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1. 发明公开

EP2511765A2 Regelvorrichtung zur Regelung einer flächigen Anordnung individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage 有权
标题翻译：一种用于在微光刻投射曝光装置的控制可单独控制的光束偏转元件的二维阵列控制装置
公开(公告)号：EP2511765A2
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：EP12005054.7
申请日：2008-02-06
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Xalter, Stefan , Kwan, Yim-Bun-Patrick , Major, András G. , Maul, Manfred , Eisenmenger, Johannes , Fiolka, Damian , Horn, Jan , Degünther, Markus , Bach, Florian , Patra, Michael , Wangler, Johannes , Layh, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Es wird eine Regelvorrichtung angegeben zur Regelung einer flächigen Anordnung von individuell ansteuerbaren Strahlablenkungselementen (28), mit der eine Pupillenfläche eines Beleuchtungssystems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage variabel ausleuchtbar ist. Jedes Strahlablenkungselement (28) lenkt dabei ein darauf auftreffendes Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal ab. Die Regelvorrichtung umfasst eine Messeinrichtung, durch die ein Messsignal erzeugbar ist, und einen modelbasierten Zustandsschätzer, mit dem unter Verwendung des Messsignals ein geschätzter Zustandvektor, der die von dem Strahlablenkungselement (28) hervorgerufene Ablenkung und deren zeitliche Ableitung repräsentiert, bestimmbar ist. Ferner ist ein Regler vorhanden, dem der geschätzte Zustandsvektor und ein Sollwert für die von dem Strahlablenkungselement (28) hervorgerufene Ablenkung und deren zeitliche Ableitung zuführbar ist, und mit dem über eine Stellgröße (s) das an dem Strahlablenkungselement (28) anliegende Steuersignal steuerbar ist.
摘要翻译：该照明系统具有一个光瞳表面和光束偏转元件（28），其被触发在各个方式基本上平面排列全部。光束偏转元件被用于可变地照明瞳面。每个光束偏转元件允许投射光束（32）入射之后没有在雅舞蹈的控制信号被偏转所有这一切都被施加到所述光束偏转元件。因此独立权利要求中包括了以下内容：（1），用于测量或校正变量（2）的控制单元，用于控制独立可控光束偏转元件的二维布置（3），用于测量的同步接收的测量仪器的校准装置信号（4），用于确定性采矿的方法在微平版印刷投影曝光装置的照明系统的偏转投影光束。

3. 发明公开

EP2458425A1 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 失效
标题翻译：项目管理系统
公开(公告)号：EP2458425A1
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：EP12156900.8
申请日：2007-10-01
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Maul, Manfred , Schwab, Markus , Seitz, Wolfgang , Dittmann, Olaf
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20 , G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B5/1876 , G02B27/283 , G02B27/285 , G02B27/286 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus. An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a depolariser (500-900) which in conjunction with a light mixing system disposed downstream in the light propagation direction at least partially causes effective depolarisation of polarised light impinging on the depolariser (500-900), and a microlens array (20) which is arranged upstream of the light mixing system in the light propagation direction and in which a plurality of microlenses (20a, 20b,...) are arranged with a periodicity; wherein the depolariser (500-900) is so adapted that in a plane perpendicular to the optical system axis of the illumination system it produces mutually orthogonal polarisation states whose distribution within the optically effective region does not involve any periodicity, and that a contribution afforded by interaction of the depolariser (500-900) on the one hand with the periodicity of the microlens array (20) on the other hand to the residual polarisation distribution occurring in a pupil plane (PP) arranged downstream of the microlens array (20) in the light propagation direction has a maximum degree of polarisation of not more than 5%.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明系统。微光刻投影曝光装置的照明系统包括去极化器（500-900），其与在光传播方向上设置的下游的光混合系统一起至少部分地引起入射去极化器（500-900）的偏振光的有效去极化，以及微透镜阵列（20），其布置在光传播方向上的光混合系统的上游，并且多个微透镜（20a，20b，...）以周期性布置; 其中去极化器（500-900）适于使得在垂直于照明系统的光学系统轴的平面中，其产生相互正交的极化状态，其在光学有效区域内的分布不涉及任何周期性，并且由另一方面，去极化剂（500-900）与微透镜阵列（20）的周期性的相互作用与发生在布置在微透镜阵列（20）下游的光瞳平面（PP）中的残留极化分布相互作用光传播方向的最大极化度不大于5％。

4. 发明公开

EP2317386A3 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 失效
标题翻译：微光刻投射曝光设备的照明系统
公开(公告)号：EP2317386A3
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：EP11001162.4
申请日：2008-12-23
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Müller, Ralf , Major, András
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70208 , G03F7/70116
摘要： An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus is configured to illuminate a mask (16) with light pulses and comprises a beam deflection array (46) of reflective or transparent beam deflection elements (M ij ). Each beam deflection element (M ij ) is adapted to deflect an impinging light beam by a deflection angle that is variable in response to control signals. The illumination system further comprises a system pupil surface (70) in which an irradiance distribution is produced by the beam deflection array. A control unit (50) is provided that is configured to control the beam deflection elements such that the illuminated area associated with an irradiance distribution produced in the system pupil surface (70) changes between two consecutive light pulses (LP n , LP n+1 ) of an exposure process during which the mask (16) is imaged on a light sensitive surface (22).

5. 发明授权

EP1835312B1 Illumination device for a microlithographic projection apparatus having an element made of uniaxial crystal and having a plurality of refractive or diffractive structures extending along an axis being parallel or perpendicular to the crystal axis 有权转让
$Illumination device for a microlithographic projection apparatus having an element made of uniaxial crystal and having a plurality of refractive or diffractive structures extending along an axis being parallel or perpendicular to the crystal axis$
标题翻译：对于具有几个平行制成的单轴晶体或布置成垂直于折射或衍射结构的晶轴的光学元件的微光刻投射曝光设备的照明装置
公开(公告)号：EP1835312B1
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：EP07103867.3
申请日：2007-03-09
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Schuster, Karl-Heinz , Hartmaier, Jürgen , Maul, Manfred , Schmerek, Dieter , Müller, Detlev , Hahnemann, Otto , Marianek, Frank , Weiss, Gundula , Fiolka, Damian
IPC分类号： G02B1/08 , G02B3/00 , G02B27/00 , G03B27/72
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B1/02 , G02B1/08 , G02B3/005 , G02B3/0068 , G02B5/1823 , G02B5/1833 , G02B5/1838 , G02B5/1866 , G03B27/72 , G03F7/70158 , G03F7/70566 , G03F7/70958 , G03F7/70966

6. 发明授权

EP2458425B1 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 失效
标题翻译：微光刻投射曝光设备的照明系统
公开(公告)号：EP2458425B1
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：EP12156900.8
申请日：2007-10-01
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Maul, Manfred , Schwab, Markus , Seitz, Wolfgang , Dittmann, Olaf
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20 , G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B5/1876 , G02B27/283 , G02B27/285 , G02B27/286 , G03F7/70566

7. 发明授权

EP2317386B1 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 失效
标题翻译：微光刻投射曝光设备的照明系统
公开(公告)号：EP2317386B1
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：EP11001162.4
申请日：2008-12-23
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Müller, Ralf , Major, András
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70208 , G03F7/70116

8. 发明授权

EP2202580B1 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus 有权转让
标题翻译：微光刻投影曝光设备的照明系统
公开(公告)号：EP2202580B1
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：EP08022311.8
申请日：2008-12-23
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Müller, Ralf , Major, András
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70208 , G03F7/70116

9. 发明公开

EP2511765A3 Regelvorrichtung zur Regelung einer flächigen Anordnung individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage 有权
标题翻译：控制装置，用于控制微光刻投射曝光设备中的独立可控光束偏转元件的平面布置
公开(公告)号：EP2511765A3
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：EP12005054.7
申请日：2008-02-06
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Xalter, Stefan , Kwan, Yim-Bun-Patrick , Major, András G. , Maul, Manfred , Eisenmenger, Johannes , Fiolka, Damian , Horn, Jan , Degünther, Markus , Bach, Florian , Patra, Michael , Wangler, Johannes , Layh, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G05B13/04
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Es wird eine Regelvorrichtung angegeben zur Regelung einer flächigen Anordnung von individuell ansteuerbaren Strahlablenkungselementen (28), mit der eine Pupillenfläche eines Beleuchtungssystems einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage variabel ausleuchtbar ist. Jedes Strahlablenkungselement (28) lenkt dabei ein darauf auftreffendes Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal ab. Die Regelvorrichtung umfasst eine Messeinrichtung, durch die ein Messsignal erzeugbar ist, und einen modelbasierten Zustandsschätzer, mit dem unter Verwendung des Messsignals ein geschätzter Zustandvektor, der die von dem Strahlablenkungselement (28) hervorgerufene Ablenkung und deren zeitliche Ableitung repräsentiert, bestimmbar ist. Ferner ist ein Regler vorhanden, dem der geschätzte Zustandsvektor und ein Sollwert für die von dem Strahlablenkungselement (28) hervorgerufene Ablenkung und deren zeitliche Ableitung zuführbar ist, und mit dem über eine Stellgröße (s) das an dem Strahlablenkungselement (28) anliegende Steuersignal steuerbar ist.
摘要翻译：调节装置被指定用于控制独立可控光束偏转元件（28）的平面布置，利用该调节装置可以可变地照明微光刻投射曝光装置的照明系统的光瞳表面。每个光束偏转元件（28）根据施加到光束偏转元件（28）的控制信号来偏转照射在其上的投影光束（32）。该控制装置包括一个测量装置，通过所产生的测量信号，和基于模型的状态估计，其表示使用测量信号，所述光束偏转元件（28）偏转并它的时间导数来确定其中所造成的估计的状态向量。此外，控制器被提供，其估计的状态向量和由所述光束偏转元件（28）为一组值所引起的偏转和它的时间导数可以被提供，并与连接到一个操作变量（多个）施加在所述光束偏转元件（28）的控制信号是可控制的，

10. 发明公开

EP1621930A3 Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus 审中-公开
标题翻译：用于微光刻投射曝光系统的照明系统
公开(公告)号：EP1621930A3
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：EP05014065.6
申请日：2005-06-29
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Fiolka, Damian , Lindner, Ralf , Scharnweber, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B27/286 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus (PEA) has a first polarization manipulator (PM1; PM21; PM31; PM41; PM51; PM611, PM621; PM111), a second polarization manipulator (PM2; PM22; PM32; PM42; PM52; PM612, PM622; PM112) and at least one optical element (L1, L2, 18, 30) located in between. The polarization manipulators ensure that the direction of the electric field vector of a light ray (R) varies in time between the polarization manipulators, whereas the polarization state is fixed outside the polarization manipulators. This prevents high energy light from inducing birefringence in optical elements arranged between the two polarization manipulators.

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