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1. 发明授权

EP2568276B1 Plasma emission transfer and modification device 有权
标题翻译：等离子体发射转移和修改装置
公开(公告)号：EP2568276B1
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：EP11007215.4
申请日：2011-09-06
申请人： Spectro Analytical Instruments GmbH
发明人： Ardelt, Dirk , Sickelmann, Klaus , Ivanov, Petar Slavov
IPC分类号： G01N21/68
CPC分类号： G01N21/68

2. 发明授权

EP1864555B1 A PLASMA SPECTROSCOPY SYSTEM WITH A GAS SUPPLY 有权
标题翻译：与燃气供应等离子光谱系统
公开(公告)号：EP1864555B1
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：EP06721305.8
申请日：2006-03-31
申请人： Agilent Technologies Australia (M) Pty Ltd
发明人： HAMMER, Michael, Ron
IPC分类号： H05H1/30 , G01N21/73 , H01J49/10
CPC分类号： H01J49/105 , G01N21/68 , G01N21/73 , H05H1/30

3. 发明公开

EP2434275A1 Procédé de mesure par spectrométrie de décharge luminescente d'un échantillon solide organique ou polymère 有权
标题翻译：一种用于测量有机固体样品或辉光放电法是指Poymerfeststoffprobe
公开(公告)号：EP2434275A1
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：EP11306147.7
申请日：2011-09-14
申请人： Horiba Jobin Yvon S.A.S.
发明人： Chapon, Patrick , Tempez, Agnès , Olivero, Célia , Nakamura, Tatsuhito , Nakamura, Hiroko , Fujimoto, Akira
IPC分类号： G01N21/67 , G01N21/68
CPC分类号： G01N21/68
摘要： La présente invention concerne un procédé de mesure par spectrométrie de décharge luminescente d'un échantillon solide comprenant au moins une couche (13) de matériau organique, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on place ledit échantillon dans une lampe à décharge luminescente ; on injecte dans la lampe (2) à décharge un mélange gazeux comprenant au moins un gaz rare et de l'oxygène gazeux, la concentration en oxygène gazeux étant comprise entre 1% et 10% massique du mélange gazeux ; on applique une décharge électrique de type radiofréquence aux électrodes de ladite lampe à décharge pour générer un plasma de décharge luminescente ; on expose ladite couche de matériau organique audit plasma ; on mesure au moyen d'un spectromètre (4) au moins un signal représentatif d'une espèce ionisée et/ou d'une espèce excitée dudit plasma.

4. 发明公开

EP2343728A2 Verfahren und Vorrichtung zur Auswertung des von einem Plasma emilierten Lichtes zur Regelung von plasmagestützten Prozessen 审中-公开
标题翻译：用于从等离子光评估emilierten用于基于等离子体的过程的调节方法和装置
公开(公告)号：EP2343728A2
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：EP10015795.7
申请日：2010-12-17
申请人： DTF Technology GmbH
发明人： Liepack, Harald, dr. , Gebel, Thoralf, Dr. , Krug, Mario , Galonska, Bernd
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/0042 , G01N21/68 , H01J37/32935 , H01J37/32972
摘要： Bei der Auswertung des von einem Plasma emittierten Lichtes in verschiedenen schmalbandigen Wellenlängenbereichen aus einem örtlichen Plasmabereich und eine damit gekoppelte schnelle Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen ergeben sich folgende Probleme:
- Verwendung eines sehr kostenintensiven akusto-optischen Spektrometers oder
- zu geringe Geschwindigkeit bei Verwendung eines normalen Spektrometers oder
- keine direkte örtliche Zuordnung sowie unterschiedliche Driften der Photomultiplier bei Verwendung von mehreren Kollimatoren, wobei jedem Kollimator jeweils ein separater optischer Filter und ein separater Photomultiplier zugeordnet ist.

Das neue Verfahren und die neue Vorrichtung soll eine kostengünstige und schnelle Auswertung des vom Plasma in verschiedenen schmalbandigen Wellenlängenbereichen aus einem örtlichen Plasmabereich emittierten Lichtes sowie eine damit gekoppelte kostengünstige und schnelle Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen ermöglichen.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst, indem das vom Plasma emittierte Licht mittels piezoelektrischen Faserschalter sequentiell auf verschiedene optische Filter und von diesen mittels eines weiteren piezoelektrischen Faserschalters synchronisiert und ebenfalls sequentiell auf denselben Photomultiplier geleitet wird. Die Auswertung der daraus entstehenden Signale nimmt ein µController vor, welcher anhand der Auswertergebnisse über integrierte PID-Regler die Regelung des Prozesses über die Steuerung von geeigneten Stellgliedern vornimmt.
Die Auswertung des vom Plasma emittierten Lichtes und die Regelung von plasmagestützten Vakuumprozessen.
摘要翻译：对于用于调节等离子体增强真空过程通过等离子体（103）发射的光评价的装置，光接收器输入信道切换（106），一个过滤器块（127）到输出信道切换，光电倍增管，微控制器包括中，信号转换器模块和一个气体致动器。另一个输入信道开关被布置在上游到输入信道切换。上游输入通道开关，所述输入信道开关或输出开关信道是压电纤维开关。的单个电介质干涉滤光器的滤光器块besteht。对于用于调节等离子体增强真空过程通过等离子体（103）发射的光评价的装置，光接收器输入信道切换（106），一个过滤器块（127）到输出信道切换，光电倍增管，微控制器包括中，信号转换器模块和一个气体致动器。另一个输入信道开关被布置在上游到输入信道切换。上游输入通道开关，所述输入信道开关或输出开关信道是压电纤维开关。单个介质干扰的滤波器块besteht滤波器平行排列海誓山盟。该气体致动器是压电调节阀，质量流量控制器或在蒸发器的液体流量控制器的和的组合。可编程的微控制器，用于评估和控制，其中所述可编程微控制器具有用于数字值的临时存储与模拟/数字转换器将模拟电压输入的通用异步接收机/发射机接口，比例 - 积分 - 微分存储有两个数字输出的相关联的模拟电压输出和中断的数字输入端的两个模拟/数字转换器的控制器。一个独立的claimsoft被包括为用于评估由用于调节等离子体增强真空工艺的等离子体发出的光的方法。

5. 发明授权

EP1568987B1 Détection d'espèces gazeuses minoritaires par spectroscopie d'émission optique 有权
标题翻译：检测特殊气体的少数与光发射光谱
公开(公告)号：EP1568987B1
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：EP05290302.8
申请日：2005-02-10
申请人： Alcatel Lucent
发明人： Sogan, Gloria , Bounouar, Julien , Desbiolles, Jean-Pierre , Gaurand, Isabelle
IPC分类号： G01N21/71 , H05H1/00 , G01N21/66 , G01J3/443
CPC分类号： G01J3/443 , G01N21/274 , G01N21/68 , G01N2201/121 , G01N2201/1218 , G01N2201/127

6. 发明公开

EP1700333A4 METHOD AND APPARATUS FOR SEASONING SEMICONDUCTOR APPARATUS OF SENSING PLASMA EQUIPMENT 审中-公开
标题翻译：方法和装置半导体器件AUFBEREITUNGS-OF测量血浆DEVICES
公开(公告)号：EP1700333A4
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：EP04808517
申请日：2004-12-21
申请人： ADAPTIVE PLASMA TECH CORP
发明人： SONG YEONG SU , OH SANG RYONG , KIM S K , KIM N H
IPC分类号： H01L21/3065 , G01N21/68 , H01L21/311 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/68 , H01L21/31116 , H01L22/26
摘要： A plasma equipment seasoning method and plasma equipment to which the seasoning method is applied. The seasoning method comprising the steps of measuring the ratio of optical emission intensity of silicon oxide (SiOx)-based chemical species to optical emission intensity of carbon fluoride compound (CFY)-based chemical species present in a process chamber of plasma equipment before operating the plasma equipment to perform a plasma process, determining whether the value of the measured optical emission intensity ratio is within a predetermined range of normal state or not, and, when reaction gas to be used in the plasma process is supplied into the process chamber based on the result of determination such that the value of the measured optical emission intensity ratio is within the predetermined range of normal state, seasoning the interior of the process chamber to change the ratio of components of the reaction gas, and thus, to change the optical emission intensity ratio.

7. 发明公开

EP1760763A3 Dispositif de contrôle des espèces gazeuses par spectrométrie d'émission optique d'un plasma 审中-公开
标题翻译：装置的气体种类的监测通过在等离子体光发射的装置
公开(公告)号：EP1760763A3
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：EP06114877.1
申请日：2006-06-01
申请人： Alcatel Lucent
发明人： Nomine, Cyrille , Pierrejean, Didier
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： G01N21/68 , H01J37/32935
摘要： Le dispositif de contrôle (1) selon l'invention comprend une excroissance axiale (5) limitée par une paroi périphérique (6) étanche perméable aux champs magnétiques, et raccordée à une enceinte telle qu'une chambre de procédés (11) où sont présentes des espèces gazeuses à contrôler. Un capteur (3) de radiation lumineuse est placé à l'extrémité de l'excroissance axiale d'enceinte (5), et permet le transport de la lumière par une fibre optique (4a) jusqu'à un spectromètre optique (4). Un générateur de plasma (17,18) génère un plasma de contrôle (16) dans l'espace intérieur (8) de l'excroissance axiale d'enceinte (5). Le dispositif comprend un ou plusieurs moyens (7,7a) qui génèrent un champ magnétique (9) ou électrique à proximité du capteur (3) pour former une barrière empêchant la propagation des particules ionisées du plasma de contrôle (16) vers le capteur (3). On évite ainsi l'encrassement du capteur (3) et de l'enceinte.

8. 发明授权

EP1337836B1 SYSTEM AND METHOD FOR GAS DISCHARGE SPECTROSCOPY 有权
标题翻译：方法和装置用于排出气体光谱
公开(公告)号：EP1337836B1
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：EP01998813.8
申请日：2001-11-29
申请人： Uutech Limited
发明人： MCLAUGHLIN, James, Uutech Limited , MAGUIRE, Paul, Uutech Limited
IPC分类号： G01N21/67 , G01N21/68 , G01N33/00
CPC分类号： G01N33/0047 , G01N21/68
摘要： A system for identifying gases, the system having a plasma generator for generating a plasma using the gas to be identified and an array of detectors for detecting light emitted from the plasma. By analysing the output of the detectors, the gas can be identified. The system includes a plasma display (11) having two glass plates (36 and 38) patterned with strips that form the plasma electrodes. The intersection between the strips defines pixels which are individually addressable.

9. 发明公开

EP1196764A4 A CONTINUOUS EMISSIONS MONITOR OF MULTIPLE METAL SPECIES IN HARSH ENVIRONMENTS 有权
标题翻译： DEVICE恶劣环境中的各种金属的排放连续监测
公开(公告)号：EP1196764A4
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：EP00947584
申请日：2000-07-21
申请人： EFTHIMION EMERGING IND LLC
发明人： EFTHIMION PHLIP C
IPC分类号： G01N1/14 , G01N1/22 , G01N1/24 , G01N1/40 , G01N1/44 , G01N21/68 , G01N21/71 , G01N21/73 , G01N21/74
CPC分类号： G01N1/1409 , G01N1/2205 , G01N1/24 , G01N1/44 , G01N21/68 , G01N21/714 , G01N21/73 , G01N21/74 , G01N2001/2223
摘要： A continuous emissions monitor for the measurement of vapor phase and particulate-based metals in gas streams such as those at coal-fired utility plants, incinerators and manufacturing facilities, in which a pulsed plasma source (10), utilizing a resonant reentrant microwave cavity (12) which is powered by a microwave generator (34), operates at sub atmospheric pressures (

10. 发明授权

EP0556614B1 Method for isotopic analysis 失效
标题翻译：过程的同位素分析
公开(公告)号：EP0556614B1
公开(公告)日：2002-09-18
申请号：EP93101294.2
申请日：1993-01-28
申请人： RUTGERS, THE STATE UNIVERSITY
发明人： Murnick, Daniel E.
IPC分类号： G01N21/62 , G01N21/68
CPC分类号： G01N27/628 , G01N21/62 , G01N21/68 , G01N27/62 , G01N33/497 , Y10T436/13 , Y10T436/204998

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