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    • 41. 发明公开
    • CLEANING FLUID FOR SEMICONDUCTOR, AND CLEANING METHOD USING SAME
    • REINIGUNGSFLÜSSIGKEITFÜRHALBLEITER UND REINIGUNGSVERFAHRENDAFÜR
    • EP2876669A1
    • 2015-05-27
    • EP13820182.7
    • 2013-07-08
    • Nissan Chemical Industries, Ltd.
    • SASSA, SuguruSHIGAKI, Shuhei
    • H01L21/304B08B9/027H01L21/027
    • C11D11/0041C11D3/042C11D3/2044C11D3/2068C11D3/2096C11D3/43C11D7/08C11D7/5004C11D11/0047H01L21/0206H01L21/31H01L21/6704
    • [Problem] To provide a cleaning fluid for effectively removing metallic and other impurities, in semiconductor element production steps, that are present in the parts of a semiconductor production device through which a liquid chemical for lithography is to be passed in a lithography step, before the passing of the liquid chemical in order to prevent defects from occurring on the semiconductor substrate through resist pattern formation or through semiconductor substrate processing. [Solution] A cleaning fluid for cleaning the parts of a semiconductor production device through which a liquid chemical for lithography is to be passed in a lithography step in semiconductor production, the cleaning fluid comprising an inorganic acid, water, and a hydrophilic organic solvent. The concentration of the inorganic acid in the cleaning fluid is preferably 0.0001-60 mass% relative to the total amount of the cleaning fluid.
    • 本发明提供一种在半导体元件生产步骤中有效除去金属和其它杂质的清洗液,该半导体元件生产步骤存在于半导体生产设备中,在光刻步骤中通过光刻液化学品将通过该半导体生产设备的部分,之前 通过液体化学品以防止在半导体衬底上通过抗蚀剂图案形成或通过半导体衬底处理发生缺陷。 [解决方案]一种清洗液,其用于清洗半导体制造装置的部件,通过该半导体制造装置,通过半导体制造中的平版印刷工序,通过该半导体制造装置的部件,所述清洗液含有无机酸,水和亲水性有机溶剂。 清洗液中无机酸的浓度相对于清洗液的总量优选为0.0001-60质量%。
    • 49. 发明公开
    • Detektion von Oberflächenverschmutzung
    • Detektion vonOberflächenverschmutzung
    • EP2764776A1
    • 2014-08-13
    • EP13154384.5
    • 2013-02-07
    • Thonhauser GmbH
    • Herzog, DanielThonhauser, Philip
    • A01N59/02C11D3/39C11D7/10C11D7/12C11D7/16C11D11/00
    • G01N21/78A01N59/02C11D3/124C11D3/1266C11D3/3947C11D7/20C11D11/0041G01N31/22G01N33/52G01N2021/7796Y02A50/358A01N59/00A01N2300/00
    • Die Erfindung betrifft die Verwendung einer Zusammensetzung auf wässriger Basis, die zumindest ein starkes Oxidationsmittel, ein Farbindikatorsystem und ein oder mehrere Verdickungsmittel umfasst, zum Detektieren etwaiger Verschmutzung einer Oberfläche mit organischen Substanzen mittels Sichtprüfung nach flächigem Auftrag der Zusammensetzung auf die Oberfläche, wobei die Zusammensetzung nach dem flächigen Auftrag aufgrund der Wirkung des Verdickungsmittels für eine vorbestimmte Zeitspanne im Wesentlichen nicht fließfähig ist.
    • 1.一种含水组合物的用途,所述水性组合物包含(a)至少一种强氧化剂,(b)颜色指示剂系统和(c)至少一种增稠剂,用于在平面施用之后通过目视检查来检测有机物质的表面污染 组合物到表面。 由于增稠剂的作用,施加在该区域上的组合物在预定时间段内是不可流动的。 增稠剂在组合物中的预定时间内是稳定的。 1.一种含水组合物的用途,所述水性组合物包含(a)至少一种强氧化剂,(b)颜色指示剂系统和(c)至少一种增稠剂,用于在平面施用之后通过目视检查来检测有机物质的表面污染 组合物到表面。 由于增稠剂的作用,施加在该区域上的组合物在预定时间段内是不可流动的。 增稠剂在组合物中的预定时间内是稳定的。 增稠剂包括合成页硅酸盐,致热硅酸,脂肪烷基(苯)硫酸盐,磺酸盐,羧酸盐,磷酸盐和/或氧化胺。 施加到表面的组合物的颜色变化在预定时间段内在这一点显示表面的有机污染。