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41. 发明公开

EP2603790A1 MESSEINRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MESSUNG VON SCHICHTDICKEN UND FEHLSTELLEN EINES WAFERSTAPELS 有权
标题翻译：测量装置和测量厚度的方法和晶圆堆叠的缺陷
公开(公告)号：EP2603790A1
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：EP10790722.2
申请日：2010-11-12
申请人： Ev Group E. Thallner GmbH
发明人： WIMPLINGER, Markus
IPC分类号： G01N29/04 , G01N29/265 , G01N29/27 , G01N29/275 , G01B7/06 , G01B15/02 , G01B17/02 , G01B21/08 , G01N21/95 , H01L21/00 , H01L21/66
CPC分类号： H01L22/20 , G01B7/06 , G01B11/0625 , G01B17/02 , G01B17/025 , G01N21/9501 , G01N21/9505 , G01N29/043 , G01N29/265 , G01N29/27 , G01N29/275 , G01N2291/0231 , G01N2291/02854 , G01N2291/0289 , G01N2291/044 , G01N2291/2697 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L22/12
摘要： The invention relates to a measuring device and to a method for measuring and/or detecting layer thicknesses and/or defects in one or more layers of a wafer stack at a multiplicity of measurement points distributed on the wafer stack, and also to a corresponding wafer processing apparatus.

42. 发明公开

EP2450175A3 Vorrichtung zum gleichmäßigen Strukturieren von Substraten 有权
标题翻译：一种用于衬底的均匀图案形成
公开(公告)号：EP2450175A3
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：EP12151884.9
申请日：2007-11-08
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Lindner, Friedrich Paul , Glinsner, Thomas , Wimplinger, Markus
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00
CPC分类号： B29C59/022 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10T29/49124 , Y10T29/49815 , Y10T29/49895 , Y10T29/5313 , Y10T29/5317 , Y10T29/53265 , Y10T156/107
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Übertragung einer Nanostruktur (16) von einem Stempel (1) auf eine Flachseite (4s) eines flächigen Substrats (4) mit einem das Substrat (4) auf einer Substrataufnahmefläche (3a) aufnehmenden Substrathalter (3), einer parallel zur Substrataufnahmefläche (3a) ausrichtbaren und gegenüberliegend zu dieser anordenbaren Strukturfläche (1s) des Stempels (1) und einer orthogonal zur Substrataufnahmefläche (3a) wirkenden Aktuatoreinrichtung (10). Um kostengünstige Stempel verwenden zu können und dabei einen möglichst hohen Drucksatz, eine gute Randausbeute und eine homogene Struktur auf dem Substrat möglichst ohne Ausschuss zu erreichen, wird eine Vorrichtung vorgeschlagen, mit der die durch den Stempel auf die Substratoberfläche wirkende resultierende Kraft entlang der Stempelfläche verschoben werden kann.

43. 发明公开

EP2520414A2 Vorrichtung zum Heißprägen einer Polymerschicht 有权
标题翻译： Vorrichtung zumHeißprägeneiner Polymerschicht
公开(公告)号：EP2520414A2
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：EP12177590.2
申请日：2009-08-22
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Kast, DI Dr. Michael
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00
CPC分类号： B29C59/022 , B29C35/0272 , B29C35/0288 , B29C59/02 , B29C2059/023 , B29L2031/7562 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Heißprägen einer magnetische Nanopartikel (N) enthaltenden Polymerschicht (1) mit folgenden Merkmalen:
- einem dem Substrat (2) gegenüberliegend anordenbaren Prägestempel (4),
- einer den Prägestempel (4) gegen die Polymerschicht (1) mit Druck beaufschlagbaren Druckbeaufschlagungseinrichtung (5),
- einer die Polymerschicht (1) mit einem Magnetfeld zur Anregung der magnetischen Nanopartikel (N) heizbaren Magnetfelderzeugungseinrichtung (6), die die Polymerschicht (1) spezifisch aufheizend ausgebildet ist.
摘要翻译：一种装置，其中聚合物层（1）与冲头（4）相对布置的加压单元（5）和其中聚合物层用磁场加热以激励磁性纳米颗粒的磁场产生单元（6）（N），使得聚合物层形成在基底上。

44. 发明公开

EP2450175A2 Vorrichtung zum gleichmäßigen Strukturieren von Substraten 有权
标题翻译：用于基材的均匀图案形成的方法和装置
公开(公告)号：EP2450175A2
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：EP12151884.9
申请日：2007-11-08
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Lindner, Friedrich Paul , Glinsner, Thomas , Wimplinger, Markus
IPC分类号： B29C59/02 , G03F7/00
CPC分类号： B29C59/022 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10T29/49124 , Y10T29/49815 , Y10T29/49895 , Y10T29/5313 , Y10T29/5317 , Y10T29/53265 , Y10T156/107
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Übertragung einer Nanostruktur von einem Stempel auf eine Flachseite eines flächigen Substrats mit einem das Substrat auf einer Substrataufnahmefläche aufnehmenden Substrathalter, einer parallel zur Substrataufnahmefläche ausrichtbaren und gegenüberliegend zu dieser anordenbaren Strukturfläche des Stempels und einer orthogonal zur Substrataufnahmefläche wirkenden Aktuatoreinrichtung. Um kostengünstige Stempel verwenden zu können und dabei einen möglichst hohen Drucksatz, eine gute Randausbeute und eine homogene Struktur auf dem Substrat möglichst ohne Ausschuss zu erreichen, wird eine Vorrichtung vorgeschlagen, mit der die durch den Stempel auf die Substratoberfläche wirkende resultierende Kraft entlang der Stempelfläche verschoben werden kann.
摘要翻译：该装置具有保持器基板（3）接收关于接收的表面的基片一个基板（4）（1）。模具的结构面的取向平行于和位于相反于接收到所述管芯的表面上的底物。的致动器垂直地作用于接收表面上的衬底，并且包括两个可单独控制的和/或调节表致动单元（10.3），用于施加在模具或基片与力，以保证模具，其中，所述力传递正交的结构表面的转印基材接收表面。因此独立claimsoft包括用于传递环的平坦侧面的所涉及的平面基底的结构的方法。

45. 发明公开

EP2325121A1 Transportsystem zur Aufnahme und zum Transport von flexiblen Substraten 有权
标题翻译：运输系统zur Aufnahme und zum Transport von flexiblen Substraten
公开(公告)号：EP2325121A1
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：EP09014401.5
申请日：2009-11-18
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Lindner, Paul , Glinsner, Thomas , Kreindl, Gerald
IPC分类号： B65H37/00
CPC分类号： B65H37/002
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Transportfolie sowie ein Transportsystem zur Aufnahme und zum Transport von mindestens einem dünnen, flexiblen Substrat und ein korrespondierendes Verfahren sowie eine Verwendung einer flexiblen Transportfolie zur Aufnahme und zum Transport von mindestens einem dünnen, flexiblen Substrat, wobei die Substrate zumindest temporär an der Transportfolie fixierbar oder fixiert sind und wobei die Transportfolie durch Antriebsmittel zum Transport der Substrate antreibbar ist.
摘要翻译：箔/薄膜具有通过柔性粘合剂临时固定在输送箔/膜上的基底，其中运输箔/膜可通过驱动单元驱动以输送基底。运输箔/膜制成环形带并由塑料和/或纤维材料形成。运输箔/膜卷绕在运输辊上。衬底由半导体或连接半导体的材料的材料和诸如玻璃，硅，砷化镓，磷化铟和陶瓷之类的材料之一形成。还包括用于沿着运输系统的运输距离容纳和运输薄的柔性基底的方法的独立权利要求。

46. 发明公开

EP2299472A1 Vorrichtung zum Ausrichten zweier Substrate 有权转让
标题翻译： Vorrichtung zum Ausrichten zweier基材
公开(公告)号：EP2299472A1
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：EP09012023.9
申请日：2009-09-22
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： Figura, Daniel
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/68
摘要： Vorrichtung zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche (1k) eines auf einer ersten Plattform (10) aufnehmbaren ersten Substrats (1) mit einer zweiten Kontaktfläche (2k) eines auf einer zweiten Plattform (20) aufnehmbaren zweiten Substrats (2) mit folgenden Merkmalen:
- erste X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche (1k) angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) sind durch erste Erfassungsmittel (7, 7') in einer ersten X-Y-Ebene (5) in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats (1) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- zweite X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche (2k) angeordneten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln (3.1 bis 3.n) korrespondierenden zweiten Ausrichtungsschlüsseln (4.1 bis 4.n) sind durch zweite Erfassungsmittel (8, 8') in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene (5) parallelen X-Y-Ebene (6) in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats (2) unabhängigen X-Y-Koordinatensystem erfassbar,
- die erste Kontaktfläche (1k) ist auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen in einer ersten Ausrichtungsposition und die zweite Kontaktfläche (2k) ist auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen in einer zweiten Ausrichtungsposition ausrichtbar.
Verfahren zum Ausrichten einer ersten Kontaktfläche eines auf einer ersten Plattform aufnehmbaren ersten Substrats mit einer zweiten Kontaktfläche eines auf einer zweiten Plattform aufnehmbaren zweiten Substrats mit folgenden Schritten:
- Anordnung der ersten Kontaktfläche in einer ersten X-Y-Ebene und der zweiten Kontaktfläche in einer zweiten, zur ersten X-Y-Ebene parallelen X-Y-Ebene,
- Erfassung von X-Y-Positionen von entlang der ersten Kontaktfläche angeordneten ersten Ausrichtungsschlüsseln in einem ersten, von einer Bewegung des ersten Substrats unabhängigen X-Y-Koordinatensystem durch erste Erfassungsmittel und Erfassung von X-Y-Positionen von entlang der zweiten Kontaktfläche angeordneten zweiten, zu den ersten Ausrichtungsschlüsseln korrespondierenden Ausrichtungsschlüsseln in einem zweiten, von einer Bewegung des zweiten Substrats unabhängigen X-Y-Koordinatensystem durch zweite Erfassungsmittel,
- Ausrichtung der ersten Kontaktfläche in einer auf Grundlage der ersten X-Y-Positionen ermittelten ersten Ausrichtungsposition und Ausrichtung der zweiten Kontaktfläche in einer gegenüberliegend zu der ersten Kontaktfläche liegenden, auf Grundlage der zweiten X-Y-Positionen ermittelten zweiten Ausrichtungsposition,
摘要翻译：该装置具有检测单元（7），即激光推测器，检测沿着接触表面布置的对准键的X-Y位置。其他检测单元（8）检测与前一个键相对应的另一对准键的其它X-Y位置并且沿着另一个接触表面布置。后者的检测单元设置在笛卡尔X-Y坐标系中的X-Y级，其独立于衬底（2）之一的移动。这些表面分别对准在基于前者和后面的X-Y位置确定的对准位置。还包括用于将衬底的接触表面与另一衬底的另一个接触表面对准的方法的独立权利要求。

47. 发明公开

EP4176312A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BELICHTUNG EINER PHOTOSENSITIVEN BESCHICHTUNG 审中-实审
公开(公告)号：EP4176312A1
公开(公告)日：2023-05-10
申请号：EP20737007.3
申请日：2020-07-06
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： THALLNER, Bernhard , POVAZAY, Boris , ZENGER, Tobias , UHRMANN, Thomas
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/095

48. 发明公开

EP4176311A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ERZEUGEN VON MIKRO- UND/ODER NANOSTRUKTUREN 审中-实审
公开(公告)号：EP4176311A1
公开(公告)日：2023-05-10
申请号：EP20737009.9
申请日：2020-07-06
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： DUDUS, Anna , TREIBLMAYR, Dominik
IPC分类号： G03F7/00

49. 发明公开

EP4173027A1 SUBSTRATHALTER UND VERFAHREN ZUM FIXIEREN UND BONDEN EINES SUBSTRATS 审中-实审
公开(公告)号：EP4173027A1
公开(公告)日：2023-05-03
申请号：EP20735549.6
申请日：2020-06-29
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： PLACH, Thomas
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687

50. 发明公开

EP4139129A1 TRÄGERSUBSTRAT, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES TRÄGERSUBSTRATES SOWIE VERFAHREN ZUR ÜBERTRAGUNG EINER ÜBERTRAGUNGSSCHICHT VON EINEM TRÄGERSUBSTRAT AUF EIN PRODUKTSUBSTRAT 有权
公开(公告)号：EP4139129A1
公开(公告)日：2023-03-01
申请号：EP20720808.3
申请日：2020-04-20
申请人： EV Group E. Thallner GmbH
发明人： BURGGRAF, Jürgen
IPC分类号： B32B37/00

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