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1. 发明专利

JPWO2016076239A1 型の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2016076239A1
公开(公告)日：2017-08-17
申请号：JP2016559027
申请日：2015-11-06
申请人：シャープ株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：信明山田 , 信明山田 , 箕浦　潔 , 潔箕浦 , 美穂山田 , 美穂山田 , 林　秀和 , 秀和林 , 佐藤　孝 , 孝佐藤 , 浩幸菅原 , 浩幸菅原
IPC分类号： C25D11/24 , C23C28/00 , C25D11/00 , C25D11/04 , C25D11/12 , C25D11/16
CPC分类号： C25D11/12 , C25D11/24 , G02B1/118
摘要：表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが10nm以上500nm未満の複数の凹部(14p)を表面に有する型(100)の製造方法は、型基材(10A)、(10B)を用意する工程(a)と、アルミニウム合金層(18)を部分的に陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層(14)を形成する工程(b)と、工程(b)の後に、ポーラスアルミナ層を第1のエッチング液に接触させることによって、ポーラスアルミナ層の複数の微細な凹部を拡大させる工程(c)とを包含する。型基材を用意する工程(a)は、金属基材(12)を用意する工程(a1)と、金属基材の上にアルミニウム合金層を形成する工程(a2)と、アルミニウム合金層の上に表面保護層(20)を形成する工程(a3)とを包含する。工程(a2)および工程(a3)は同一のチャンバー90内で行われる。

2. 发明专利

JPWO2013183576A1 型基材、型基材の製造方法、型の製造方法および型有权
标题翻译：模座，一种制造模具的碱，模具的制造方法的一种方法和类型的
公开(公告)号：JPWO2013183576A1
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：JP2014519975
申请日：2013-06-03
申请人：シャープ株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：彰信石動 , 彰信石動 , 箕浦　潔 , 潔箕浦 , 浩幸菅原 , 浩幸菅原
IPC分类号： C25D11/04 , C23C28/00
CPC分类号： B29C33/3814 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29C33/56 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29K2505/02 , B29K2905/02 , B29L2031/757 , C23C14/0617 , C23C14/083 , C23C14/185 , C23C14/5853 , C23C14/5873 , C25D11/12 , C25D11/18 , G02B1/118
摘要：実施形態の型基材(10)は、ポーラスアルミナ層(20)を表面に有する型(100)の製造に用いられる型基材(10)であって、基材(72m)と、基材(72m)上に形成されたアルミニウム合金層(18)とを有し、アルミニウム合金層(18)は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素と、窒素とを含む。本発明による実施形態の型基材(10)が有するアルミニウム合金層(18)は、高い鏡面性を有する。
摘要翻译：型基板的实施例（10）是在表面（10）在模具（100），其具有多孔氧化铝层（20）的制造中使用的模具基材，基材和（72米），底物（上形成的（1872米）铝合金层），铝合金层（18）包括铝，和非铝金属元素和氮。根据具有本发明（10）（18）的铝合金层型衬底的实施例具有高镜面反射率。

3. 发明专利

JP5615971B2 型の製造方法有权
标题翻译：制造的类型的方法
公开(公告)号：JP5615971B2
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：JP2013508832
申请日：2012-03-29
申请人：シャープ株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：彰信石動 , 彰信石動 , 箕浦　潔 , 潔箕浦 , 浩幸菅原 , 浩幸菅原
IPC分类号： C25D11/04 , B29C33/38 , B29C59/02 , C25D11/12 , C25D11/24
CPC分类号： C25D11/12 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , C25D1/10 , C25D11/04 , C25D11/045 , C25D11/24 , G02B1/118

4. 发明专利

JPWO2012137664A1 型の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2012137664A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013508832
申请日：2012-03-29
申请人：シャープ株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：彰信石動 , 彰信石動 , 箕浦　潔 , 潔箕浦 , 浩幸菅原 , 浩幸菅原
IPC分类号： C25D11/04 , C25D11/16 , C25D11/24
CPC分类号： C25D11/12 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , C25D1/10 , C25D11/04 , C25D11/045 , C25D11/24 , G02B1/118
摘要：本発明による実施形態のモスアイ用型(100)の製造方法は、金属基材(72m)と、金属基材(72m)上に形成された有機絶縁層(13)と、有機絶縁層(13)上に形成されたアルミニウム合金層(18)とを有する型基材(10)であって、アルミニウム合金層(18)は、アルミニウムと、アルミニウム以外の金属元素Mとを含み、金属元素Mの標準電極電位とアルミニウムの標準電極電位との差の絶対値が0.64V以下であり、アルミニウム合金層(18)中の金属元素Mの含有率は10質量%を超えない、型基材(10)を用いる。

5. 发明专利

JP5213694B2 Transparent panel body and the touch panel 有权
公开(公告)号：JP5213694B2
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：JP2008332511
申请日：2008-12-26
申请人： Smk株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：尚美中山 , 努井上 , 龍司池田 , 量岡村 , 浩幸菅原
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044

6. 发明专利

JP5588466B2 Touch panel of the wiring structure 有权
公开(公告)号：JP5588466B2
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：JP2012005913
申请日：2012-01-16
申请人： Smk株式会社 , ジオマテック株式会社
发明人：尚美中山 , 信也岩脇 , 浩幸菅原
IPC分类号： G06F3/041

7. 发明专利

JPWO2010150668A1 静電容量型入力装置及びその製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2010150668A1
公开(公告)日：2012-12-10
申请号：JP2011519751
申请日：2010-06-11
申请人：ジオマテック株式会社
发明人：浩幸菅原 , 浩幸菅原
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044
CPC分类号： G06F3/044
摘要：【課題】透明性が高く、且つ消費電力が小さい静電容量型入力装置を提供する。【解決手段】入力部と、出力部とを透明基板の同一面上に備えた静電容量型入力装置であって、出力部は、信号を出力する接続端子と、入力部と接続端子とを電気的に接続する配線パターンとを有する。入力部は、第1方向に隣り合って配設される複数の第1透明導電膜と、第1透明導電膜を電気的に接続する導電部材とで構成される複数の第1の電極パターンを有し、また、第1方向と交差する第2方向に隣り合って配設される複数の第2透明導電膜と、第1の電極パターンの導電部材と交差する位置に配設される接続部とで構成される第2の電極パターンを有する。導電部材と接続端子と配線パターンとは同一の導電体膜によって形成され、導電体膜は、金属層の単層又は少なくとも1層以上の金属層を含む複層によって構成され、導電部材は、線状に形成されている。

8. 发明专利

JP4971618B2 Display electrode pattern production method 有权
公开(公告)号：JP4971618B2
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：JP2005287977
申请日：2005-09-30
申请人：ジオマテック株式会社
发明人：育男小野寺 , 浩幸菅原
IPC分类号： G09F9/30 , B32B7/02 , G02F1/1343 , H01B5/14 , H01B13/00 , H01L51/50 , H05B33/28

9. 发明专利

JP4005622B1 Photomask substrate and a photo-mask and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP4005622B1
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：JP2006325942
申请日：2006-12-01
申请人：ジオマテック株式会社
发明人：浩幸菅原
IPC分类号： C23F1/00 , C23F1/26 , C23F1/38 , G03F1/54
摘要：【課題】湿式エッチングにより微細なパターンを高精度に形成可能なフォトマスク用基板及びフォトマスク並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１０と、半透過性を有する半透過層２０と、半透過層２０上に形成され照射光を実質的に遮光する遮光層３３と、を備えたフォトマスク用基板２であって、半透過層２０は、遮光層３３よりもエッチング液Ａに対して不溶性又は難溶性であり、エッチング液Ｂに対して易溶性である窒化チタン（ＴｉＮ
ｘ：ここで０＜ｘ＜１．３３）で形成される。一方、遮光層３３は、半透過層２０よりもエッチング液Ａに対して易溶性であり、エッチング液Ｂに対して不溶性又は難溶性の金属クロム（Ｃｒ）で形成される。エッチング液に対する各層のエッチング耐性が異なるため、他の層に損傷を与えることなく半透過層２０と遮光層３３を選択的にエッチングすることが可能となる。
【選択図】図１

10. 发明专利

JP5503651B2 Capacitive input device and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP5503651B2
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：JP2011519751
申请日：2010-06-11
申请人：ジオマテック株式会社
发明人：浩幸菅原
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044
CPC分类号： G06F3/044

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