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91. 发明专利

JP2016536254A 複合材料、熱吸収性構成部分および該複合材料の製造方法审中-公开
标题翻译：复合材料，制造热吸收组分和该复合材料的方法
公开(公告)号：JP2016536254A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2016530950
申请日：2014-11-06
申请人：ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , ヘレーウスクオーツアメリカエルエルシーHeraeus Quartz America LLC , ヘレーウスクオーツアメリカエルエルシーHeraeus Quartz America LLC
发明人：シャイヒゲリト , シャイヒゲリト , シェンククリスティアン , シェンククリスティアン , ウェスリーフランク , ウェスリーフランク , チョリッチュナディーヌ , チョリッチュナディーヌ , クリスティアン　ノイマン , ノイマンクリスティアン , モーリッツシュテファン , モーリッツシュテファン , ミヒェルディアク , ミヒェルディアク , アタノスアーシュア , アタノスアーシュア
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C09K5/14 , B28B1/26 , C03B19/066 , C03C14/004 , C03C14/006 , C03C2214/04 , C03C2214/08 , C03C2214/16 , C03C2214/30 , C04B35/14 , C04B35/64 , F27B14/10 , F27B2014/0843 , Y10T428/131
摘要：フューズドシリカマトリックスを有する公知の複合材料においては、ケイ素含有相の領域が埋め込まれている。ガス不透過性および純度に対する既存の要求が課せられた場合であっても、熱処理のための高温プロセスにおいて使用するための構成部分の製造に適した複合材料を提供するために、本発明によれば以下のことが提案され、すなわち、複合材料がガス不透過性であり、かつ、0.5%未満の閉気孔率、および少なくとも2.19g/cm3の比密度、および1000℃の温度で2〜8μmの波長に対して少なくとも0.7の分光放射率を有することが提案される。
摘要翻译：在具有熔融二氧化硅基质已知的复合材料，含硅相的区域被嵌入。即使不透气性和纯度的现有需求施加，以便提供适合于在高温工艺进行热处理使用部件的制造的复合材料，根据本发明字段是下面所提出的，即，该复合材料是不透气的，和小于0.5％的闭孔孔隙率，和2.19克/厘米3的至少特定的密度，和1000℃的温度2〜8μm的所以建议具有至少0.7的波长光谱辐射率。

92. 发明专利

JP2016536252A チタンおよびフッ素でドープされた、高ケイ酸含量のガラスからなるブランクの製造法审中-公开
标题翻译：与钛和氟掺杂，制备一个空白的由高二氧化硅含量的玻璃
公开(公告)号：JP2016536252A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2016530157
申请日：2014-11-06
申请人：ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG , ヘレーウスクヴァルツグラースゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングウントコンパニーコマンディートゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG
发明人：オクスシュテファン , オクスシュテファン , ベッカークラウス , ベッカークラウス
IPC分类号： C03B19/06 , C03C3/06 , C03C3/062
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B19/066 , C03B19/106 , C03B19/1095 , C03B19/14 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G03F1/24
摘要：本発明は、EUVリソグラフィーで使用するための、所定のフッ素含量を有する、チタンでドープされた高ケイ酸含量のガラスからなるブランクを製造するための方法に関し、その際に、熱膨張係数は、使用温度に亘りできるだけ安定してゼロである。Tiでドープされたケイ酸ガラスの熱膨張係数の曲線は、幾つかの影響因子に依存する。絶対チタン含量とともに、チタンの分布は、著しく重要であり、ならびにさらなるドーピング元素、例えばフッ素の割合および分布も著しく重要である。本発明によれば、フッ素でドープされたTiO2−SiO2スート粒子を製造し、かつ固化およびガラス化により後加工してブランクとする合成プロセスを含む方法であって、前記合成プロセスが、ケイ素含有出発物質およびチタン含有出発物質の火炎加水分解により、TiO2−SiO2スート粒子を形成させる方法工程、および前記TiO2−SiO2スート粒子を運動粉末層中でフッ素含有試薬に晒しかつ反応させてフッ素でドープされたTiO2−SiO2スート粒子とする、後続の方法工程を含むことを特徴とする、前記方法が提案される。
摘要翻译：本发明中，用于EUV光刻使用，具有预定的氟含量，用于产生掺杂有钛制成的高二氧化硅含量的玻璃的坯料，在此情况下的方法，所述热膨胀系数，是零只能够稳定地在一个工作温度。掺杂硅酸盐玻璃中的Ti的热膨胀系数的曲线取决于几个影响因素。绝对钛含量，钛的分布是重要的显著，以及进一步的掺杂元素，例如，氟的比例和分布是非常重要的还。根据本发明，以产生掺氟TiO2-SiO2的烟灰颗粒，和一种方法，其包括合成的方法，该方法后处理，以坯件固化和玻璃化，合成过程中，将含硅的起始由物质的火焰水解和含钛原料，形成TiO2-SiO2的烟灰粒子的方法步骤，和TiO2-SiO2的与煤烟颗粒含氟试剂曝光并反应掺杂有氟锻炼粉末层和TiO2-SiO2的烟灰颗粒，其特征在于：它包括一个随后的方法步骤，所述被建议的方法。

93. 发明专利

JP2016531825A 溶融シリカから構成されたブランクに水素を添加する方法、レンズ素子および投影レンズ审中-公开
标题翻译：由熔融石英，透镜元件和投影透镜构造添加氢到空白的方法
公开(公告)号：JP2016531825A
公开(公告)日：2016-10-13
申请号：JP2016530444
申请日：2014-07-24
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：エヴァエリック , エヴァエリック
IPC分类号： C03B20/00 , G02B1/00
CPC分类号： C03B19/066 , C03B19/09 , C03B2201/21 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/54 , G02B1/02 , G02B13/143 , G02B13/16 , G03F7/70958
摘要：本発明は、溶融シリカから構成されたブランクに水素を添加する方法に関する。添加は2つのステップを含み、ブランクに、第1ステップにおいて第1温度(T1)および第1水素分圧(p1)で、および第2ステップにおいて、第1温度と異なる第2温度(T2)および第1水素分圧と異なる第2水素分圧(p2)で添加する。第1および第2温度(T1,T2)は、ブランク(32、38)の溶融シリカ内でシランの熱的形成が開始する限界温度より低い。さらに本発明は、そうしたブランクから製造されたレンズ素子、および少なくとも1つのそうしたレンズ素子を備える投影レンズに関する。【選択図】図6
摘要翻译：本发明涉及添加氢到空白由熔融石英构成的方法。此外包括两个步骤，坯件，在第一步骤中的第一温度（T1）和所述第一氢分压（P1），并且在第二步骤中，第一温度是从第二温度（T2）和不同它补充在第二氢分压是从第一氢分压（P2）不同。第一和第二温度（T1，T2）是空白的比极限温度硅烷的热形成的（32，38）在较低的熔融二氧化硅被启动。从这样的坯件制成的本发明进一步的透镜元件，并且包括至少一个这样的透镜元件的投影透镜。点域6

94. 发明专利

JP2016023132A ドープ石英ガラスの製造方法有权
标题翻译： DOPED QUARTZ玻璃的制造方法
公开(公告)号：JP2016023132A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2015143935
申请日：2015-07-21
申请人：ヘレウスクワルツグラスゲーエムベーハーウントコンパニーカーゲー
发明人：シュヴェリンマルテ , トロマーマルティン , ツヴァルクシュテッフェン
IPC分类号： C03B8/00 , C03B37/012 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/066 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B23/045 , C03B23/095 , C03B23/099 , C03B37/01446 , C03B37/01453 , C03B37/0146 , C03C13/045 , C03C3/06 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/32 , C03B2201/34 , C03B2201/36 , C03B2201/40 , C03B2201/42 , C03C2201/12 , C03C2201/32 , C03C2201/34 , C03C2201/36 , C03C2201/40 , C03C2201/42 , C03C2203/46
摘要：【課題】光学部品としてのドープ石英ガラスの製造方法の提供。【解決手段】a)石英ガラスの比重に対して18〜30%の範囲の平均密度を有するスート体を準備するステップ、b)前記スート体を、プロセスチャンバーにてフッ素含有化合物を含むガスで処理しつつ、フッ素化中間産物(A)を形成させ、中間産物(A)の平均密度が、ステップa)のスート体の平均密度に対して最大30%増加するステップ、c)フッ素化中間産物(A)を950〜1,150℃の範囲の温度に加熱しつつ、フッ素化中間産物(B)を形成させ、フッ素化中間産物(B)の平均密度が、石英ガラスの比重の最大80%、好ましくは最大60%であるステップ、及びd)プロセスチャンバーにて前記フッ素化中間産物(B)をガラス化させ、前記ドープ石英ガラスを形成している間、前記プロセスチャンバーの内部圧力が、前記プロセスチャンバーの外部圧力よりも低いステップを含む。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供掺杂石英玻璃作为光学部件的制造方法。解决方案：掺杂石英玻璃的制造方法包括：a）制备平均密度在18至30％范围内的烟灰体的步骤，对石英玻璃的比重; b）在处理室中通过含有含氟化合物的气体处理烟灰体，同时使中间产物（A）的平均密度相对于步骤a）中烟灰体的平均密度; c）在将氟化中间体（A）加热到950〜1150℃的温度的同时，形成氟化中间体（B）的步骤，其中氟化中间体（B）的平均密度达到相对于石英玻璃的比重为80％，优选高达60％; 以及d）在所述处理室中玻璃化所述氟化中间产物（B）的步骤，并且其中所述处理室的内部压力低于所述处理室的外部压力，同时所述掺杂的石英玻璃正在形成。选择图：无

95. 发明专利

JP5572748B1 Optical connection components and method of manufacturing the same, and optical connecting parts manufacturing mold container that 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5572748B1
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：JP2013192911
申请日：2013-09-18
申请人：湖北工業株式会社
发明人：克之井本
IPC分类号： G02B6/04 , G02B6/24
CPC分类号： G02B6/02042 , C03B19/00 , C03B19/066 , C03B23/047 , G02B6/3672 , G02B6/368 , G02B6/3801 , G02B6/3885 , G02B6/40
摘要：【課題】マルチコアファイバとシングルモードファイバを高効率で光結合できる光接続部品を提供する。
【解決手段】低屈折率のクラッドの中にＮ個（ただしＮは３〜１４の整数）の高屈折率のコアを有するマルチコアファイバに、低屈折率のクラッドの中に１個の高屈折率のコアを有するシングルモードファイバをＮ個、該シングルモードファイバのコアが前記マルチコアファイバのコアと光結合するように接続する光接続部品であって、
前記マルチコアファイバに接する第１端面と前記シングルモードファイバに接する第２端面を有する柱状の石英ガラス部材と、該石英ガラス部材の中に前記第１端面から前記第２端面にかけて延びるように配置された、高屈折率の外径が一定の円形ロッドと、該円形ロッドの外周を取り囲む厚みが一定の低屈折率材料とから成るＮ個のガラスファイバとを備える。
【選択図】図１
摘要翻译：提供了可以高效率地光耦合多芯光纤和单模光纤的光连接器。光连接器在低折射率的包层材料中连接：N（N为3〜14的整数）单模纤维，每个单模纤维包括具有高折射率的一个芯; 涉及具有低折射率的包层材料中具有高折射率的N个核的多芯光纤，使得单模光纤的芯分别光耦合到多芯光纤的芯。光连接器包括：石英玻璃圆筒，其具有与多芯光纤接触的第一端面和与单模光纤接触的第二端面; N玻璃纤维，其从所述第一端面延伸到所述第二端面配置在所述石英玻璃圆筒中，所述N根玻璃纤维各自包括具有恒定外径的高折射率的圆棒; 以及围绕圆棒的外周并具有恒定厚度的低折射率材料。

97. 发明专利

JP2014088286A Opaque quartz glass and production method thereof 审中-公开
标题翻译： OPAQUE QUARTZ玻璃及其生产方法
公开(公告)号：JP2014088286A
公开(公告)日：2014-05-15
申请号：JP2012239547
申请日：2012-10-30
申请人： Tosoh Corp , 東ソー株式会社
发明人： OKAZAKI KOJI , YAMADA SHUSUKE , ARAI KAZUYOSHI
IPC分类号： C03B20/00
CPC分类号： C03B19/066
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide high-purity opaque quartz glass having high heat ray shielding effect, and to provide a production method thereof.SOLUTION: High-purity opaque quartz glass is obtained by forming fine high-purity amorphous silicic acid raw material powder and sintering at a prescribed temperature. In the high-purity opaque quartz glass having high chemical purity, containing fine closed cells, having a high cell containing density, and excellent in heat ray shieldability, the average cell diameter is 1-10 μm and the density is 1.98-2.15 g/cm3.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有高热屏蔽效果的高纯度不透明石英玻璃，并提供其制造方法。解决方案：通过形成高纯度无定形硅酸原料粉末获得高纯度不透明石英玻璃并在规定温度下烧结。在具有高纯度的高纯度不透明石英玻璃中，含有细胞密度高，热射线屏蔽性优异的细密封孔，平均泡孔直径为1-10μm，密度为1.98-2.15g / 立方厘米。

98. 发明专利

JP2014043373A Heat treatment method of synthetic quartz glass 有权
标题翻译：合成石英玻璃的热处理方法
公开(公告)号：JP2014043373A
公开(公告)日：2014-03-13
申请号：JP2012186392
申请日：2012-08-27
申请人： Shinetsu Quartz Prod Co Ltd , 信越石英株式会社
发明人： HARADA SHIGEO
IPC分类号： C03B20/00 , C03B25/02 , G02B1/02
CPC分类号： C03B32/00 , C03B19/066 , C03B19/1453 , C03B25/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat treatment method of synthetic quartz glass that can control a direction of a phase advance axis of double refraction of heat-treated synthetic quartz glass by single heat treatment without especially restricting an OH group concentration distribution in a raw material.SOLUTION: Synthetic quartz glass 100 of a cylindrical shape having two bottom faces 101, 102 opposite each other and a side face 103 is covered with heat insulation materials and heat-treated. Bottom face heat insulation materials 21, 22 to cover the two bottom faces 101, 102 and the heat insulation material 23 to cover the side face 103 are each different in at least one of a kind and a thickness and thus have a different insulation effect. A heat treatment method of the synthetic quartz glass 100 is characterized by heat-treating the synthetic quartz glass 100 using these insulation materials and controlling a direction of a phase advance axis of double refraction of the heat-treated synthetic quartz glass 100.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种合成石英玻璃的热处理方法，其可以通过单次热处理来控制热处理的合成石英玻璃的双折射的相位前进轴的方向，而不特别限制原料中的OH基浓度分布材料。解决方案：具有两个彼此相对的底面101,102和圆柱形的合成石英玻璃100被绝热材料覆盖并进行热处理。覆盖侧面103的两个底面101,102和隔热材料23的底面隔热材料21,22分别在种类和厚度中至少一种不同，因此具有不同的绝缘效果。合成石英玻璃100的热处理方法的特征在于，使用这些绝缘材料对合成石英玻璃100进行热处理，并控制热处理的合成石英玻璃100的双折射的相位前进轴的方向。

99. 发明专利

JP5130337B2 Polycrystalline silicon ingot production for square silica container and porous silica plate body, as well as methods for their production 有权
公开(公告)号：JP5130337B2
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：JP2010208948
申请日：2010-09-17
申请人：信越石英株式会社
发明人：茂山形
IPC分类号： C01B33/12 , C01B33/02 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/066 , C03B23/203

100. 发明专利

JPWO2011004852A1 コンポジット成形体及びシリカガラス、並びに、それらの製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2011004852A1
公开(公告)日：2012-12-20
申请号：JP2011521951
申请日：2010-07-07
申请人：国立大学法人九州大学
发明人：藤野　茂 , 茂藤野 , 池田　弘 , 弘池田 , 稲葉　誠二 , 誠二稲葉 , 稔尚梶原 , 稔尚梶原
IPC分类号： C08J5/00 , C03B20/00 , C03C17/09 , C08K3/22 , C08K7/18 , C08L29/04 , C08L101/00
CPC分类号： C03B20/00 , B82Y30/00 , C03B19/066 , C03B19/12 , C03B2201/30 , C03B2201/32 , C03C1/006 , C03C3/06 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2203/30 , C03C2203/36 , C08J5/005 , C08J5/02
摘要：本発明は、シリカナノ粒子と有機高分子とを含み、シリカナノ粒子と有機高分子とが3次元ネットワークを構成しているコンポジット成形体を提供することによって、成形加工性に優れるとともに、例えば、導電性が付与されたシリカガラスの製造にも好適に用いられ得るコンポジット成形体、及び、当該コンポジット成形体を焼成してなるシリカガラス(特に、導電性シリカガラス)を提供するものである。

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