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1. 发明公开

EP0085536A3 Primed surface and charge transfer media and process of making 有权
标题翻译：底漆表面和电荷转移介质和制作过程
公开(公告)号：EP0085536A3
公开(公告)日：1983-08-31
申请号：EP83300404
申请日：1983-01-26
申请人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
发明人： Hendrickson, William A. , Chou, Hsin-hsin , Sherman, Dudley M. , Kolpe, Vasant V.
IPC分类号： G03G05/05 , G03G05/02 , C23C13/00
CPC分类号： C23C14/02 , G03G5/0217 , G03G5/0507
摘要： An article having a primed surface or improved electric charge transfer properties is disclosed. The surface has discrete sites of inorganic materials thereon. A process for forming the article is also disclosed.
摘要翻译：公开了具有涂底漆表面或改善的电荷转移性质的制品。表面在其上具有离散的无机材料部位。还公开了形成制品的过程。

2. 发明授权

EP0007224B1 Heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure 有权
标题翻译：热反射或电导电层压结构
公开(公告)号：EP0007224B1
公开(公告)日：1982-07-21
申请号：EP79301349.1
申请日：1979-07-10
申请人： TEIJIN LIMITED
发明人： Yatabe, Toshiaki , Sobajima, Shigenobu , Sugiyama, Ikuto
IPC分类号： C03C17/36 , C23C13/00 , G02B5/26 , G03G5/10 , F24J3/02
CPC分类号： C03C17/3607 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3628 , C03C17/3644 , C03C17/3647 , C03C17/3655 , C03C17/3681 , F24S80/52 , G02B5/208 , Y02B10/20 , Y02E10/40 , Y10T428/24967 , Y10T428/261
摘要： There is described a heat wave-reflective or electrically conductive laminated structure composed of… (A) a shaped solid substrate,… (B) a transparent thin layer having a high refractive index in contact with said substrate (A),… (C) a transparent heat wave-reflective layer of an electrically conductive metal in contact with said layer (B), and… (D) optionally, a tranparent thin layer having a high refractive index (D min ) in contact with said layer (C) and a transparent top layer (D sec ) in contact with said transparent thin layer (D min );… in which the layer (C) is a layer composed of Ag and Au in which the amount of Au is 3 to 30% by weight based on the total weight of Ag and Au.

3. 发明公开

EP0017360A3 Method of pretreating a substrate, method and apparatus for pretreating a substrate and depositing a thin metallic film thereon, and optical recording medium produced thereby 无效
标题翻译：预处理基板的方法，用于预处理基板和沉积薄金属薄膜的方法和装置以及生产的光学记录介质
公开(公告)号：EP0017360A3
公开(公告)日：1980-10-29
申请号：EP80300764
申请日：1980-03-12
申请人： XEROX CORPORATION
发明人： Connell, Neville G A , Johnson, Richard I
IPC分类号： C23C15/00 , C23C13/00 , G11B07/24
CPC分类号： G11B7/266 , C23C14/022 , G11B7/252 , G11B7/253 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B2007/24316
摘要： Deposition of continuous pin-hole free tellurium films with thicknesses to less than 150A on a suitable substrate is achieved by first pretreating the substrate prior to film deposition, Ion sputtering or bombardment of the substrate surface with an inert gas prior to tellurium evaporation creates a dense coverage of nucleation sites on the substrate which improves the adhesiveness and resistance to abrasion and oxidation of the deposited film while providing very thin pin-hole free films of uniform thickness and desired crystallite orientation.

4. 发明授权

EP0028604B1 REFLEXMINDERUNGS-SCHICHT AUF HOCHREFLEKTIERENDEN OBERFLÄCHEN 失效
标题翻译：具有高反射能力的表面上的抗反射涂层
公开(公告)号：EP0028604B1
公开(公告)日：1984-07-04
申请号：EP80900488.0
申请日：1980-03-17
申请人： ERNST LEITZ WETZLAR GMBH
发明人： LUDWIG, Roland
IPC分类号： G02B1/10 , C23C13/00 , C23C15/00
CPC分类号： G02B1/115
摘要： An anti-reflection (3) between a first medium (E) and a high reflection power layer of which the refraction indices (n1 and n2) are equal or approximately equal. The anti-reflection coating which retains any radiation having penetrated the first medium (E) is comprised of two layers of the same composition than the entrance medium and the reflecting layer, for example germanium and chromium, respectively. The anti-reflection coating (3) is provided by vaporisation and deposit of the appropriate material under high vacuum conditions, by controlling the thickness of the layers during the deposit by means of an oscillating quartz.

5. 发明公开

EP0064542A4 IMPROVED INTERDISPERSED PHASE COATINGS METHOD. 失效
标题翻译：涂层相间涂层工艺。
公开(公告)号：EP0064542A4
公开(公告)日：1983-11-21
申请号：EP81903194
申请日：1981-11-17
申请人： TURBINE METAL TECHNOLOGY INC
发明人： SIEVERS GEORGE KELLY
IPC分类号： F01D5/28 , C23C10/28 , C23C10/52 , C23C12/02 , C23C11/00 , B05D1/36 , B05D3/02 , B05D7/00 , C23C13/00
CPC分类号： C23C10/52 , C23C10/28 , C23C12/02

6. 发明公开

EP0082588A3 Photolithographic elements for the production of metal images 失效
标题翻译：用于生产金属图像的光刻元件
公开(公告)号：EP0082588A3
公开(公告)日：1983-10-26
申请号：EP82305716
申请日：1982-10-27
申请人： KONISHIROKU PHOTO INDUSTRY CO. LTD.
发明人： Sasa, Nobumasa , Sato, Yuzuru , Ohta, Tatsuo , Shindo, Masanari
IPC分类号： G03F01/00 , C23C13/00
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/24 , G03F1/68 , Y10S430/136
摘要： A metal image forming material having a thin metal layer which can be etched in short period to provide a sharp image without a strong etchant comprises a support (3) at least one metal layer and an overlying light sensitive layer. Said metal layer is formed by vapor-depositing a metal on the support at an angle 6 with respect to the surface of the support.
摘要翻译：公开了一种金属成像材料，其中可以在短时间内蚀刻薄金属层以提供没有强蚀刻剂的清晰图像。所述金属成像材料包括支撑体，至少一个金属层和覆盖的光敏层。所述金属层通过相对于载体表面以一定角度气相沉积在载体上而形成。

7. 发明公开

EP0082588A2 Photolithographic elements for the production of metal images 失效
标题翻译： Photolithographische Elemente zur Herstellung von Metallbildern。
公开(公告)号：EP0082588A2
公开(公告)日：1983-06-29
申请号：EP82305716.1
申请日：1982-10-27
申请人： KONICA CORPORATION
发明人： Sasa, Nobumasa , Sato, Yuzuru , Ohta, Tatsuo , Shindo, Masanari
IPC分类号： G03F1/00 , C23C13/00
CPC分类号： C23C14/225 , C23C14/24 , G03F1/68 , Y10S430/136
摘要： A metal image forming material having a thin metal layer which can be etched in short period to provide a sharp image without a strong etchant comprises a support (3) at least one metal layer and an overlying light sensitive layer. Said metal layer is formed by vapor-depositing a metal on the support at an angle 6 with respect to the surface of the support.
摘要翻译：公开了一种金属成像材料，其中可以在短时间内蚀刻薄金属层以提供没有强蚀刻剂的清晰图像。所述金属成像材料包括支撑体，至少一个金属层和覆盖的光敏层。所述金属层通过相对于载体表面以一定角度气相沉积在载体上而形成。

8. 发明公开

EP0064288A1 Method and apparatus for the production and utilization of activated molecular beams 失效
标题翻译：用于生产和使用激活的分子束的方法和装置。
公开(公告)号：EP0064288A1
公开(公告)日：1982-11-10
申请号：EP82103729.8
申请日：1982-04-30
申请人： OPTICAL COATING LABORATORY, INC.
发明人： Van Cakenberghe, Jean L.
IPC分类号： C23C11/00 , C23C13/00 , C23C15/00 , H01J27/08 , H01J27/16 , H05H1/26 , H05H3/02
CPC分类号： H01J37/32431 , B23K9/23 , B23K10/02 , C23C14/28 , C23C14/32 , C23C16/513 , H01J27/02
摘要： Apparatus and method for producing an activated gas plasma in an evacuated working chamber (10). A substantially closed source chamber (20) is mounted adjacent one wall (11) of a working chamber (10) and has a small aperture nozzle (22) extenting through the wall (11) to communicate . gas between the source chamber (20) and the working chamber (10). A.selected gas is supplied to the source chamber (20) at a pressure substantially greater than the pressure in the working chamber (10) to produce a high velocity stream of gas entering the working chamber (10) through the nozzle (22). The selected gas is activated in the source chamber (20) before exiting through the nozzle (22) so that a high velocity stream of activated gas molecules is produced. An anode (12) is positioned within the working chamber (10) to produce a continuous gas discharge in the activated gas plasma. Various exemplary applications for enchancing chemical reactions within the working chamber (10) are discussed. In one version of the invention an elongated magnetic field is used to confine the plasma stream to a narrow beam and an anode is provided for producing a sustained gas discharge in the confined plasma stream. Further magnetic field arrangements (160, 170) are provided to configure and/or direct the plasma beam to impinge on one or more work pieces, evaporation source, or substrates.
摘要翻译：光合金制品，其包括具有复合纤维/轻质合金层，喷涂耐热合金层，并且在该序列表现出改进的耐热性和绝缘形成在主体上的喷涂陶瓷基材层和轻合金的主体是非常有用制造内燃机活塞的。因此提供了一种生产寻求通过喷雾涂布的轻合金制品的方法。

9. 发明授权

EP0002738B1 Verfahren zum Aufbringen einer Materialschicht auf eine Oberfläche eines plattenförmigen Werkstücks mittels eines Laserstrahls 失效
标题翻译：通过激光束将材料层施加到板材工件的表面的方法
公开(公告)号：EP0002738B1
公开(公告)日：1981-09-02
申请号：EP78101690.2
申请日：1978-12-15
申请人： International Business Machines Corporation
发明人： Drew, Roland Francis , Schmidt, Frank John, jr. , Vanduynhoven, Thomas Jerome
IPC分类号： C23C13/00 , C03C17/09
CPC分类号： H05K3/046 , C03C17/09 , C03C2218/15 , C23C14/048 , C23C14/28

10. 发明公开

EP0008634A1 Verfahren zum Auflagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück und Vorrichtung zur Durchführung desselben 有权转让
标题翻译：一种用于在导电工件和装置用于执行支持相同的金属或合金层的方法。
公开(公告)号：EP0008634A1
公开(公告)日：1980-03-19
申请号：EP79102348.4
申请日：1979-07-09
申请人： Kieferle, Wolfgang
发明人： Kieferle, Wolfgang , Wäschle, Franz
IPC分类号： C23C13/00 , C23C15/00
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/22 , C23C14/325
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Auflagern einer Metall- oder Legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes Werkstück mittels einer Glimmentladung, wozu das Werkstück (21) als die eine Elektrode eines elektrischen Feldes in einer mit Trägergas beschickten Unterdruckkammer (3) geschaltet ist, wobei das Trägergas und das Spendermedium vorionisiert werden und im ionisierten Zustand in das elektrische Feld der Unterdruckkammer überführt werden, dazu wird eine Bogenentladung zum explosionsartigen Abspattern von Spendermedium unter Zuhilfenahme eines in Turbulenz versetzten Trägergases herangezogen und diese Bogenentladung einer Glimmentladung überlagert und unter Ausnutzung des Kathodenfalls den vorionisierten Metallionen des als eine Elektrode geschalteten Spendermediums zusätzlich Energie zuführt, diese Metallionen mit hoher Geschwindigkeit in das als die andere Elektrode geschaltete Werkstück ein- und oder auflagert, zunächst wird dabei das Trägergas in Turbulenz versetzt und bei seinem Weg zur Unterdruckkammer über die Oberfläche des Spendermediums strömt und dort Elektronen ablöst und ionisiert.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于通过辉光放电的装置上的导电工件支承的金属或合金层，为此目的，该工件（21），其在加载与载气的低压室（3）的电场的一个电极连接，其中，所述载气和供体介质被预电离，并在电离状态被转移到真空室中的电场，以用于供体介质的爆炸状Abspattern电弧放电使用具有的湍流载气中偏移助剂和叠加辉光放电的并与阴极的利用该电弧放电如果的作为预电离的金属离子连接另外的供体介质中的电极提供电力，在切换为另一电极工件以高速单 - 这些金属离子，或auflagert第一壳体在所述载气引入湍流VE rsetzt并流的道路上通过的供体介质的表面的真空室和有分离的电子和离子化的。

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