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1. 发明授权

EP1326117B1 Ophtalmoskopie-Vorsatzmodul und Operationsmikroskop 有权
标题翻译：检眼镜附属模块和手术显微镜
公开(公告)号：EP1326117B1
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：EP03004705.4
申请日：2001-09-01
申请人： Carl Zeiss , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： Gottwaldt, Klaus , Merz, Franz , Reimer, Peter , Strähle, Fritz
IPC分类号： G02B21/22 , G02B21/00 , G02B17/04
CPC分类号： G02B17/045 , A61B90/20 , G02B5/04 , G02B17/04 , G02B21/0012 , G02B21/025 , G02B21/18 , G02B21/22

2. 发明公开

EP1326117A1 Ophtalmoskopie-Vorsatzmodul und Operationsmikroskop 有权
公开(公告)号：EP1326117A1
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：EP03004705.4
申请日：2001-09-01
申请人： Carl Zeiss , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： Gottwaldt, Klaus , Merz, Franz , Reimer, Peter , Strähle, Fritz
IPC分类号： G02B21/22 , G02B21/00 , G02B17/04
CPC分类号： G02B17/045 , A61B90/20 , G02B5/04 , G02B17/04 , G02B21/0012 , G02B21/025 , G02B21/18 , G02B21/22
摘要： Ein Vorsatzmodul 750 zum Anbau an ein Mikroskop-Hauptobjektiv 704 hat ein einstellbares Fokus-Optiksystem 752 zur Variation der Brennweite des Mikroskop-Hauptobjektivs 704 und ein dem Fokus-Optiksystem 752 zugeordnetes System zur Bildumkehr 751. Für den Anbau des Vorsatzmoduls an das Mikroskop-Hauptobjektiv 704 ist das System zur Bildumkehr 751 auf der zum Mikroskop-Hauptobjektiv 704 weisenden Seite des Vorsatzmoduls 750 vorgesehen. Das System zur Bildumkehr 751 ist als System zur Strahlvertauschung von wenigstens zwei binokularen Beobachtungsstrahlengängen (702, 703, 708) ausgelegt.
摘要翻译：孔棱镜图像反转系统（500）反转并转置一组光束路径（503a，504a，503b，504b）。

3. 发明授权

EP1326117B2 Ophtalmoskopie-Vorsatzmodul und Operationsmikroskop 有权
标题翻译：检眼镜附属模块和手术显微镜
公开(公告)号：EP1326117B2
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：EP03004705.4
申请日：2001-09-01
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung trading as Carl Zeiss
发明人： Gottwaldt, Klaus , Merz, Franz , Reimer, Peter , Strähle, Fritz
IPC分类号： G02B21/22 , G02B21/00 , G02B17/04
CPC分类号： G02B17/045 , A61B90/20 , G02B5/04 , G02B17/04 , G02B21/0012 , G02B21/025 , G02B21/18 , G02B21/22

4. 发明公开

EP2960706A1 BELEUCHTUNGSVORRICHTUNG FÜR EIN OPTISCHES BEOBACHTUNGSGERÄT 有权
标题翻译：照明装置的光学监测装置
公开(公告)号：EP2960706A1
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：EP15172226.1
申请日：2015-06-16
申请人： Carl Zeiss Meditec AG
发明人： Reimer, Peter , Kolster, Daniel , Merz, Franz , Meinkuß, Stefan
IPC分类号： G02B21/08 , G02B21/12
CPC分类号： G02B21/06 , G02B21/0012 , G02B21/082 , G02B21/125
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsvorrichtung (100) für ein optisches Beobachtungsgerät, die eine Lichtquelle, umfassend eine erste Einzellichtquelle (102b) und eine zweite Einzellichtquelle (102a), die in einer Lichtquellenebene angeordnet sind, aufweist. Die erste Einzellichtquelle (102b) weist einen ersten Mittelpunkt M1 und die zweite Einzellichtquelle (102a) einen zweiten Mittelpunkt M2 auf. Eine erste Achsrichtung A1 ist durch einen Vektor von dem zweiten Mittelpunkt M2 zu dem ersten Mittelpunkt M1 definiert. Durch eine Beleuchtungsoptik ist eine optische Achse Z definiert ist, die senkrecht zur Lichtquellenebene angeordnet und die Lichtquellenebene in einem Durchstoßpunkt (113) durchstößt, wobei die Lichtquelle durch die Beleuchtungsoptik nach Unendlich abgebildet ist. Die erste Einzellichtquelle (102b) weist eine erste Ausdehnung L1 entlang der ersten Achsrichtung A1 auf. Der Mittelpunkt M1 ist um einen Betrag Δ in positiver Richtung entlang der Achsrichtung A1 gegenüber dem Durchstoßpunkt (113) der optischen Achse Z durch die Lichtquellenebene versetzt, wobei für den Versatz folgende Beziehung erfüllt ist: 0.1 * L1 ≤ Δ ≤ 1 * L1, bevorzugt 0.15 * L1 ≤ Δ ≤ 0.7 * L1, besonders bevorzugt 0.2 * L1 ≤ Δ ≤ 0.5 * L1.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学观测仪的照明装置（100），包括：光源，包括：第一单独的光源（102B）和布置在光源平面中的第二单独的光源（102A）。第一单独光源（102B）包括第一中心M1和第二单独光源（102A）向第二中心M2。第一轴向方向A1由从第二中心M2到第一中心M1的矢量定义的。通过照明光学系统是被限定的光轴Z，布置成垂直于该平面并且在穿刺点（113）的光源平面刺穿，其中由所述照明光学系统的光源被成像到无穷大的光源。第一单独光源（102B）具有沿着所述第一轴向方向A1的第一尺寸L1。中心M1被“沿着轴向方向A1相对于光轴Z的刺穿点（113）由光源平面中，其中，对于所述偏移量满足以下关系的正方向偏移量：0.1 * L1‰¤”的量‰¤1 * L1 ，优选0时15 * L1‰¤ “‰¤0.7 * L1，更优选为0.2 * L1‰¤” ‰¤0.5 * L1。

5. 发明公开

EP2853934A1 Optisches Abbildungssystem 审中-公开
标题翻译：光学成像系统
公开(公告)号：EP2853934A1
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：EP14184931.5
申请日：2014-09-16
申请人： Carl Zeiss Meditec AG
发明人： Merz, Franz , Högele, Artur
IPC分类号： G02B21/02 , G02B21/22
CPC分类号： G02B21/0012 , A61B3/12 , G02B21/02 , G02B21/22
摘要： Optisches Abbildungssystem (1) zur Erzeugung eines Bildes einer Objektebene mit einem Linsensystem, das ein Hauptobjektiv (20) und eine Reduzieroptik vor dem Hauptobjektiv (20) umfasst und das entlang einer optischen Achse 23 ausgerichtet ist. Die Reduzieroptik weist eine erste Linse (22) mit einer positiven Brechkraft (22) und eine zweite Linse (21) mit einer negativen Brechkraft auf. Eine objektseitige erste Hauptebene (H) und eine bildseitige zweite Hauptebene (H') sind durch das Linsensystem definiert. Durch das optische Abbildungssystem ist ein Beobachtungsstrahlengang definiert, der derart durch das Linsensystem geführt ist, dass der Beobachtungsstrahlengang in der ersten Hauptebene (H) und in der zweiten Hauptebene (H') jeweils einen Abstand B zur optischen Achse des Linsensystems aufweist.
Erfindungsgemäß ist die erste Linse (22) aus einem ersten Material gefertigt, das eine erste Abbezahl aufweist, und die zweite Linse (21) ist aus einem zweiten Material gefertigt ist, das eine zweite Abbezahl aufweist, wobei die erste Abbezahl größer ist als die zweite Abbezahl. Das Linsensystem ist derart ausgestaltet, dass für einen Wellenlängenbereich λ von 480nm ≤ λ ≤ 660nm und für eine Hauptwellenlänge e = 546nm folgende Beziehung erfüllt ist: arctan B f e ⁢ ʹ + f e ⋅ f e ⁢ ʹ / f λ - f e 0.5 ⁢ ʹ ,
wobei gilt:
fe = objektseitige Brennweite für die Hauptwellenlänge e bezüglich der ersten Hauptebene (H);
fx = objektseitige Brennweite für die Wellenlänge λ bezüglich der ersten Hauptebene (H);
f e ' = bildseitige Brennweite für die Hauptwellenlänge e bezüglich der zweiten Hauptebene (H').
摘要翻译：用于形成具有一个透镜系统，它包括一个主要目标（20）的对象平面的图像的光学成像系统（1），并在主要目标（20）和其前面的减少光学装置被沿着光轴23对准的还原性光学具有正折光力（22）和具有负屈光力的第二透镜（21）的第一透镜（22）。物体侧的第一主平面（H）和第二图像侧主平面（H“）由透镜系统中定义。由摄像光学系统，观察光束的路径被定义，其使得由透镜系统引导的是，在第一主平面（H），并且在每种情况下，第二主平面（H“）的观察光束路径具有距离B于透镜系统的光轴。根据本发明，第一材料的第一透镜（22）由具有第一阿贝数，以及所述第二透镜（21）由具有第二阿贝数，其中，所述第一阿贝数为大于第二个的第二材料阿贝。该透镜系统被设计为使得对于波长范围“480纳米的‰¤»‰¤为660nm和用于主波长E = 546nm处满足以下关系：反正切乙FE¢¹+ FE

6. 发明授权

EP2853933B1 Optisches Abbildungssystem 有权
公开(公告)号：EP2853933B1
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：EP14184905.9
申请日：2014-09-16
申请人： Carl Zeiss Meditec AG
发明人： Merz, Franz , Högele, Artur
IPC分类号： G02B21/02 , G02B21/22 , G02B21/00

7. 发明公开

EP2960705A1 BELEUCHTUNGSVORRICHTUNG FÜR EIN OPTISCHES BEOBACHTUNGSGERÄT 有权
标题翻译：照明装置的光学监测装置
公开(公告)号：EP2960705A1
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：EP15172224.6
申请日：2015-06-16
申请人： Carl Zeiss Meditec AG
发明人： Reimer, Peter , Kolster, Daniel , Merz, Franz , Meinkuß, Stefan
IPC分类号： G02B21/08 , G02B21/12
CPC分类号： A61B3/14 , A61B3/13 , G02B5/005 , G02B21/082 , G02B21/125
摘要： Beleuchtungsvorrichtung (1) für ein optisches Beobachtungsgerät, umfassend eine Beleuchtungslichtquelle (2, 50) mit unabhängig voneinander steuerbaren Einzellichtquellen (3a, 3b, 3c), die in einer ersten Ebene in einem zweidimensionalen Array (3, 100) angeordnet sind, und einen Beleuchtungsstrahlengang mit einer Beleuchtungsoptik (10) und einer optischen Achse (4). Durch die Beleuchtungsoptik (10) ist eine zu der ersten Ebene konjugierten Ebene gebildet. Eine Blendeneinrichtung (14, 200) ist in der zu der ersten Ebene konjugierten Ebene angeordnet. Die Blendeneinrichtung (14, 200) weist eine Anzahl von Blendenöffnungen (210) aufweist, wobei jede Blendenöffnung (210) einer Einzellichtquelle (3a, 3b, 3c) zugeordnet ist.
摘要翻译：照明设备（1），用于光学观察装置，其包括具有可独立控制各光源的照明光源（2，50）（3A，3B，3C）中以二维阵列的第一平面（3，100）被布置，以及照明光束路径用的照明光学部件（10）和光轴（4）。通过照明光学器件（10）形成的缀合物于第一平面。隔膜装置（14，200）被布置在共轭到所述第一平面。孔装置（14，200）具有多个孔（210），一个单一的光源的每一个孔（210）（3A，3B，3C）被分配。

8. 发明公开

EP2853933A1 Optisches Abbildungssystem 有权
标题翻译：光学成像系统
公开(公告)号：EP2853933A1
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：EP14184905.9
申请日：2014-09-16
申请人： Carl Zeiss Meditec AG
发明人： Merz, Franz , Högele, Artur
IPC分类号： G02B21/02 , G02B21/22
CPC分类号： G02B21/0012 , A61B3/12 , G02B21/02 , G02B21/22
摘要： Optisches Abbildungssystem (1) zur Erzeugung eines Bildes einer Objektebene mit einem Linsensystem, das ein Hauptobjektiv (20) und eine Reduzieroptik vor dem Hauptobjektiv (20) umfasst und das entlang einer optischen Achse 23 ausgerichtet ist. Die Reduzieroptik weist eine erste Linse (22) mit einer positiven Brechkraft (22) und eine zweite Linse (21) mit einer negativen Brechkraft auf. Eine objektseitige erste Hauptebene (H) und eine bildseitige zweite Hauptebene (H') sind durch das Linsensystem definiert. Durch das optische Abbildungssystem ist ein Beobachtungsstrahlengang definiert, der derart durch das Linsensystem geführt ist, dass der Beobachtungsstrahlengang in der ersten Hauptebene (H) und in der zweiten Hauptebene (H') jeweils einen Abstand B zur optischen Achse des Linsensystems aufweist.
Erfindungsgemäß ist die erste Linse (22) aus einem ersten Material gefertigt, das eine erste Abbezahl aufweist, und die zweite Linse (21) ist aus einem zweiten Material gefertigt ist, das eine zweite Abbezahl aufweist, wobei die erste Abbezahl größer ist als die zweite Abbezahl. Das Linsensystem ist derart ausgestaltet, dass für einen Wellenlängenbereich λ von 480nm ≤ λ ≤ 660nm und für eine Hauptwellenlänge e = 546nm folgende Beziehung erfüllt ist: arctan B f e ⁢ ʹ + f e ⋅ f e ⁢ ʹ / f λ - f e 0.5 ⁢ ʹ ,
wobei gilt:
fe = objektseitige Brennweite für die Hauptwellenlänge e bezüglich der ersten Hauptebene (H);
f λ = objektseitige Brennweite für die Wellenlänge λ bezüglich der ersten Hauptebene (H);
f e ' = bildseitige Brennweite für die Hauptwellenlänge e bezüglich der zweiten Hauptebene (H').
摘要翻译：用于形成具有一个透镜系统，它包括一个主要目标（20）的对象平面的图像的光学成像系统（1），并在主要目标（20）和其前面的减少光学装置被沿着光轴23对准的还原性光学具有正折光力（22）和具有负屈光力的第二透镜（21）的第一透镜（22）。物体侧的第一主平面（H）和第二图像侧主平面（H“）由透镜系统中定义。由摄像光学系统，观察光束的路径被定义，其使得由透镜系统引导的是，在第一主平面（H），并且在每种情况下，第二主平面（H“）的观察光束路径具有距离B于透镜系统的光轴。根据本发明，第一材料的第一透镜（22）由具有第一阿贝数，以及所述第二透镜（21）由具有第二阿贝数，其中，所述第一阿贝数为大于第二个的第二材料阿贝。该透镜系统被设计为使得对于波长范围“480纳米的‰¤»‰¤为660nm和用于主波长E = 546nm处满足以下关系：反正切乙FE¢¹+ FE

9. 发明授权

EP1997423B1 Operationsmikroskop mit Beleuchtungseinrichtung 有权
标题翻译：手术显微镜与照明装置
公开(公告)号：EP1997423B1
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：EP08156255.5
申请日：2008-05-15
申请人： Carl Zeiss Surgical GmbH
发明人： Abele, Alfons , Reimer, Peter , Seiwert, Anja , Strähle, Fritz , Merz, Franz
IPC分类号： A61B3/135 , A61F9/007 , G02B21/00 , G02B21/08
CPC分类号： G02B21/082 , A61B3/135 , A61B90/20 , A61B90/30 , A61F9/007 , G02B21/0012 , G02B21/22

10. 发明公开

EP1997423A1 Operationsmikroskop mit Beleuchtungseinrichtung 有权
标题翻译：操作管理员Beleuchtungseinrichtung
公开(公告)号：EP1997423A1
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：EP08156255.5
申请日：2008-05-15
申请人： Carl Zeiss Surgical GmbH
发明人： Abele, Alfons , Reimer, Peter , Seiwert, Anja , Strähle, Fritz , Merz, Franz
IPC分类号： A61B3/135 , A61F9/007 , G02B21/00 , G02B21/08
CPC分类号： G02B21/082 , A61B3/135 , A61B90/20 , A61B90/30 , A61F9/007 , G02B21/0012 , G02B21/22
摘要： Die Erfindung betrifft ein Operationsmikroskop (100) mit einer Beleuchtungseinrichtung (110). Die Beleuchtungseinrichtung (110) kann mit einem ersten Beleuchtungsstrahlengang (111) und mit einem zweiten Beleuchtungsstrahlengang (112) Beleuchtungslicht zum Objektbereich (105) führen. In dem ersten Beleuchtungsstrahlengang (111) ist eine Lichtaustrittseinheit vorgesehen. In dem zweiten Beleuchtungsstrahlengang ist eine Leuchtfeldblende angeordnet. Der erste Beleuchtungsstrahlengang (111) weist eine Beleuchtungsoptik auf, welche die Lichtaustritts-Ebene der Lichtaustrittseinheit oder eine zur Lichtaustrittsebene konjugierte Ebene in eine erste Bildebene (350) abbildet. Erfindungsgemäß ist in dem zweiten Beleuchtungsstrahlengang (112) eine Beleuchtungsoptik vorgesehen, welche die Leuchtfeldblende in eine zweite, von der ersten Bildebene verschiedene zweite Bildebene (250) abbildet.
摘要翻译：操作显微镜（100）具有照明装置（110），其具有用于对象区域（105）的照明光束路径（111）和另一照明光束路径（112）。图像平面（350）与另一个图像平面（250）不同，其中在后面的辐射照明光束路径中设置有光场光阑图像照明光学元件（101）。

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