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91. 发明公开

EP3244264A3 EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 无效
公开(公告)号：EP3244264A3
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：EP17169465.6
申请日：2010-08-24
申请人： Nikon Corporation
发明人： Shibazaki, Yuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G01B11/27 , G03F7/70133 , G03F7/70358 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F9/70 , H01L21/681 , Y10T29/49002
摘要： Within an area (A 0 ) where of four heads (60 1 to 60 4 ) installed on a stage (WST1), heads included in the first head group and the second head group to which three heads each belong that include one head different from each other face the corresponding areas on a scale plate, the stage (WST1) is driven based on positional information which is obtained using the first head group, as well as obtaining the displacement (displacement of position, rotation, and scaling) between the first and second reference coordinate systems (C 1 , C 2 ) corresponding to the first and second head groups using the positional information obtained using the first and second head groups. By using the results and correcting measurement results obtained using the second head group, the displacement between the first and second reference coordinate systems (C 1 , C 2 ) is calibrated, which allows the measurement errors that come with the displacement between the areas on the scale plates where each of the four heads (60 1 to 60 4 ) face to be corrected.

92. 发明公开

EP3244263A3 EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 无效
公开(公告)号：EP3244263A3
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：EP17169460.7
申请日：2010-08-24
申请人： Nikon Corporation
发明人： Shibazaki, Yuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G01B11/27 , G03F7/70133 , G03F7/70358 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F9/70 , H01L21/681 , Y10T29/49002
摘要： Within an area (A 0 ) where of four heads (60 1 to 60 4 ) installed on a stage (WST1), heads included in the first head group and the second head group to which three heads each belong that include one head different from each other face the corresponding areas on a scale plate, the stage (WST1) is driven based on positional information which is obtained using the first head group, as well as obtaining the displacement (displacement of position, rotation, and scaling) between the first and second reference coordinate systems (C 1 , C 2 ) corresponding to the first and second head groups using the positional information obtained using the first and second head groups. By using the results and correcting measurement results obtained using the second head group, the displacement between the first and second reference coordinate systems (C 1 , C 2 ) is calibrated, which allows the measurement errors that come with the displacement between the areas on the scale plates where each of the four heads (60 1 to 60 4 ) face to be corrected.

93. 发明公开

EP3224676A1 METROLOGY METHOD, COMPUTER PRODUCT AND SYSTEM 审中-实审
标题翻译：计量学方法，计算机产品和系统
公开(公告)号：EP3224676A1
公开(公告)日：2017-10-04
申请号：EP15787614.5
申请日：2015-10-30
申请人： ASML Netherlands B.V.
发明人： DEN BOEF, Arie, Jeffrey , BHATTACHARYYA, Kaustuve
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70616 , G01B11/24 , G01B11/27 , G03F7/705 , G03F7/70633
摘要： A method including determining a type of structural asymmetry of the target from measured values of the target, and performing a simulation of optical measurement of the target to determine a value of an asymmetry parameter associated with the asymmetry type. A method including performing a simulation of optical measurement of a target to determine a value of an asymmetry parameter associated with a type of structural asymmetry of the target determined from measured values of the target, and analyzing a sensitivity of the asymmetry parameter to change in a target formation parameter associated with the target. A method including determining a structural asymmetry parameter of a target using a measured parameter of radiation diffracted by the target, and determining a property of a measurement beam of the target based on the structural asymmetry parameter that is least sensitive to change in a target formation parameter associated with the target.
摘要翻译：一种方法，包括根据目标的测量值来确定目标的结构不对称的类型，并且执行目标的光学测量的模拟以确定与不对称类型相关联的不对称参数的值。一种方法，包括：执行目标的光学测量的模拟以确定与根据目标的测量值确定的目标的结构不对称类型相关联的不对称参数的值;以及分析非对称参数的灵敏度以改变目标形成参数与目标相关联。一种方法，包括：使用测量的目标衍射辐射参数来确定目标的结构不对称参数，以及基于对目标形成参数中的变化最不敏感的结构不对称参数来确定目标的测量射束的属性与目标相关联。

94. 发明授权

EP2963498B8 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
公开(公告)号：EP2963498B8
公开(公告)日：2017-07-26
申请号：EP15178235.6
申请日：2007-01-19
申请人： Nikon Corporation
发明人： Shibazaki, Yuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G01B11/27 , G01D5/26 , G01D5/266 , G01D18/002 , G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70975 , Y10T29/49826
摘要： Positional information of a movable body (RST) in a Y-axis direction is measured using an interferometer (16y) and an encoder ((24A, 26A 1 ), (24B, 26B 1 )) whose short-term stability of measurement values excels when compared with the interferometer, and based on the measurement results, a predetermined calibration operation for obtaining correction information for correcting measurement values of the encoder is performed. Accordingly, by using measurement values of the interferometer, correction information for correcting the measurement values of the encoder whose short-term stability of the measurement values excels the interferometer is obtained. Then, based on the measurement values of the encoder and the correction information, the movable body is driven in the Y-axis direction with good precision.

95. 发明公开

EP3171220A1 EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 无效
标题翻译：曝光装置，曝光方法及装置制造方法
公开(公告)号：EP3171220A1
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：EP16197284.9
申请日：2007-01-19
申请人： Nikon Corporation
发明人： Shibazaki, Yuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G01B11/27 , G01D5/26 , G01D5/266 , G01D18/002 , G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70975 , Y10T29/49826
摘要： An exposure apparatus (100) for exposing a substrate (W) via a projection optical system (PL), the apparatus comprising an encoder system for measuring positional information of a movable body by irradiating each of four areas (52A, 52B, 52C, 52D), in which a grating (44) is formed, with a beam via each of four heads (46A, 46B, 46C, 46D). A controller controls the drive of the movable body such that as the movable body moves, a relationship between the grating and the heads changes between a first state and a second state. In the first state, the four heads respectively face the four areas. In the second state, only three of the heads respectively face three areas of the four areas, such that none of the heads face a fourth one of the four areas.
摘要翻译：一种用于通过投影光学系统（PL）曝光衬底（W）的曝光设备（100），该设备包括编码器系统，用于通过照射四个区域（52A，52B，52C，52D）中的每一个来测量可移动体的位置信息），其中形成光栅（44），其中光束通过四个头（46A，46B，46C，46D）中的每一个形成。控制器控制可移动体的驱动，使得随着可移动体的移动，光栅与头之间的关系在第一状态和第二状态之间变化。在第一种状态下，四个头分别面向四个区域。在第二状态中，只有三个头分别面对四个区域中的三个区域，使得没有一个头朝向四个区域中的第四个。

96. 发明授权

EP3054264B1 Vorrichtung und Verfahren zum Ermitteln der Solllagen-Abweichung zweier Körper 有权转让
标题翻译：装置和方法用于确定两个机构的标称位置偏差
公开(公告)号：EP3054264B1
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：EP15153745.3
申请日：2015-02-04
申请人： Prüftechnik Dieter Busch AG
发明人： Hölzl, Roland
IPC分类号： G01B11/27
CPC分类号： G01B11/272 , G01B11/14 , G01B11/26 , G01B11/27

97. 发明公开

EP3088841A1 VERFAHREN UND EINRICHTUNG ZUR BEURTEILUNG DER OBERFLÄCHENBESCHAFFENHEIT NACH DER WINKELAUFGELÖSTEN STREULICHTMESSMETHODE MIT AUTOMATISCHER LAGEERKENNUNG DES WERKSTÜCKS 有权转让
标题翻译：方法和装置用于评估表面状况具有自动状况识别该器件的广角镜头分辨测量方法
公开(公告)号：EP3088841A1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：EP16167293.6
申请日：2016-04-27
申请人： Brodmann Technologies GmbH
发明人： Brodmann, Rainer , Brodmann, Boris
IPC分类号： G01B11/26 , G01B11/30 , G01B11/24 , G01N21/47 , G01N21/952 , B23Q17/00 , B23Q17/20 , B23Q17/24
CPC分类号： G01N21/952 , B23Q17/003 , B23Q17/20 , B23Q17/24 , G01B11/2408 , G01B11/27 , G01B11/303 , G01N21/4788
摘要： Ein Verfahren und eine Einrichtung zur berührungslosen Beurteilung der Beschaffenheit einer Oberfläche nach der winkelaufgelösten Streulichtmesstechnik umfasst einen optischen Sensor (10). Aus der gemessenen reflektierten Streulichtverteilung wird bei einer Umdrehung des Werkstücks (30) ein Kennwert-Verlauf ermittelt, der mit einem in einem Einmessvorgang gemessenen Muster-Verlauf verglichen wird. Bei fehlender Übereinstimmung von Kennwert-Verlauf und Muster-Verlauf wird ein Fehlersignal erzeugt.
摘要翻译：一种用于角分解散射光测量的表面的纹理的非接触的评价方法和装置，包括：光学传感器（10）。从所测量的反射的散射光分布，特性值的历史与在校准过程测量，图案层在工件（30）的一转期间确定比较。如果不存在匹配的特征值场和图案当然，将产生一个误差信号。

98. 发明授权

EP2844490B1 PROCÉDÉ DE VÉRIFICATION DE L'ALIGNEMENT DE TÊTES D'IMPRESSION ET MÉTHODE D'ALIGNEMENT ASSOCIÉE 有权转让
标题翻译：工艺审查首脑取向及有关的注册程序
公开(公告)号：EP2844490B1
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：EP13724184.0
申请日：2013-05-02
申请人： MGI FRANCE
发明人： ABERGEL, Edmond , PONCET, Romain , BRIONNE, Thierry
IPC分类号： B41J2/21 , B41J25/308 , B41J2/045
CPC分类号： B41J2/04505 , B41J2/2135 , B41J2/2146 , B41J25/308 , G01B11/27

99. 发明公开

EP3054264A1 Vorrichtung und Verfahren zum Ermitteln der Solllagen-Abweichung zweier Körper 有权转让
标题翻译：装置和方法用于确定两个机构的标称位置偏差
公开(公告)号：EP3054264A1
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：EP15153745.3
申请日：2015-02-04
申请人： Prüftechnik Dieter Busch AG
发明人： Hölzl, Roland
IPC分类号： G01B11/27
CPC分类号： G01B11/272 , G01B11/14 , G01B11/26 , G01B11/27
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (8) zum Erfassen einer Solllagen-Abweichung zweier Körper (10, 12), mit einer ersten Messeinheit (14) zum Ansetzen an den ersten Körper (10), einer zweiten Messeinheit (18) zum Ansetzen an den zweiten Körper (12), sowie einer Auswerteeinheit (22), wobei die erste Messeinheit (14) Mittel (24) zum Erzeugen mindestens eines Lichtstrahlbündels (28) und eine Streufläche (34) zum Streuen von auf die Streufläche auftreffendem Licht (WV, PV) aufweist, wobei die zweite Messeinheit (18) eine Reflektoranordnung (38) aufweist, um das Lichtstrahlbündel (28) auf die Streufläche (34) zu reflektieren, wobei die zweite Messeinheit (18) eine Kamera (36) zur Aufnahme von Bildern der Streufläche (34) aufweist, wobei die Auswerteeinheit (22) ausgebildet ist, eine Solllagen-Abweichung der Körper (10, 12) aus den Bildern zu erfassen. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Erfassen der Solllagen-Abweichung.
摘要翻译：本发明涉及一种装置（8），用于检测两个物体（10,12）的目标层的偏差，与第一测量单元（14）用于附接到所述第一本体（10），第二测量单元（18）用于附接到所述第二体（12），以及评估单元（22），所述第一测量单元（14）包括用于产生至少一个光束（28），以及用于在该散射面光散射入射到散射表面（34）的装置（24）（WV，PV），其中，所述第二测量装置（18）包括一反射器组件（38）的光束（28）的扩展表面（34），以反映所述第二测定单元（18）包括用于取散射表面的图像的照相机（36）（ 34），其中，所述评估单元（22）形成，所述本体（10的标称层偏差以从图像检测12）。本发明还涉及用于检测靶层偏差的方法。

100. 发明授权

EP2801864B8 Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：EP2801864B8
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：EP14169254.1
申请日：2007-01-19
申请人： Nikon Corporation
发明人： Shibazaki, Yuichi
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G01B11/27 , G01D5/26 , G01D5/266 , G01D18/002 , G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70516 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70975 , Y10T29/49826
摘要： Positional information of a movable body (RST) in a Y-axis direction is measured using an interferometer (16y) and an encoder ((24A, 26A 1 ), (24B, 26B 1 )) whose short-term stability of measurement values excels when compared with the interferometer, and based on the measurement results, a predetermined calibration operation for obtaining correction information for correcting measurement values of the encoder is performed. Accordingly, by using measurement values of the interferometer, correction information for correcting the measurement values of the encoder whose short-term stability of the measurement values excels the interferometer is obtained. Then, based on the measurement values of the encoder and the correction information, the movable body is driven in the Y-axis direction with good precision.

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