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91. 发明专利

JPS61296300A METHOD OF TREATING RADIOACTIVE SPENT RESIN 失效
公开(公告)号：JPS61296300A
公开(公告)日：1986-12-27
申请号：JP13774385
申请日：1985-06-26
申请人： HITACHI LTD
发明人： TAMADA SHIN , KIKUCHI JUN , MORI KAZUHIDE
IPC分类号： G21F9/30 , G21F9/00 , G21F9/12 , G21F9/32

92. 发明专利

JPS61240199A METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING RADIOACTIVE WASTE SOLIDIFIED BODY 失效
公开(公告)号：JPS61240199A
公开(公告)日：1986-10-25
申请号：JP8020085
申请日：1985-04-17
申请人： HITACHI LTD
发明人： IZUMIDA TATSUO , YUSA HIDEO , FUNABASHI KIYOMI , KIKUCHI JUN , TAMADA SHIN
IPC分类号： G21F9/00 , G21F9/12 , G21F9/16 , G21F9/30

93. 发明专利

JPS61176893A METHOD OF SOLIDIFYING RADIOACTIVE CONTAMINATED ORGANIC LIQUID WASTE 失效
公开(公告)号：JPS61176893A
公开(公告)日：1986-08-08
申请号：JP1836885
申请日：1985-02-01
申请人： HITACHI LTD
发明人： TSUCHIYA HIROYUKI , KIKUCHI JUN , TAMADA SHIN , MIZUNO HIROKO
IPC分类号： G21F9/12 , G21F9/00 , G21F9/16

94. 发明专利

JPS60183597A SOLIDIFYING TREATING FACILITY FOR RADIOACTIVE WASTE 失效
公开(公告)号：JPS60183597A
公开(公告)日：1985-09-19
申请号：JP3857184
申请日：1984-03-02
申请人： HITACHI LTD
发明人： KADOTA KEIJI , TAMADA SHIN , MIZUNO HIROKO , KIKUCHI JIYUN
IPC分类号： G21F9/16 , G21F9/28

95. 发明专利

JPS60166898A METHOD AND DEVICE FOR SOLIDIFYING AND TREATING RADIOACTIVE WASTE 失效
公开(公告)号：JPS60166898A
公开(公告)日：1985-08-30
申请号：JP2243384
申请日：1984-02-09
申请人： HITACHI LTD
发明人： MORI KAZUHIDE , TAMADA SHIN , KIKUCHI JIYUN
IPC分类号： G21F9/16 , G21F9/00 , G21F9/06 , G21F9/30

96. 发明专利

JPS60128400A RADIOACTIVE WASTE SOLIDIFIED BODY AND MANUFACTURE THEREOF 失效
公开(公告)号：JPS60128400A
公开(公告)日：1985-07-09
申请号：JP23628483
申请日：1983-12-16
申请人： HITACHI LTD
发明人： UETAKE NAOTO , KAWAMURA FUMIO , YUSA HIDEO , KIKUCHI JIYUN , TAMADA SHIN
IPC分类号： G21F9/00 , G21F9/16 , G21F9/30

97. 发明专利

JPS58213300A Method of processing radioactive waste 失效
公开(公告)号：JPS58213300A
公开(公告)日：1983-12-12
申请号：JP9658582
申请日：1982-06-04
申请人： Hitachi Ltd
发明人： HORIUCHI SUSUMU , TAMADA SHIN
IPC分类号： G21F9/08 , G21F9/00 , G21F9/16 , G21F9/30
CPC分类号： G21F9/302

98. 发明专利

JPS58169000A SOLIDIFICATION OF RADIOACTIVE WASTE 失效
公开(公告)号：JPS58169000A
公开(公告)日：1983-10-05
申请号：JP5109182
申请日：1982-03-31
申请人： HITACHI LTD
发明人： TAMADA SHIN , HORIUCHI SUSUMU
IPC分类号： G21F9/30 , G21F9/00

99. 发明专利

JP2006263577A Treatment apparatus of halogen compound 有权
标题翻译：卤素化合物治疗装置
公开(公告)号：JP2006263577A
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：JP2005085178
申请日：2005-03-24
申请人： Hitachi Ltd , 株式会社日立製作所
发明人： SUGANO SHUICHI , TAMADA SHIN , SASAKI TAKASHI
IPC分类号： B01D53/86 , B01D47/06 , B01D53/68 , B01D53/77
CPC分类号： Y02C20/30
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an apparatus, which treats a halogen compound by using a catalyst, to perform a process for exchanging the catalyst in a short time. SOLUTION: The treatment apparatus of the halogen compound is provided with: a preheater in which a gas to be treated containing the halogen compound is heated to a prescribed reaction temperature; a reactor in which incorporating the catalyst for decomposing the halogen compound incorporated in the heated gas is decomposed; and a cooler in which a decomposed gas discharged from the reactor is cooled, and is characterized in that the preheater is provided with a cooling water atomizing device therein. Cooling water is atomized in a preheating tub in the preceding stage of a reaction tower filled with the catalyst and the temperature decline of the preheater and the reactor filled with the catalyst is accelerated. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了使能通过使用催化剂处理卤素化合物的装置能够在短时间内进行交换催化剂的方法。解决方案：卤素化合物的处理装置设有：预热器，其中将含有卤素化合物的待处理气体加热到规定的反应温度; 其中并入用于分解掺入加热气体中的卤素化合物的催化剂的反应器被分解; 以及将从反应器排出的分解气体冷却的冷却器，其特征在于，所述预热器在其内设有冷却水雾化装置。冷却水在填充有催化剂的反应塔的前段中的预热槽中雾化，并且预热器的温度下降，并且填充有催化剂的反应器被加速。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

100. 发明专利

JP2006075743A Exhaust gas decomposition processor 有权
标题翻译：排气分解处理器
公开(公告)号：JP2006075743A
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：JP2004263207
申请日：2004-09-10
申请人： Hitachi Ltd , 株式会社日立製作所
发明人： SASAKI TAKASHI , SUGANO SHUICHI , TAMADA SHIN
IPC分类号： B01D53/70 , B01D47/06 , B01D53/68 , B01D53/77
CPC分类号： B01D53/8662 , B01D53/68 , B01D53/8659 , Y02C20/30
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the amount of water used in current methods of removing a large amount of silicon compounds from the PFC-containing tail gas incoming into a catalytic PFC decomposition apparatus by the use of a wet removal apparatus in a stage preceding to the reactor, which methods usually require a large amount of water. SOLUTION: An equipment for decomposing the exhaust gas has a wet removing apparatus for removing solids contained in the gas to be treated, a preheater heating the gas to be treated and a reactor decomposing the gas to be treated. The wet removing apparatus has two or more spray nozzles, including an upstream mist-forming spray nozzle and a downstream water-film-forming spray nozzle. Other spray nozzles are arranged within the wet removing apparatus so as to bring sprayed water efficiently into contact with the gas to be treated containing the silicon compounds. Mist containing the silicon compounds produced in reaction with water is prevented from flowing into the reactor having a catalyst layer. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了减少在通过使用湿式除去装置进入催化PFC分解装置的从含PFC的尾气中除去大量硅化合物的现有方法中使用的水量反应器之前的阶段，哪些方法通常需要大量的水。解决方案：用于分解废气的设备具有用于除去待处理气体中所含的固体的湿式除去装置，加热待处理气体的预热器和分解待处理气体的反应器。湿式去除装置具有两个以上的喷嘴，包括上游雾化喷雾喷嘴和下游的成膜喷嘴。湿式去除装置内设有其他喷嘴，以使喷雾水与含硅化合物的待处理气体有效接触。防止含有与水反应生成的硅化合物的雾化流入具有催化剂层的反应器中。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

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