专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

51. 发明公开

EP4070365A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HEIZEN EINES SUBSTRATES 审中-公开
公开(公告)号：EP4070365A1
公开(公告)日：2022-10-12
申请号：EP19813323.3
申请日：2019-12-02
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： BURGGRAF, Jürgen
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/18 , H01L21/683

52. 发明公开

EP3912185A1 MESSEINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG DES VERLAUFS EINER BONDWELLE 审中-公开
公开(公告)号：EP3912185A1
公开(公告)日：2021-11-24
申请号：EP19701096.0
申请日：2019-01-18
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： ZINNER, Dominik , MALLINGER, Jürgen , PLACH, Thomas , POVAZAY, Boris , ROHRINGER, Harald , SÜSS, Jürgen Markus
IPC分类号： H01L21/66 , G01N21/00 , H01L23/00 , G01B11/30 , H01L21/18

53. 发明公开

EP3731258A1 VORRICHTUNG ZUM AUSRICHTEN ZWEIER SUBSTRATE 审中-公开
公开(公告)号：EP3731258A1
公开(公告)日：2020-10-28
申请号：EP20178775.1
申请日：2009-09-22
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Figura, Daniel
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/68 , H01L21/67
摘要： Vorrichtung zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche (1k) eines auf einer ersten Plattform (10) aufnehmbaren ersten Substrats (1) mit einer zweiten Kontaktfläche (2k) eines auf einer zweiten Plattform (20) aufnehmbaren zweiten Substrats (2) mit folgenden Merkmalen:
- erste X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche (1k) angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) sind durch erste Erfassungsmittel (7, 7') in einer ersten X-Y-Ebene (5) in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats (1) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- zweite X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche (2k) angeordneten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) korrespondierenden zweiten Ausrichtungsschlüsseln (4.1 bis 4.n) sind durch zweite Erfassungsmittel (8, 8') in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene (5) parallelen X-Y-Ebene (6) in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats (2) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- die erste Kontaktfläche (1k) ist auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen in einer ersten Ausrichtungsposition und die zweite Kontaktfläche (2k) ist auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen in einer zweiten Ausrichtungsposition ausrichtbar.

54. 发明授权

EP3507652B1 ANLAGE UND VERFAHREN ZUM PRÄGEN VON MIKRO- UND/ODER NANOSTRUKTUREN 有权
公开(公告)号：EP3507652B1
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：EP16770451.9
申请日：2016-09-05
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： LINDNER, Friedrich Paul , ZAGLMAYR, Harald , SCHÖN, Christian , GLINSNER, Thomas , REISINGER, Evelyn , FISCHER, Peter , LUKSCH, Othmar
IPC分类号： G03F7/00

55. 发明授权

EP3028295B1 VERFAHREN ZUM BONDEN VON SUBSTRATEN 有权
公开(公告)号：EP3028295B1
公开(公告)日：2020-10-21
申请号：EP13774373.8
申请日：2013-09-25
申请人： Ev Group E. Thallner GmbH
发明人： WIMPLINGER, Markus , DRAGOI, Viorel , FLÖTGEN, Christoph
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/18

56. 发明授权

EP3417283B9 METROLOGIEVORRICHTUNG UND METROLOGIEVERFAHREN 有权
公开(公告)号：EP3417283B9
公开(公告)日：2020-07-29
申请号：EP16706817.0
申请日：2016-02-17
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： EIBELHUBER, Martin , HEILIG, Markus , POVAZAY, Boris
IPC分类号： G01N21/17 , G01N21/88 , G01N21/45 , G01N29/24

57. 发明公开

EP3640975A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BONDEN VON SUBSTRATEN 审中-公开
公开(公告)号：EP3640975A1
公开(公告)日：2020-04-22
申请号：EP19215305.4
申请日：2017-09-21
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： ZINNER, Dominik , WAGENLEITNER, Thomas , SÜSS, Jürgen Markus , Plach, Thomas
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/18 , H01L21/20 , H01L21/687 , H01L23/00 , H01L21/762
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bonden eines ersten Substrats (4o) mit einem zweiten Substrat (4u) an einander zugewandten Kontaktflächen (4k) der Substrate (4o, 4u), wobei das erste Substrat (4o) auf einer ersten Aufnahmeeinrichtung (1o) und das zweite Substrat (4u) auf einer zweiten Aufnahmeeinrichtung (1u) aufgenommen werden, und wobei zwischen dem zweiten Substrat (4u) und der zweiten Aufnahmeeinrichtung (1u) eine Platte (17u) angeordnet ist, wobei das zweite Substrat (4u) mit der Platte (4u) vor und/oder während des Bondens gegenüber der zweiten Aufnahmeeinrichtung (1u) verformt wird.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine korrespondierende Vorrichtung und eine korrespondierende Platte.

58. 发明公开

EP3640971A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BONDEN VON SUBSTRATEN 审中-公开
公开(公告)号：EP3640971A1
公开(公告)日：2020-04-22
申请号：EP19214918.5
申请日：2016-02-16
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： WAGENLEITNER, Thomas , FEHKÜHRER, Andreas
IPC分类号： H01L21/20 , B23P19/00 , H01L21/67
摘要： Es wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bonden zweier Substrate vorgeschlagen.

59. 发明公开

EP3591470A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM PRÄGEN EINER NANOSTRUKTUR 审中-公开
公开(公告)号：EP3591470A1
公开(公告)日：2020-01-08
申请号：EP19186550.0
申请日：2014-04-22
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Kreindl, Gerald
IPC分类号： G03F7/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Prägen einer Nanostruktur (13).

60. 发明授权

EP3420782B1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HALTERUNG, ROTATION SOWIE HEIZUNG UND/ODER KÜHLUNG EINES SUBSTRATS 有权
公开(公告)号：EP3420782B1
公开(公告)日：2019-09-04
申请号：EP17703340.4
申请日：2017-01-24
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： WIESER, Thomas , TISCHLER, Michael
IPC分类号： H05B6/10 , H01L21/687 , F25B21/02 , H01L21/67

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式