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    • 26. 发明公开
    • EXPOSURE UNIT, IMAGE FORMING UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS
    • 曝光单元,图像形成单元和图像形成装置
    • EP3196704A1
    • 2017-07-26
    • EP17152256.8
    • 2017-01-19
    • Oki Data Corporation
    • YAMAMURA, Akihiro
    • G03G15/04B41J2/45
    • G03G15/04036B41J2/451G03G15/04054G03G15/0409G03G2215/0141H04N1/02885H04N1/401H04N2201/0094
    • An exposure unit (3) includes a light-emitting element array (300) and a lens array (1). The light-emitting element array (300) includes a plurality of light-emitting elements (30) that are disposed in a first direction (X) and each emit a light beam (30L). The lens array (1) faces the light-emitting element array (300) in a second direction (Z) that is orthogonal to the first direction (X), and focuses the light beams (30L) emitted from the respective light-emitting elements (30). The following expression [3] is satisfied. A symmetric property (S), determined from the following expression [1], of a light amount distribution (E(X)) in the first direction (X) of at least one of the light beams (11L) focused by the lens array (1) satisfies the following expression [2]. S = HL − HR / XE / 2 0 ≤ S ≤ 0.65 Lo ≠ LB
    • 曝光单元(3)包括发光元件阵列(300)和透镜阵列(1)。 发光元件阵列(300)包括沿第一方向(X)设置并且分别发射光束(30L)的多个发光元件(30)。 透镜阵列(1)在与第一方向(X)正交的第二方向(Z)上面对发光元件阵列(300),并将从各个发光元件 (30)。 满足以下表达式[3]。 由以下表达式[1]确定的在由透镜阵列聚焦的至少一个光束(11L)的第一方向(X)上的光量分布(E(X))的对称性(S) (1)满足以下表达式[2]。 S = HL-HR / XE / 20≤S≤0.65Lo≠LB