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1. 发明公开

EP3236492A1 VERFAHREN UND SYSTEM ZUR STEUERUNG EINER VORRICHTUNG ZUM GREIFEN ODER POSITIONIEREN VON AUF EINEM SUBSTRATTRÄGER ANGEORDNETEN SUBSTRATEN 审中-公开
标题翻译：用于控制设备以在基板载体上设置的抓取或定位基板的方法和系统
公开(公告)号：EP3236492A1
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：EP16165811.7
申请日：2016-04-18
申请人： Meyer Burger (Germany) AG
发明人： Ansorge, Erik , Böhm, Christian , Raschke, Sebastian
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/67248 , H01L21/681
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Greifen oder Positionieren von mindestens einem Substrat auf einem Substratträger. Der Substratträger besteht aus einem Material mit mindestens einem bekannten Ausdehnungskoeffizienten. Bei dem Verfahren wird zunächst bei einer bekannten ersten Temperatur des Substratträgers ein erstes Parameterset des Substratträgers bestehend Länge, Breite und/oder Höhe des Substratträgers sowie die relative Position eines Substratbezugspunktes auf dem Substratträger bezüglich eines Bezugspunktes des Substratträgers ermittelt. Nachfolgend wird ein zweites Parameterset aus Länge, Breite und/oder Höhe des Substratträgers bei einer unbekannten zweiten Temperatur des Substratträgers mit Hilfe von mindestens zwei Lasersensoren ermittelt, wobei zwei der Lasersensoren auf gegenüberliegenden Seiten des Substratträgers und auf einer Laserlinie angeordnet sind. Mit Hilfe des ermittelten zweiten Parametersets und des mindestens einen Ausdehnungskoeffizienten kann die genaue Position des Substratbezugspunktes auf dem an einer ersten Position positionierten Substratträger bei der unbekannten zweiten Temperatur ermittelt und die Vorrichtung zum Greifen oder Positionieren entsprechend gesteuert werden. Das erfindungsgemäße System zur Steuerung einer Vorrichtung zum Greifen oder Positionieren weist den Verfahrensschritten entsprechende Mittel auf.
摘要翻译：本发明涉及一种用于控制用于将至少一个衬底夹持或定位在衬底载体上的装置的方法。基材载体由具有至少一种已知膨胀系数的材料组成。在该方法中，第一组由长度，宽度和/或衬底载体的高度与基板支撑件的基板载体的一个参考点的在基板的基准点的相对位置的基片载体的参数相对于确定为首先在衬底支撑件的一个已知的第一温度。接着，第二组的长度，宽度和/或衬底支撑件的高度的参数在衬底支撑件与至少两个激光传感器的帮助下的未知的第二温度，其中，两个激光传感器定位在衬底载体的相对侧上并在激光线被确定。与所确定的第二参数集的助剂和至少一个膨胀系数，基板参考点的精确位置可以在在未知温度下的位于第一位置的衬底载具来确定，并且所述第二设备是用于夹持或定位相应地控制。根据本发明的用于控制用于抓取或定位的装置的系统包括对应于方法步骤的装置。

2. 发明授权

EP3367419B1 ELEKTRODENEINHEIT MIT EINEM INTERNEN ELEKTRISCHEN NETZWERK ZUR ZUFÜHRUNG VON HOCHFREQUENTER SPANNUNG UND TRÄGERANORDNUNG FÜR EINE PLASMABEHANDLUNGSANLAGE 有权转让
公开(公告)号：EP3367419B1
公开(公告)日：2019-08-14
申请号：EP17158448.5
申请日：2017-02-28
申请人： Meyer Burger (Germany) AG
发明人： Schlemm, Hermann , Kehr, Mirko , Ansorge, Erik
IPC分类号： H01J37/32

3. 发明授权

EP2915901B1 Vorrichtung zur Plasmaprozessierung mit Prozessgaszirkulation in multiplen Plasmen 无效转让
公开(公告)号：EP2915901B1
公开(公告)日：2019-02-27
申请号：EP14158269.2
申请日：2014-03-07
申请人： Meyer Burger (Germany) AG
发明人： Schlemm, Hermann, Dr. , Kehr, Mirko , Ansorge, Erik , Decker, Daniel
IPC分类号： C23C16/455 , H01J37/32

4. 发明公开

EP3367419A1 ELEKTRODENEINHEIT MIT EINEM INTERNEN ELEKTRISCHEN NETZWERK ZUR ZUFÜHRUNG VON HOCHFREQUENTER SPANNUNG UND TRÄGERANORDNUNG FÜR EINE PLASMABEHANDLUNGSANLAGE 有权转让
公开(公告)号：EP3367419A1
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：EP17158448.5
申请日：2017-02-28
申请人： Meyer Burger (Germany) AG
发明人： Schlemm, Hermann , Kehr, Mirko , Ansorge, Erik
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32577 , H01J37/32091 , H01J37/32348 , H01J37/32532 , H01J37/32568
摘要： Die Erfindung betrifft eine Elektrodeneinheit mit einer Vielzahl von Plasmaelektrodenpaaren, die bei einer bestimmten anliegenden Spannung zum Zünden eines Plasmas zwischen einer ersten Plasmaelektrode und einer zweiten Plasmaelektrode eines jeden Plasmaelektrodenpaares geeignet sind, mindestens einem internen elektrischen Zuführungsnetzwerk, das geeignet ist, eine erste Spannung allen ersten Plasmaelektroden und eine zweite Spannung allen zweiten Plasmaelektroden zuzuführen, wobei mindestens eine der Spannungen hochfrequent ist, und einer ersten und einer zweiten Anschlussklemme, die geeignet sind, die erste bzw. die zweite Spannung in das mindestens eine Zuführungsnetzwerk einzuspeisen. Das interne elektrische Zuführungsnetzwerk enthält eine Vielzahl von Leitungen, wobei das Zuführungsnetzwerk durch die Anordnung, die geometrischen Abmessungen und/oder das Material der Leitungen und/oder durch die Anordnung eines Einspeispunktes der ersten bzw. zweiten Spannung innerhalb des Zuführungsnetzwerkes an die Elektrodeneinheit und die Frequenz der ersten und/oder der zweiten Spannung angepasst ist.

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