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    • 95. 发明专利
    • 半導体装置の作製方法、及び、半導体装置
    • 制造半导体器件的方法和半导体器件
    • JP2014222766A
    • 2014-11-27
    • JP2014142057
    • 2014-07-10
    • 株式会社半導体エネルギー研究所Semiconductor Energy Lab Co Ltd
    • MIKAMI MAYUMIIZUMI KONAMI
    • H01L23/52H01L21/02H01L21/336H01L21/8234H01L27/00H01L27/08H01L27/088H01L27/12H01L29/786
    • H01L27/1266H01L21/76814H01L25/0657H01L27/124H01L2225/06513H01L2225/06541H01L2924/0002H01L2924/00
    • 【課題】不完全な分離を抑制することができ、半導体装置の信頼性が低下することを抑制することができる半導体装置の作製方法を提供する。【解決手段】第1の基板上に互いに密着性の弱い第1の層311と第2の層312を形成し、第2の層上に第1の半導体素子層302及び第1の絶縁層を形成し、第1の絶縁層中に第1の層に達するスルーホールを形成し、スルーホール底部に露出した第1の層を酸化させ、第1の絶縁層上及びスルーホール355内部に第1の半導体素子層と電気的に接続される配線306を形成し、第1の層と第2の層を分離することにより第1の基板から第1の半導体素子層及び配線を分離して配線を露出させる半導体装置の作製方法と、さらに分離された第2の半導体素子層と配線との間に、異方性導電接着材342を設け、第1の半導体素子層と第2の半導体素子層は、異方性導電接着材及び配線356によって電気的に接続されている。【選択図】図3
    • 要解决的问题:提供一种制造半导体器件的方法,其可以防止半导体器件的不完全分离和可靠性降低。解决方案:制造半导体器件的方法包括以下步骤:形成第一层311和 在第一基板上彼此具有弱粘合力的第二层312; 在第二层上形成第一半导体元件层302和第一绝缘层; 在第一绝缘层中形成到达第一层的通孔; 氧化暴露在通孔底部的第一层; 在第一绝缘层和通孔355中形成与第一半导体元件层电连接的布线306; 以及从所述第一基板分离所述第一半导体元件层和所述布线,以通过将所述第一层与所述第二层分离来暴露所述布线。 此外,在分离的第二半导体元件层和布线之间设置各向异性导电粘合材料342,并且通过各向异性导电粘合剂材料和布线356将第一半导体元件层和第二半导体元件层彼此电连接。