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1. 发明公开

EP0305873A2 Positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches Aufzeichnungsmaterial 失效
标题翻译：的正型感光性组合物和由其光刻记录材料制成。
公开(公告)号：EP0305873A2
公开(公告)日：1989-03-08
申请号：EP88113763.2
申请日：1988-08-24
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Stephani, Trutz-Ulrich, Dr. , Mohr, Dieter, Dr. , Maisel, Britta , Frass, Hans Werner, Dr. , Elsässer, Andreas, Dr.
IPC分类号： G03F7/08
CPC分类号： G03F7/0226
摘要： Es wird ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch, im wesentlichen enthaltend ein o-Chinondiazid und ein Bindemittel, beschrieben, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß das Gemisch eine Verbindung enthält, die mit dem o-Chinondiazid eine Azokupplung ausbilden kann.
Ein mit dem lichtempfindlichen Gemisch hergestelltes Aufzeichnungsmaterial weist eine hohe Lichtempfindlichkeit und eine besondere Entwicklerresistenz auf.
Das lichtempfindliche Gemisch findet Anwendung in der Reproduktionstechnik, aber auch auf dem Resistgebiet.
摘要翻译：有本质上含有邻重氮醌和描述粘合剂，其特征在于该混合物含有能够形成与邻醌二叠氮的偶氮偶合的化合物的正型感光性混合物。与感光记录材料混合物制成的产品具有高的光敏性和一个特殊的显影剂抗性。光敏混合物在再现技术中使用的，而且对抗蚀剂的区域。

2. 发明公开

EP0527369A1 Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial aus Schichtträger und positiv arbeitender, strahlungsempfindlicher Schicht mit rauher Oberfläche 失效转让
标题翻译：的层的支持和具有粗糙表面的正性工作，辐射敏感层的辐射敏感记录材料。
公开(公告)号：EP0527369A1
公开(公告)日：1993-02-17
申请号：EP92112589.4
申请日：1992-07-23
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Frass, Hans Werner, Dr. , Hackmann, Ernst-August, Dr. , Joerg, Klaus, Dr. , Könneke, Dietmar, Dr. , Neubauer, Rudolf, Dr. , Elsässer, Andreas, Dr.
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004 , G03F7/115
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/0226 , G03F7/115
摘要： Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial insbesondere zur Herstellung von Flachdruckplatten aus einem Schichtträger und einer positiv arbeitenden, strahlungsempfindlichen Schicht mit rauher Oberfläche, die als strahlungsempfindliche Verbindung mindestens ein 1,2-Chinondiazid, und als wasserunlösliches und in wäßrigalkalischen Lösungen lösliches oder quellbares Bindemittel ein Polykondensat oder Polymerisat, Farbstoff und Füllstoff enthält. Die strahlungsempfindliche Schicht enthält bei einem Schichtgewicht von 3 g/m² oder weniger als Füllstoff ein Kieselsäureprodukt mit einer mittleren Korngröße von 3 bis 5 µm mit einer Ausschlußgrenze von 15 µm in einer Menge, daß sie eine Glätte nach Bekk von 20 bis 100 Sekunden (bestimmt nach DIN 53 107, Verfahren A) aufweist. Die Schicht enthält zusätzlich ein Tensid mit Polysiloxan-Einheiten.
Das Aufzeichnungsmaterial weist gute Kopier- und drucktechnische Eigenschaften, wie günstige Evakuierzeit, Rasterruhe, geringe Anfälligkeit für Lufteinschlüsse, gutes Auflösungsvermögen und gute Beschichtungsstruktur auf.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte unter Verwendung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials.
摘要翻译：辐射敏感的记录材料，特别是爱用于制造平板印刷板，其包含层的支持和具有粒状表面的正的工作，辐射敏感层和含有作为辐射敏感化合物，至少一个1,2-二叠氮醌并且，作为不溶于水和可溶或可溶胀的粘合剂在碱性溶液wässrige，缩聚物或聚合物，并且其还含有着色剂和填料。辐射敏感层中，在3克/米<2>或更小的层的重量，含有作为填料的具有从3到5微米与平均晶粒尺寸在15微米排除极限二氧化硅产品求量做了它具有从20到100秒的Bekk光滑度（根据DIN 53 107，方法A）。该层还含有表面活性剂，其包括聚硅氧烷单元。的记录材料具有良好的复印和印刷性能，颜色：如有益疏散时间，电网稳定性，低的易感性空气夹杂物，良好分辨能力和良好的涂层结构。因此本发明涉及一种用于制造平板印刷版用人记录材料gemäß到本发明的方法。

3. 发明公开

EP0305873A3 Positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches Aufzeichnungsmaterial 失效
标题翻译：正性感光性组合物及其感光性注册材料
公开(公告)号：EP0305873A3
公开(公告)日：1990-06-13
申请号：EP88113763.2
申请日：1988-08-24
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Stephani, Trutz-Ulrich, Dr. , Mohr, Dieter, Dr. , Maisel, Britta , Frass, Hans Werner, Dr. , Elsässer, Andreas, Dr.
IPC分类号： G03F7/08
CPC分类号： G03F7/0226
摘要： Es wird ein positiv arbeitendes lichtempfindliches Gemisch, im wesentlichen enthaltend ein o-Chinondiazid und ein Bindemittel, beschrieben, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß das Gemisch eine Verbindung enthält, die mit dem o-Chinondiazid eine Azokupplung ausbilden kann. Ein mit dem lichtempfindlichen Gemisch hergestelltes Aufzeichnungsmaterial weist eine hohe Lichtempfindlichkeit und eine besondere Entwicklerresistenz auf. Das lichtempfindliche Gemisch findet Anwendung in der Reproduktionstechnik, aber auch auf dem Resistgebiet.

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