当たり約8の水酸基の表面水酸基密度を有する、コロイド状シリカ粒子と、(b)アニオン性界面活性剤と、(c)緩衝剤と、(d)水と、を含む、化学機械研磨用組成物を提供し、前記研磨用組成物は約2〜約7のpHを有しており、前記研磨用組成物は、金属を酸化させる酸化剤を含まない、または実質的に含まない。本発明は、基板を本発明の前記化学機械研磨用組成物で化学的に機械的に研磨する方法を更に提供する。通常、前記基板は、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び/またはポリシリコンを含む。【選択図】なし

100. 发明专利

JP2018053138A 金属酸化物粒子分散液审中-公开
公开(公告)号：JP2018053138A
公开(公告)日：2018-04-05
申请号：JP2016191652
申请日：2016-09-29
申请人：花王株式会社
发明人：衣田幸司
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14
摘要：【課題】本発明は、粒子の分散状態がより良好な金属酸化物粒子分散液を提供する。【解決手段】本発明の金属酸化物粒子分散液は、金属酸化物粒子A、(メタ)アクリル酸由来の構成単位を含む重合体及びそれらの塩から選ばれる水溶性高分子B、アミノカルボン酸及び有機ホスホン酸から選ばれる少なくとも1種の化合物C、及び水系媒体を含有し、1質量部の金属酸化物粒子Aに対して水溶性高分子Bを0.5質量部以上5.0質量部以下含み、100質量部の水溶性高分子Bに対して化合物Cを0.1質量部以上1.5質量部以下含む。【選択図】なし

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