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1. 发明授权

EP3807591B1 CHROMATIC CONFOCAL AREA SENSOR 有权
公开(公告)号：EP3807591B1
公开(公告)日：2024-07-03
申请号：EP19842149.7
申请日：2019-07-23
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/02 , G02B7/02 , G02B27/00 , G02B21/00 , G01B9/04
CPC分类号： G01B2210/5020130101 , G01B9/04 , G01B11/24

2. 发明公开

EP4356066A1 EINRICHTUNG ZUR LEITUNG VON SPEKTRAL ZU ANALYSIERENDEM MESSLICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SOLCHEN EINRICHTUNG SOWIE VORRICHTUNG ZUR ABSTANDS- UND DICKENMESSUNG 审中-实审
公开(公告)号：EP4356066A1
公开(公告)日：2024-04-24
申请号：EP23754137.0
申请日：2023-06-26
申请人： Micro-Epsilon Optronic GmbH
发明人： MEJA, Peter
IPC分类号： G01B11/06 , G02B6/26
CPC分类号： G01B11/0608 , G01B2210/5020130101 , G02B6/262 , G02B6/0005

3. 发明公开

EP4377725A1 CONFOCAL MICROSCOPY APPARATUS AND METHOD FOR IMAGING A SAMPLE BY CHROMATIC CONFOCAL MICROSCOPY 审中-实审
公开(公告)号：EP4377725A1
公开(公告)日：2024-06-05
申请号：EP22737492.3
申请日：2022-07-04
申请人： Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.
发明人： SINGH, Kanwarpal , SHARMA, Gargi
IPC分类号： G02B1/02 , G02B21/00 , G02B21/02 , G01B9/04 , G01B11/24 , G01B11/06
CPC分类号： G02B21/0024 , G02B21/02 , G02B21/0064 , G02B21/0032 , G02B1/02 , G01B11/0608 , G01B11/24 , G01B2210/5020130101

4. 发明公开

EP4402537A1 SENSOR SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：EP4402537A1
公开(公告)日：2024-07-24
申请号：EP22764377.2
申请日：2022-08-08
申请人： ASML Netherlands B.V.
发明人： KRAMER, Gijs
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/06 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/7085 , G01B11/0608 , G03F9/7034 , G01B21/042 , G01B11/245 , G01B2210/5020130101

5. 发明公开

EP4400805A1 INSPEKTIONSSYSTEM UND VERFAHREN ZUR FEHLERANALYSE 审中-公开
公开(公告)号：EP4400805A1
公开(公告)日：2024-07-17
申请号：EP24151283.9
申请日：2024-01-11
申请人： WiTrins s.r.o.
发明人： LINHART, Pavel
IPC分类号： G01B11/06 , G01N21/956 , G01N21/95
CPC分类号： G01B11/0608 , G01N21/9501 , G01N2021/9563820130101 , G01B2210/5020130101
摘要： Die Erfindung betrifft ein Inspektionssystem (10) und ein Verfahren zur Fehleranalyse eines Produkts, insbesondere eines Leiterplattenprodukts, Halbleiterwafer oder dergleichen, wobei das Inspektionssystem eine Projektionsvorrichtung (11), eine optische Erfassungsvorrichtung (12) und eine Verarbeitungsvorrichtung umfasst, wobei die Projektionsvorrichtung eine Beleuchtungseinheit (13) und eine Spektrometereinrichtung (14) aufweist, mittels der Weißlicht in seine spektralen Bestandteile aufteilbar und ein derart aus monochromatischen Lichtstrahlen gebildeter multichromatischer Lichtstrahl (15) relativ zu einer Produktoberfläche (17) eines Produkts (16) unter einem Einfallswinkel β auf das Produkt projizierbar ist, wobei die optische Erfassungsvorrichtung eine Erfassungseinheit (19) mit einer Kamera (20) und einem Objektiv (21) aufweist, wobei in einer Erfassungsebene (18) der Erfassungseinheit der am Produkt reflektierte multichromatische Lichtstrahl mittels der Kamera erfassbar ist, wobei die Erfassungsebene relativ zu der Produktoberfläche in einem Winkel α ≠ 90° oder in einem Winkel α = β verläuft.

6. 发明公开

EP4381243A1 ANORDNUNG ZUR OPTISCHEN VERMESSUNG EINES GEWINDES AN EINEM ENDE EINES METALLROHRES ODER AN EINER MUFFE SOWIE VERFAHREN ZUR VERMESSUNG 审中-实审
公开(公告)号：EP4381243A1
公开(公告)日：2024-06-12
申请号：EP22741270.7
申请日：2022-07-08
申请人： SMS Group GmbH
发明人： SAUERLAND, Martin , SCHMITZ, Jochen , HÖFER, Michael
IPC分类号： G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2425 , G01B2210/5020130101

7. 发明授权

EP3792588B1 METHOD AND APPARATUS FOR COATING THICKNESS INSPECTION OF A SURFACE AND COATING DEFECTS OF THE SURFACE 有权
公开(公告)号：EP3792588B1
公开(公告)日：2024-08-07
申请号：EP20193226.6
申请日：2020-08-27
IPC分类号： G01B11/06
CPC分类号： G01B11/0616 , G01B11/0625 , G01B2210/5020130101

8. 发明公开

EP4405669A1 INSPEKTIONSSYSTEM UND VERFAHREN ZUR FEHLERANALYSE 审中-公开
公开(公告)号：EP4405669A1
公开(公告)日：2024-07-31
申请号：EP22802006.1
申请日：2022-09-21
申请人： Wickon Hightech GmbH
发明人： WIESER, Roman
IPC分类号： G01N21/95 , G01B11/06 , G01B11/25
CPC分类号： G01N21/9515 , G01B11/0608 , G01B11/2509 , G01B2210/5620130101 , G01B2210/5020130101 , G01B11/2518

9. 发明公开

EP4365539A1 KOORDINATENMESSMASCHINE, LICHTQUELLE UND VERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：EP4365539A1
公开(公告)日：2024-05-08
申请号：EP22205389.4
申请日：2022-11-03
申请人： Klingelnberg GmbH
发明人： Stefer, Jonas , Finkeldey, Markus
IPC分类号： G01B11/00 , G01B11/24
CPC分类号： G01B11/2416 , G01B11/005 , G01B2210/5020130101
摘要： Koordinatenmessmaschine, mit zwei oder mehr Linearachsen (x, y, z), mit mindestens einer Rotationsachse (C), mit einem optischen Abstandssensor (4) zum Erfassen von Messpunkten an einem zu messenden Werkstück (6) und mit einer Lichtquelle (10), wobei die Linearachsen (x, y, z) und die Rotationsachse (C) zum Ausführen von Relativbewegungen zwischen dem zu messenden Werkstück (6) und dem optischen Abstandssensor (4) eingerichtet sind, wobei die Lichtquelle (10) zum Bereitstellen von Quelllicht (11) für den optischen Abstandssensor (4) eingerichtet ist und wobei die Lichtquelle (10) aufweist: ein auf einer Trägerplatine (12) aufgebrachtes Leuchtmittel (14), das ein Material aufweist, das unter Anregung breitbandiges Licht emittiert, wie Phosphor oder dergleichen, einen Laser (18) zum Anregen des Leuchtmittels (14) mittels Laserlicht (20), eine Einrichtung (22) zur aktiven Regelung der Lichtstärke des von der Lichtquelle (10) erzeugten Quelllichts (11), eine Einrichtung (24) zur aktiven Regelung einer Temperatur innerhalb der Lichtquelle (10), eine Optik (26) und einen Lichtleiter (28), wobei die Optik (26) zum Fokussieren des Quelllichts (11) in den Lichtleiter (28) eingerichtet ist und wobei der Lichtleiter (28) mit dem optischen Abstandssensor (4) gekoppelt ist.

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