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1. 发明公开

EP2469339A1 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
标题翻译：光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：EP2469339A1
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：EP11188863.2
申请日：2011-11-11
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： Vermeulen, Johannes , De Groot, Antonius , Cadee, Theodorus , DeE Boeij, Jeroen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70758 , G03F7/70691
摘要： Lithography apparatus comprising a projection system (PS), a carrier (WT); and a drive system (16) for moving the carrier relative to the projection system in a plane defined by reference to orthogonal axes X and Y, wherein: the drive system comprises: a shuttle (2) constructed and arranged to move parallel to the Y-axis; a shuttle connector (4) for connecting the shuttle to the carrier, the shuttle connector being such as to allow movement of the carrier in a direction parallel to the X-axis relative to the shuttle; and a shuttle driver (16) for driving movement of the shuttle parallel to the Y-axis, wherein: the shuttle is located to one side only of the carrier in a direction parallel to the X-axis and only one of the shuttle is connected to the carrier; and the shuttle driver and shuttle connector are configured to supply at least 10% of the Y-component of forces applied to the carrier by the drive system.
摘要翻译：包括投影系统（PS），载体（WT）的光刻设备; 以及驱动系统（16），用于相对于所述投影系统在由正交轴X和Y定义的平面中移动所述载体，其中：所述驱动系统包括：梭（2），构造和布置成平行于所述Y -轴; 梭子连接器（4），用于将梭子连接到载体上，梭子连接器允许载体沿平行于X轴的方向相对于梭子移动; 以及用于驱动梭子平行于Y轴运动的梭子驱动器（16），其中：梭子仅在与X轴平行的方向上位于运载器的一侧，并且只有一个梭子连接给承运人; 并且梭驱动器和梭式连接器构造成供应由驱动系统施加到载体的力的Y分量的至少10％。

2. 发明公开

EP2202581A1 Lithographic apparatus and positioning apparatus 有权
标题翻译： Lithografische Vorrichtung und Positionierungsvorrichtung
公开(公告)号：EP2202581A1
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：EP09175848.2
申请日：2009-11-12
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： Gilissen, Noud , Cadee, Theodorus
IPC分类号： G03F7/20 , F25B21/00
CPC分类号： G03F7/70875 , F25B21/00 , G03F7/70858 , Y02B30/66
摘要： A lithographic apparatus includes a moveable first object (OB1), and a heat exchanger including a heat exchanging body (BO), the heat exchanging body including a material with electro-caloric or magneto-caloric properties and configured to affect the temperature of the first object by exchanging heat with the moveable first object, and a generator (GE) configured to supply an electromagnetic field (EM) to the heat exchanging body to change the temperature of the heat exchanging body in order to cool or heat the first object.
摘要翻译：光刻设备包括可移动的第一物体（OB1）和包括热交换体（BO）的热交换器，所述热交换体包括具有电热量或磁热量特性的材料，并且被配置为影响第一对象通过与可移动的第一物体交换热量;以及发电机（GE），被配置为向热交换体提供电磁场（EM），以改变热交换体的温度，以便冷却或加热第一物体。

3. 发明授权

EP2202581B1 Lithographic apparatus and positioning apparatus 有权
标题翻译：一种光刻设备和定位装置
公开(公告)号：EP2202581B1
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：EP09175848.2
申请日：2009-11-12
申请人： ASML Netherlands BV
发明人： Gilissen, Noud , Cadee, Theodorus
IPC分类号： G03F7/20 , F25B21/00
CPC分类号： G03F7/70875 , F25B21/00 , G03F7/70858 , Y02B30/66

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