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    • 기판 처리 장치가 개시된다. 기판 처리 장치는 기판이 출입하는 출입구가 형성된 제1측벽, 상기 제1측벽과 마주하는 제2측벽, 상기 제1 및 제2측벽과 수직하게 배치되며 제1개구가 형성된 제3측벽, 상기 제3측벽과 마주하며 제2개구가 형성된 제4측벽을 갖는 바디와, 상기 바디의 개방된 상면을 개폐하는 커버를 갖는 진공 챔버; 상기 진공 챔버의 내부를 감압하는 감압 부재; 상기 진공 챔버 내부에 위치하며, 기판을 지지하는 기판 지지 부재; 상기 기판 지지 부재의 상부에 위치하며, 기판을 가열하는 히터; 및 상기 기판 지지 부재의 하부에 위치하며, 광을 조사하는 광 조사 부재를 포함하되, 상기 광 조사 부재는 상기 제3측벽과 결합하여 상기 제1개구를 밀폐하며, 제1램프 장착 홀들이 형성된 제1램프 장착 플레이트; 상기 제4측벽과 결합하여 상기 제2개구를 밀폐하며, 제2램프 장착 홀들이 형성된 제2램프 장착 플레이트; 일단이 상기 제1램프 장착 홀들에 삽입되고, 타단이 상기 제2램프 장착 홀들에 삽입되며, 상기 광을 조사하는 복수 개의 램프 모듈을 포함한다.