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21. 发明授权

EP0153616B1 Heat-sensitive recording materials 失效
标题翻译：热敏记录材料
公开(公告)号：EP0153616B1
公开(公告)日：1991-04-03
申请号：EP85101151.0
申请日：1985-02-04
申请人： KANZAKI PAPER MANUFACTURING COMPANY LIMITED
发明人： Ishida, Katsuhiko , Nojima, Masaharu , Okamoto, Tosaku
IPC分类号： B41M5/30 , G03C1/60
CPC分类号： G03C1/52 , G03C1/615

22. 发明授权

EP0161655B1 Lichtempfindliches Gemisch und hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial 有权
标题翻译：光敏组合物和双组分双极性材料制备
公开(公告)号：EP0161655B1
公开(公告)日：1989-01-04
申请号：EP85105849.5
申请日：1985-05-13
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem.
IPC分类号： G03C1/52 , G03C1/60 , G03C1/58
CPC分类号： G03C1/58 , G03C1/52 , G03C1/60

23. 发明授权

EP0084890B1 Diazotype heat development recording medium 失效
标题翻译： DIAZOTYPE热开发记录介质
公开(公告)号：EP0084890B1
公开(公告)日：1986-05-21
申请号：EP83100723.2
申请日：1983-01-26
申请人： Toppan Printing Co., Ltd.
发明人： Watanabe, Niro , Nemoto, Shiro , Yasujima, Hiroyuki , Yoshida, Kaneki
IPC分类号： G03C1/60 , G03C1/54 , G03C1/58 , G03C5/34
CPC分类号： G03C1/61

24. 发明授权

EP0054258B1 Photosensitive compositions 失效
标题翻译：光敏组合物
公开(公告)号：EP0054258B1
公开(公告)日：1986-03-05
申请号：EP81110287.0
申请日：1981-12-09
申请人： KONICA CORPORATION
发明人： Takeshi, Yamamoto , Kiyoshi, Goto , Masafumi, Uehara
IPC分类号： G03C1/52 , G03C1/60
CPC分类号： G03F7/0236 , C08G8/20 , C08G8/24 , C08K5/28 , C08L61/12

25. 发明授权

EP0078980B1 Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial 失效
标题翻译：光敏组合物和感光复印材料
公开(公告)号：EP0078980B1
公开(公告)日：1986-01-08
申请号：EP82109910.8
申请日：1982-10-27
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Stahlhofen, Paul Dr.
IPC分类号： G03C1/52 , G03B1/56 , G03C1/60 , G03C1/727 , G03C1/49
CPC分类号： G03F7/105

26. 发明公开

EP0161655A2 Lichtempfindliches Gemisch und hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial 有权
标题翻译： Lichtempfindliches Gemisch und Hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial。
公开(公告)号：EP0161655A2
公开(公告)日：1985-11-21
申请号：EP85105849.5
申请日：1985-05-13
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem.
IPC分类号： G03C1/52 , G03C1/60 , G03C1/58
CPC分类号： G03C1/58 , G03C1/52 , G03C1/60
摘要： Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch aus Diazoniumsalz, Kuppler, Harzbindemittel, Stabilisator, üblichen Zusätzen und flüßiger Phase aus einer Kombination von

a) mindestens einem p-Aminobenzoldiazonium-hexafluophosphat als Diazoniumsalz,
b) mindestens einem Dihydroxy-diphenylsulfid, gegebenenfalls im Gemisch mit weiterem Kuppler,
c) saurem Stabilisator in einer Konzentration von Null bis 20 Gewichtsprozent, bezogen auf das eingesetzte Diazoniumsalz,
d) mindestens einem saure Gruppen aufweisenden Kunststoff mit einer Säurezahl von mindestens 100, der sich vom Maleinsäure- oder Phthalsäuretyp ableitet, als Harzbindemittel und
e) niederen Alkoholen, Glykolethern, Ketonen und Wasser allein oder im Gemisch als flüßige Phase sowie hiermit hergestelltes Zweikomponenten-Diazotypiematerial mit einer lichtempfindlichen Schicht aus den Bestandteilen a) bis d).
摘要翻译： 1.由重氮盐，成色剂，树脂粘合剂，稳定剂，常规添加剂和液相组成的感光性混合物，其包含a）至少一种对氨基苯二氮六氟磷酸盐的组合，b）至少一种4,4-二羟基 - 二苯基硫醚，如果适合，作为与另一种成色剂的混合物，c）相对于所用的重氮盐，浓度为0至20重量％的酸稳定剂，d）至少一种塑料其含有酸基，酸值至少为100，源自马来酸或邻苯二甲酸类，作为树脂粘合剂，和e）低级醇，二醇醚，酮水或这些溶剂的混合物。

27. 发明授权

EP0028003B1 Diazoverbindungen enthaltendes Aufzeichnungsmaterial mit einer Filterschicht und Verfahren zur Herstellung desselben 有权
标题翻译：含有DIAZO化合物的记录材料和过滤层及其生产方法
公开(公告)号：EP0028003B1
公开(公告)日：1983-12-21
申请号：EP80106437.9
申请日：1980-10-22
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Scheler, Siegfried, Dr. , Thoese, Klaus, Dr.
IPC分类号： G03C1/60 , G03C1/52 , G03C1/54
CPC分类号： G03C1/52 , G03C1/815 , G03C5/08 , Y10S430/132

28. 发明授权

EP0025553B1 Photosensitive compositions 有权
标题翻译：光敏组合物
公开(公告)号：EP0025553B1
公开(公告)日：1983-05-25
申请号：EP80105243.2
申请日：1980-09-03
申请人： Hitachi, Ltd.
发明人： Sasaya, Osamu , Nishizawa, Masahiro , Yokomizo, Hiroshi , Miura, Kiyoshi , Tomita, Yoshifumi
IPC分类号： G03C1/60 , H01J1/74 , H01J9/227 , H01J29/32
CPC分类号： H01J9/2271 , G03C1/61 , G03F7/28 , H01J29/225

29. 发明公开

EP0068808A2 Photoresist composition 失效
标题翻译： Photoresistzusammensetzung。
公开(公告)号：EP0068808A2
公开(公告)日：1983-01-05
申请号：EP82303276.8
申请日：1982-06-23
申请人： JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO., LTD.
发明人： Kamoshida, Youichi , Yoshihara, Toshiaki , Harita, Yoshiyuki , Harada, Kunihiro
IPC分类号： G03F7/26 , C07C97/10 , C08L9/00 , C08F36/04 , C08F136/04 , C08F236/04 , C08K5/18 , G03C1/71 , G03C1/60
CPC分类号： G03F7/091 , C08K5/18 , G03C1/83 , Y10S430/127 , Y10S430/128 , Y10S522/901 , C08L15/00
摘要： By adding a compound of formula (I) or (II):

(in which R'-R" are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group) to a conventional photoresist composition comprising a cyclized product of a conjugated diene polymer (which may be a homopolymer or a copolymer) and a photocrosslinking agent soluble in an organic solvent, an image having a high degree of resolution can be obtained. even when a base board having a highly reflecting surface is used, with a high degree of reproducibility and without being affected by prebaking conditions.

30. 发明公开

EP0056092A1 Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial 有权
标题翻译：邻萘醌二叠氮化物的基础上的光敏组合物和由其，感光复印材料制成。
公开(公告)号：EP0056092A1
公开(公告)日：1982-07-21
申请号：EP81109001.8
申请日：1981-10-27
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Stahlhofen, Paul, Dr.
IPC分类号： G03C1/56 , G03C1/60 , G03C1/94
CPC分类号： G03F7/022
摘要： Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial.
Es wird ein lichtempfindliches Gemisch beschrieben, das als lichtempfindliche Verbindung einen Naphthochinondiazidsulfonsäureester der allgemeinen Formel I
enthält, worin

D der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonyl- oder -4-sulfonylrest ist,
R 1 , R 2 , R 3 Wasserstoff- oder Halogenatome,
R,', R 2 ' und R 3 ' Alkylgruppen mit 1-4 Kohlenstoffatomen oder Reste der Formel DO sind und
n eine Zahl von 2 bis 18

bedeutet, wobei insgesamt nicht mehr als drei DO-Reste an einem Benzolring stehen. Das Gemisch wird zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists verwendet.
摘要翻译：邻萘醌二叠氮化物的基础上的光敏组合物和由其，感光复印材料制成。本发明描述了含有感光性组合物，作为光敏化合物，所述通式的重氮萘醌磺酸酯I 其中D萘醌（1,2）-5-磺酰基或-4-磺酰-diazide-（2）， R1，R2，R3为氢或卤原子，R1“ R2' 和R3”是烷基基团具有1-4个碳原子或下式的基团DO，并且n是从2到18的数，其中总计不超过三个DO基团在苯环是。将混合物用于制造印刷板和光致抗蚀剂。

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