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    • 44. 发明公开
    • Vorrichtung zum Aufbringen von Beschichtungsgut auf einen Gegenstand
    • EP0835692A2
    • 1998-04-15
    • EP97114150.2
    • 1997-08-16
    • Hugo Brennenstuhl GmbH & Co. KG
    • Brennenstuhl, Hugo
    • B05B1/26B05B5/08B05B7/14B05B15/04
    • B05B7/1486B05B1/04B05B1/262B05B5/087B05B12/18
    • Eine Vorrichtung (2) zum Aufbringen von Beschichtungsgut in Gestalt von Teilchen auf einen Gegenstand (1) enthält eine Prallfläche (9) und eine Teilchen-Strahldüsenanordnung, aus der ein Teilchenstrom mit einem Strahldruck gegen die Prallfläche (9) geblasen wird, an der die Teilchen zum Gegenstand (1) hin umgelenkt werden. Die Teilchen werden an einer Elektrodeneinrichtung (13, 14) mit einem zum Potential des Gegenstandes (1) unterschiedlichen Potential aufgeladen. Entweder sind zwei Teilchen-Strahldüsenanordnungen (7, 8) zum schrägen Aufblasen von zwei Teilchenströmen (5, 6) gegen die Prallfläche (9) von entgegengesetzten Seiten her vorhanden, so daß die zum Gegenstand (1) hin umgelenkten Teilchenströme (5, 6) zum Gegenstand (1) hin einen gemeinsamen Teilchenstrom (4) bilden, wobei zur Veränderung der Richtung dieses Teilchenstroms (4) der Strahldruck an mindestens einer der Teilchen-Strahldüsenanordnungen (7, 8) veränderbar ist. Alternativ hierzu kann eine einzige Teilchen-Strahldüsenanordnung zwischen der Prallfläche und dem Gegenstand so angeordnet sein, daß der austretende Teilchenstrom quer zur Prallfläche gegen diese gerichtet ist, wobei seitlich vom Teilchenstrom mindestens eine Druckluft-Strahldüsenanordnung angeordnet ist, mit der zum Steuern der Richtung des Teilchenstroms ein Druckluft-Strom von der Seite her gegen den Teilchenstrom gerichtet werden kann.
    • 该装置具有冲击表面和颗粒辐射喷嘴装置,颗粒流从该颗粒喷射装置喷射并冲击冲击表面,它们从该表面向待涂覆的物体偏转。 通过电极装置将颗粒充电到与物体的电压不同的电压。 两个喷嘴(7,8)可以从相对侧向冲击表面(9)吹送颗粒(5,6)。 偏转的颗粒形成指向物体(1)的共同流(4)。 普通颗粒流的方向通过改变至少一个喷嘴的喷射压力来改变。
    • 48. 发明公开
    • Electrostatically depositing smaller particles first
    • Elektrostatisches Beschichten zuerst mit kleineren Partikeln。
    • EP0435034A1
    • 1991-07-03
    • EP90123448.4
    • 1990-12-06
    • BALL CORPORATION
    • Lamirand, Joseph B.Raddatz, Dwight B.
    • B05D1/06B05B5/08B05B5/14
    • B05D1/06B05B5/084B05B5/087B05B5/14B05B16/95
    • Apparatus (74) and method are provided for electrostatically depositing first particles (64p) onto a work piece (18), and for subsequently depositing larger particles (64p) onto said work piece (18). The apparatus (74) includes a particle generator (20) for supplying particles (64) into a depositing chamber (22) proximal to a first end (54) thereof, for transporting the smaller of particles (64p) toward a second end (56) thereof of said depositing chamber (22), means (60a) for electrostatically charging said first (64p) and said smaller (64p) particles, and a transporting mechanism (26) for transporting said work piece (18) through said depositing chamber (22) starting at said second end (56) thereof.
    • 提供了装置(74)和方法用于将第一颗粒(64p)静电沉积到工件(18)上,并随后将更大的颗粒(64p)沉积到所述工件(18)上。 装置(74)包括用于将颗粒(64)供应到靠近其第一端(54)的沉积室(22)中的颗粒发生器(20),用于将较小的颗粒(64p)朝向第二端(56 ),用于对所述第一(64p)和所述较小(64p)颗粒进行静电充电的装置(60a)和用于通过所述沉积室(18)输送所述工件(18)的输送机构(26) 22)从其第二端(56)开始。