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1. 发明公开

EP2576230A1 VERFAHREN ZUR KENNZEICHNUNG EINES SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：标记方法的衬底
公开(公告)号：EP2576230A1
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：EP11718028.1
申请日：2011-05-02
申请人： Innovent e.V.
发明人： GRÜNLER, Bernd , SCHIMANSKI, Arnd , PFUCH, Andreas , HORN, Kerstin , BEIER, Oliver
IPC分类号： B41M3/14 , B41M5/24 , B41M5/26 , B41M5/28
CPC分类号： B42D25/378 , B41M3/144 , B41M5/24 , B41M5/26 , B41M5/286 , B42D25/387 , B42D25/415 , B42D25/435 , B42D25/445 , B65B11/00 , G09F3/0291
摘要： The invention relates to a method for labelling a substrate, in which method at least one luminescent dye is deposited as a first identification feature in at least one transparent marker layer or in at least one functional layer on a surface of the substrate or on a layer which is situated on the surface, wherein the transparent marker layer or the functional layer is provided with a structure in a further step for producing a second identification feature by local destruction, in particular thermally. According to the invention, the deposition of the at least one marker layer or functional layer takes place by means of chemical gas-phase deposition using a flame or a plasma, by means of a sol-gel method or electrochemically.

2. 发明公开

EP4063016A1 ZERSTÄUBERDÜSE 审中-公开
公开(公告)号：EP4063016A1
公开(公告)日：2022-09-28
申请号：EP22161529.7
申请日：2022-03-11
申请人： Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.)
发明人： BEIER, Oliver , MARTIN, Björn , KÖCHER, Ronny
IPC分类号： B05B1/34 , B05B7/06 , B05B7/10 , C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/453 , C23C16/513 , B05B7/04
摘要： Die Erfindung betrifft eine Zerstäuberdüse (D), umfassend:
- eine rohrförmige Düsenlanze (6),
- einen Vortexgenerator (7), der in oder an einem freien Ende der Düsenlanze (6) angeordnet und zur Verwirbelung eines in der Düsenlanze (6) geführten Gasstroms ausgebildet ist,
- einen Düseneinsatz (8), der im Gasstrom stromabwärts in oder an dem freien Ende der Düsenlanze (6) oder in oder am Vortexgenerator (7) angeordnet ist und einen Hohlraum (8.2) aufweist,
wobei der Vortexgenerator (7) und der Düseneinsatz (8) jeweils eine zentrale Bohrung (7.1, 8.1) aufweisen, die zueinander koaxial angeordnet sind, wobei der Hohlraum (8.2) zur Weiterleitung des verwirbelten Gasstroms durch die zentrale Bohrung (8.1) des Düseneinsatzes (8) angeordnet ist,
- ein Röhrchen (9), das durch die zentralen Bohrungen (7.1, 8.1) geführt ist.

3. 发明公开

EP3680361A1 AUFSATZ ZUM DOSIEREN EINES PRECURSORS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SCHICHT 审中-公开
公开(公告)号：EP3680361A1
公开(公告)日：2020-07-15
申请号：EP19150981.9
申请日：2019-01-09
申请人： Innovent e.V.
发明人： GERULLIS, Sven , BEIER, Oliver , PFUCH, Dr. Andreas , MARTIN, Björn , GRÜNLER, Dr. Bernd
IPC分类号： C23C4/134 , C23C16/453 , C23C16/40 , B05B7/22 , H05H1/42
摘要： Die Erfindung betrifft einen Aufsatz (1) für eine Plasmaquelle (2) zur Dosierung von Precursoren, umfassend mindestens eine Düse (5), die an der Plasmaquelle (2) befestigt oder anderweitig in einer festen Position zur Plasmaquelle (2) anordenbar ist, derart, dass ein aus der Düse (5) ausströmender Precursor einem aus der Plasmaquelle (2) austretenden Plasmastrahl unter einem vorgegebenen Winkel (ω) sowie mit einem in einem Bereich von 0,5 mm bis 10 mm einstellbaren vorgegebenen Abstand (b) zwischen einer Austrittsöffnung der Düse (5) und einem zu beschichtenden Substrat (4) zuführbar ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Herstellung einer Schicht auf einem Substrat (4), wobei in der Nähe des Substrats (4) mindestens ein Precursor über den Aufsatz (1) in oder in die Nähe eines aus einer Plasmaquelle (2) austretenden Plasmastromes eindosiert wird.

4. 发明公开

EP2743373A1 Dosiereinheit und ihre Verwendung 有权
公开(公告)号：EP2743373A1
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：EP13192939.0
申请日：2013-11-14
申请人： Innovent e.V.
发明人： BEIER, Oliver , KRIPPL, Gerhardt , RAMM, Max , SPANGE, Sebastian
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/513 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4481 , C23C16/45595 , C23C16/513
摘要： Die Erfindung betrifft eine Dosiereinheit (1) zum Eindosieren eines Precursors (P) in einen Gasstrom (G), umfassend einen massiv ausgebildeten Basiskörper (2) mit einem ersten Kanal (3), der von einem Gaseintritt (4) zu einem Gasaustritt (5) vom Gasstrom durchströmbar und als eine Bohrung in den Basiskörper (2) eingebracht ist, und mit einem zweiten Kanal (7), der den ersten Kanal (3) unter einem Winkel (α) an einem Kreuzungspunkt (8) schneidet, wobei eine Einsprühdüse (14) zum Zuführen des Precursors (P) in den Gasstrom (G) im zweiten Kanal (7) angeordnet ist, wobei in einer Gebrauchslage der Dosiereinheit (1) unterhalb des Kreuzungspunktes (8) ein Ende des zweiten Kanals als eine Partikelfalle (16) ausgebildet ist, wobei eine mit einem Verschlussstopfen (12) verschließbare Reinigungsöffnung (9) für die Partikelfalle (16) vorgesehen ist. Die Erfindung betrifft weiter eine Verwendung mindestens einer Dosiereinheit (1) bei einem Verfahren zur Abscheidung einer Schicht auf einem Substrat.
摘要翻译：用于将前体计量给气体流的计量单元（1）包括具有第一通道（3）的基体（2），其从气体入口（4）从气流引导到气体出口（5），以及第二通道，其在交叉点处以角度（α）与第一通道相交。在第二通道中布置喷嘴以将前体供应到气流中。还包括独立权利要求，用于：（1）包含至少两个计量单位的计量装置，其中计量单元以相同的气流串联连接，使得许多前体连续地供应至气流; （2）在衬底上沉积层，包括从工作气体产生等离子体射流或火焰，将至少一种前体至少一种气流供应到计量单元或给料装置中，供应气流，负载操作气体的前体，等离子体射流和/或火焰，并使等离子体射流和火焰中的前体反应，其中至少一种前体的至少一种反应产物沉积在衬底和/或至少在层上，其布置在表面上。

5. 发明公开

EP4446477A1 VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATS, BAUTEIL UND DESSEN VERWENDUNG 审中-公开
公开(公告)号：EP4446477A1
公开(公告)日：2024-10-16
申请号：EP24162954.2
申请日：2024-03-12
申请人： Verein zur Förderung von Innovationen durch Forschung, Entwicklung und Technologietransfer e.V. (Verein INNOVENT e.V.)
发明人： TEUMER, Martin , SCHMIDT, Jürgen , XU, Jun , BEIER, Oliver , PFUCH, DR., Andreas
IPC分类号： C25D11/02
CPC分类号： C23C14/185 , C23C14/34 , C23C14/028 , C23C14/5853 , C25D11/026 , C23C18/08 , C23C18/10 , C23C18/127 , C23C20/04 , C23C4/12 , C23C4/06 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/26 , C25D11/30 , C25D11/34 , C23C4/134 , C23C4/11 , C23C4/08
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (1), wobei auf dem Substrat (1) mittels Kaltplasmaspritzen, thermischem Plasmaspritzen, Kaltgasspritzen, Flammspritzen, Detonationsspritzen, Laserspritzen, Lichtbogenspritzen, Vakuumplasmaspritzen, physikalischer Gasphasenabscheidung oder mittels Drucktechnik mindestens eine Schicht aus einem Metall oder einer Metalllegierung aufgebracht wird, wobei das Metall mittels anodischer Oxidation oder plasmachemischer Oxidation in eine oxidkeramische Schicht (2, 3) überführt wird.

6. 发明公开

EP3231891A1 VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG VON OBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：涂覆表面的方法
公开(公告)号：EP3231891A1
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：EP17164702.7
申请日：2017-04-04
申请人： Innovent e.V.
发明人： BEIER, Oliver , SPANGE, Sebastian , RAMM, Max , GRÜNLER, Bernd
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/453 , C23C16/40 , C23C4/134 , C23C4/04
CPC分类号： C23C16/513 , C23C4/11 , C23C4/134 , C23C16/401 , C23C16/405 , C23C16/453
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats, wobei mittels chemischer Gasphasenabscheidung unter Normaldruckbedingungen unter Verwendung eines nicht-thermischen Plasmas oder mittels eines Sol-Gel-Verfahrens ein Naturstoff auf einer Oberfläche des Substrats abgeschieden wird.
摘要翻译：本发明涉及一种涂布基材的方法，其中通过使用非热等离子体的常压条件下的化学气相沉积或通过溶胶 - 凝胶方法将天然物质沉积在基材的表面上。

7. 发明授权

EP2743373B1 Dosiereinheit und ihre Verwendung 有权
标题翻译：加药及其使用
公开(公告)号：EP2743373B1
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：EP13192939.0
申请日：2013-11-14
申请人： Innovent e.V.
发明人： BEIER, Oliver , KRIPPL, Gerhardt , RAMM, Max , SPANGE, Sebastian
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/513 , C23C16/448
CPC分类号： C23C16/4481 , C23C16/45595 , C23C16/513

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