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11. 发明公开

EP3038130A2 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：EP3038130A2
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：EP15189949.9
申请日：2015-10-15
申请人： ADVANTEST CORPORATION
发明人： Yamada, Akio , Sugatani, Shinji , Kurokawa, Masaki , Seyama, Masahiro
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/31761 , H01J2237/31766 , H01J2237/31774
摘要： To form a complex and fine pattern by combining optical exposure technology and charged particle beam exposure technology, provided is an exposure apparatus that radiates a charged particle beam at a position corresponding to a line pattern on a sample, including a beam generating section (20, 30, 40, 50) that generates a plurality of the charged particle beams at different irradiation positions in a width direction (Y) of the line pattern; a scanning control section (190) that performs scanning with the irradiation positions of the charged particle beams along a longitudinal direction (X) of the line pattern; a selecting section (160) that selects at least one charged particle beam to irradiate the sample from among the plurality of charged particle beams, at a designated irradiation position in the longitudinal direction of the line pattern; and an irradiation control section (170) that controls the at least one selected charged particle beam to irradiate the sample.
摘要翻译：为了通过组合光学曝光技术和带电粒子束曝光技术来形成复杂且精细的图案，提供了一种曝光设备，其在与样品上的线图案相对应的位置处发射带电粒子束，该曝光设备包括光束产生部分（20，在所述线图案的宽度方向（Y）上的不同照射位置处产生多个所述带电粒子束的步骤（30,30,40,50）扫描控制部（190），其沿着所述线图案的长度方向（X），利用所述带电粒子束的照射位置进行扫描; 选择部，在所述线图案的长度方向的指定照射位置，从所述多个带电粒子束中选择照射所述试样的至少一个带电粒子束; 以及照射控制部（170），其控制所述至少一个选择的带电粒子束照射所述样本。

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