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    • 17. 发明公开
    • CELLULES PHOTOVOLTAÏQUES A CONTACTS ARRIERE ET LEUR PROCEDE DE FABRICATION
    • 具有后期接触的光伏电池及其制造方法
    • EP3316319A1
    • 2018-05-02
    • EP17199064.1
    • 2017-10-28
    • Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
    • Cabal, Raphaël
    • H01L31/068H01L31/18
    • H01L31/0682H01L31/02167H01L31/1804Y02E10/547Y02P70/521
    • Ce procédé comporte les étapes :
      a) prévoir un substrat (1), réalisé à base de silicium cristallin, et présentant :
      - une première surface (10), destinée à être orientée vers un rayonnement solaire (R), et
      - une seconde surface (11) opposée ;

      b) former des premières couches diélectriques (2), comportant chacune des dopants de type n, P, As, Sb, sur la seconde surface (11) de sorte que la seconde surface (11) présente des zones libres ;
      c) former une deuxième couche diélectrique (3), comportant des dopants de type p, B, Al, Ga, sur les premières couches diélectriques (2) et sur les zones libres ;
      d) diffuser les dopants de type n et les dopants de type p, respectivement depuis les premières couches diélectriques (2) et depuis la deuxième couche diélectrique (3) formée sur les zones libres, sous la seconde surface (11) de manière à former des régions semi-conductrices dopées (20, 30).
    • 该方法包括以下步骤:a)提供由晶体硅制成的衬底(1),并具有: - 旨在朝向太阳辐射(R)定向的第一表面(10),以及 - 第二表面 (11)相反; b)在第二表面(11)上形成各自具有n型掺杂物P,As,Sb的第一介电层(2),使得第二表面(11)具有自由区域; c)在所述第一介电层(2)上和所述自由区上形成包括p,B,Al,Ga掺杂物的第二介电层(3); d)分别从第一介电层(2)和形成在自由区上的第二介电层(3)在第二表面(11)下方扩散n型掺杂物和p型掺杂物,以形成 掺杂的半导体区域(20,30)。