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热词
    • 91. 发明专利
    • LED製造用離型フィルム
    • 脱模膜为LED生产
    • JPWO2014175127A1
    • 2017-02-23
    • JP2015513699
    • 2014-04-16
    • ユニチカ株式会社
    • 一成 南條
    • B32B27/36B32B27/00
    • B32B25/08B32B27/08B32B27/30B32B27/36B32B2274/00B32B2457/00H01L33/56
    • 積層フィルムにコート層が積層された離型フィルムであって、積層フィルムは、両外層がポリブチレンテレフタレート樹脂層(A層)であり、内層にポリエステルエラストマー層(B層)を含み、コート層は、積層フィルムの両外層に配されているA層の少なくとも一方の上に積層され、含フッ素共重合体(C)100質量部と、イソシアネート基を2以上有する架橋剤(D)5〜25質量部とからなる反応生成物を含み、含フッ素共重合体(C)は、フルオロオレフィン、シクロヘキシル基含有アクリル酸エステル、及び水酸基含有ビニルエーテルを構成成分とし、コート厚みが0.1〜0.3μmであることを特徴とするLED製造用離型フィルム。
    • 甲释放涂膜层被层叠在层叠膜中,层叠膜中,两外层为聚对苯二甲酸丁二醇树脂层(A层)包括在所述内层的聚酯弹性体层(B层),涂布层 被层压在层中的至少一个被设置在层叠膜中,共聚物含氟(C)100质量份的两外层,具有两个或更多异氰酸酯基(D)交联剂5〜25重量 包括部件,所述共聚物含氟(C),氟代烯烃的反应产物,丙烯酸酯,环己基的,和含羟基的乙烯基醚和一部件,所述涂层的厚度为0.1〜0.3μm的 释放薄膜LED制造为特征。
    • 92. 发明专利
    • 透明導電体及びその製造方法
    • 透明导体及其制造方法
    • JPWO2014171149A1
    • 2017-02-16
    • JP2015512321
    • 2014-04-18
    • コニカミノルタ株式会社
    • 仁一 粕谷仁一 粕谷一成 多田一成 多田
    • C23C14/06B32B7/02B32B9/00C23C14/08C23C14/14C23C14/48H01B5/14H01B13/00
    • B32B15/04B32B15/20B32B2307/202B32B2307/412B32B2457/00C23C14/06C23C14/34
    • 本発明は、経時での劣化が少なく、光透過性が高く、さらに表面電気抵抗値が十分に低い透明導電体を提供することを課題とする。上記課題を解決するため、本発明は透明基板と、前記透明基板の波長570nmの光の屈折率より高い屈折率を有する誘電性材料または酸化物半導体材料を含む高屈折率層と、厚みが5nm〜15nmである透明金属膜と、誘電性材料または酸化物半導体材料を含む中間層と、誘電性材料または酸化物半導体材料を含み、かつ前記中間層よりパッキングデンシティが高いバリア層とをこの順に含む透明導電体であり、前記中間層及び前記バリア層の少なくとも一方が、前記透明基板の波長570nmの光の屈折率より高い屈折率を有する誘電性材料または酸化物半導体材料を含み、波長450nm〜800nmの光の平均透過率が50%以上である、透明導電体とする。
    • 本发明中,随时间的劣化小,光学透明性高,进一步的表面电阻,并且提供足够低的透明导体。 为了解决上述问题,本发明是一种透明基板,其包含介电材料或具有比所述透明基板的波长570nm处的光的折射率高的折射率的氧化物半导体材料,在5nm厚度的高折射率层 透明金属膜是〜15nm的,包括电介质材料或氧化物半导体材料的中间层包括介电材料或氧化物半导体材料,和包括所述的填充密度大于在该顺序中间层的高势垒层 透明导体,所述中间层中的至少一个,并且所述阻挡层包括介电材料或具有折射率比所述透明基板的波长570nm处的光的折射率高的氧化物半导体材料,波长450nm处〜800nm的 的平均透光率是50%以上时,透明导体。
    • 93. 发明专利
    • 両面粘着シート
    • 双面压敏粘合片
    • JPWO2014157445A1
    • 2017-02-16
    • JP2015508650
    • 2014-03-27
    • リンテック株式会社
    • 敦史 黒川敦史 黒川雅康 加茂雅康 加茂
    • C09J7/00C09J133/04
    • C09J133/06B32B7/06B32B7/12B32B27/08B32B27/308B32B27/36B32B2307/748B32B2405/00B32B2457/00C09J7/10C09J7/403C09J2201/134C09J2201/622C09J2203/326
    • 本発明の両面粘着シートは、第1の面と第2の面とを備える粘着剤層と、前記粘着剤層の前記第1の面に貼着された第1の剥離フィルムと、前記粘着剤層の前記第2の面に貼着された第2の剥離フィルムと、を有し、前記第2の剥離フィルムの前記粘着剤層からの剥離力は、前記第1の剥離フィルムの前記粘着剤層からの剥離力よりも小さく、前記第1の剥離フィルムおよび前記第2の剥離フィルムの前記粘着剤層と接する面とは反対側の面の算術平均粗さRaが5〜35nmであり、かつ、その最大突起高さRpが50〜400nmであることを特徴とする。これにより、両面粘着シートをロール状に巻き取って保管した際に、粘着剤層表面に複数の微小の凹凸が発生するのを防止することができる。
    • 本发明的双面压敏粘合片,粘合剂层和具有第一表面和第二表面,所述第一和释放膜粘附的压敏粘合剂层的第一表面上,所述压敏粘合剂 和粘附到所述层的第二表面的第二剥离膜,从第二脱模膜的压敏粘合剂层的剥离强度,所述第一剥离膜的粘接剂 大于从层的剥离力小,第一脱模膜和第二算术平均表面相对与所述剥离膜的表面接触的粘合剂层的表面粗糙度Ra为5〜35nm的,以及 其最大突起高Rp的特征在于,它是一个50至400nm。 因此,当所存储的伤口双面压敏粘合片以卷,可以防止多个小的压敏粘合剂层表面的不平整。
    • 94. 发明专利
    • 電子デバイス
    • 电子设备
    • JPWO2014141330A1
    • 2017-02-16
    • JP2015505079
    • 2013-08-20
    • パナソニック株式会社
    • 吉田 秀樹秀樹 吉田洋 日比野洋 日比野
    • H05B33/04B32B27/06H01L51/50H05B33/02
    • H01L51/5259B32B27/08B32B27/18B32B2264/102B32B2264/105B32B2457/00B32B2457/20
    • 本技術によるフレキシブルEL表示装置などの電子デバイスは、無機材料からなる無機膜(22)と高分子材料からなる高分子膜(23)とを積層した第1のバリア膜(24)と、無機材料からなる無機膜(27)と高分子材料からなる高分子膜(28)とを積層した第2のバリア膜(29)とを有している。第1のバリア膜(24)と第2のバリア膜(29)とにより薄膜トランジスタアレイ装置(25)と発光部(26)とを封止した構成を備えている。高分子膜(23)、(28)は、高分子材料中に、シリカ系粒子、Fe系粒子、モンモリロナイト粒子、シリカコート粒子、ゼオライト粒子の中から選ばれる少なくとも1種類のナノ微粒子を含む材料により構成している。
    • 根据本技术,通过由无机材料制成的(23)由聚合材料制成和(24)的无机膜和(22)的聚合物薄膜层合而成的第一阻挡膜,无机材料的电子设备,诸如柔性EL显示器件 它的无机薄膜(27)由聚合物材料制成的聚合物膜(28)而制成的层压层(29)的第二阻挡膜。 它有密封所述薄膜晶体管阵列装置(25)和通过第一势垒层(24)和所述第二阻挡层(29)的发光部(26)的结构。 聚合物膜(23),(28),在聚合物材料中,所述基于二氧化硅的颗粒,铁基颗粒,蒙脱石颗粒,二氧化硅涂覆的颗粒,含有至少一种从沸石颗粒中选择的纳米颗粒的材料的 它被配置。