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1. 发明公开

CN118104086A 用于产生激光脉冲的方法和设备审中-实审
公开(公告)号：CN118104086A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202180102500.4
申请日：2021-09-20
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： J·舒尔茨 , G·克劳斯
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/223 , H01S3/23 , H05G2/00
摘要：本发明涉及一种用于产生叠加的激光脉冲(30a，b)的方法(12)，所述叠加的激光脉冲分别至少由第一激光脉冲(16a，b)和第二激光脉冲(18a，b)组成。第一激光脉冲和第二激光脉冲(16a，b，18a，b)以不同特性被放大。放大后，第一激光脉冲(16a，b)相对于第二激光脉冲(18a，b)有延迟，以便使第一激光脉冲与第二激光脉冲(18a，b)叠加。叠加的激光脉冲(30a，b)优选用于产生极紫外(EUV)辐射(38)。本发明还涉及一种用于产生叠加的激光脉冲(30a，b)的设备(10)。

2. 发明公开

CN117296455A EUV激发光源和EUV光源审中-实审
公开(公告)号：CN117296455A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202180098112.3
申请日：2021-05-10
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： S·皮勒
IPC分类号： H05G2/00
摘要：本发明涉及一种EUV激发光源(A)，包括：激光源(B)，其被配置成发射激光束(1)，所述激光束(1)包括具有不同波长(λ1，λ2)的两个部分光束(1'，1”)；分离光学元件(C)，其用于将激光束(1)的两个部分光束(1'，1”)分离成两个分离的光束(2'，2”)；以及叠加单元(D)，其用于使两个分离的光束(2'，2”)在预定叠加位置(3)处以预定叠加角度(α)叠加，其中，分离光学元件是第一反射式衍射光栅(C)。本发明还涉及一种EUV光源(S)，包括：如上所述的EUV激发光源(A)；真空室(T)，其包括照射区域(4)；以及聚焦单元(U)，其用于将第一分离的光束(2')和第二分离的光束(2”)聚焦在照射区域(4)中。

3. 发明公开

CN115244799A 用于抑制辐射反馈的装置和具有这种装置的激光设备审中-实审
公开(公告)号：CN115244799A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202080098031.9
申请日：2020-03-03
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： S·埃哈德 , G·施陶彭达尔
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/223
摘要：本发明涉及一种用于过滤激光辐射的光学装置(20)。所述装置(20)具有波长选择元件(28)、第一法布里‑珀罗干涉仪(10)、偏振器(36)和λ/4移相器(38)。法布里‑珀罗干涉仪(10)的光轴以大于0°且小于6°的角度相对于到达所述法布里‑珀罗干涉仪(10)的激光射束定向。法布里‑珀罗干涉仪(10)不仅构造用于耦合输出到达所述法布里‑珀罗干涉仪(10)的初级激光射束(24)的不期望的辐射分量(30)，还构造用于耦合输出由所述激光射束目标(40)反射的次级激光射束(46)的不期望的辐射分量(52)。优选地，所述装置(20)包括至少一个另外的法布里‑珀罗干涉仪。进一步优选地，所述装置(20)包括用于扩宽到达所述法布里‑珀罗干涉仪(10)的初级激光射束(24)的望远镜装置(70)。本发明还涉及一种具有至少一个这种装置(20)的激光器设备。优选地，所述激光器设备包括放大器系统，该放大器系统布置在两个装置(20)之间。特别优选地，所述激光器设备构造用于产生EUV辐射。为此，所述激光射束目标(40)可以以液滴的形式存在。

4. 发明授权

CN104756607B EUV辐射产生设备及其运行方法有权
公开(公告)号：CN104756607B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201380055789.4
申请日：2013-09-19
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： M·兰贝特 , A·恩茨曼
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008
摘要：本发明涉及一种EUV辐射产生设备(1)，其包括：真空室(4)以及用于将来自驱动激光装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射处。EUV辐射产生设备(1)包括安置在所述真空室(4)和所述射束引导室(3)之间的中间室(18)、气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使来自所述射束引导室(3)的激光射束(5)进入的第一窗(19)，以及气体密封地封闭所述中间室(18)的用于使所述激光射束(5)输出到所述真空室(4)中的第二窗(20)。本发明也涉及一种用于运行所述EUV辐射产生设备(1)的方法。(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)

5. 发明公开

CN118160413A 具有射束位态调整装置的EUV光源审中-实审
公开(公告)号：CN118160413A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202180103729.X
申请日：2021-10-25
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： M·兰贝特 , B·雷加阿尔德 , T·埃尔金 , O·施洛瑟
IPC分类号： H05G2/00 , G02B26/08
摘要：本发明涉及一种EUV光源(1)，该EUV光源包括用于提供靶材(4)的提供装置(3)、用于发射至少一个脉冲激光射束(9，10)的至少一个脉冲激光源(5，6)、射束引导装置(7)，该射束引导装置用于将所述至少一个脉冲激光射束(9，10)从所述至少一个脉冲激光源(5，6)导引到辐射产生室(2)中并且用于借助所述至少一个脉冲激光射束(9，10)在该辐射产生室(2)内聚焦地照射该靶材(4)，其中，该靶材(4)构造为用于由于所述照射而发射EUV辐射(11)。所述射束引导装置(7)具有至少一个射束位态调整装置(14，15)以调整所述至少一个脉冲激光射束(9，10)的空间位态，所述至少一个射束位态调整装置包括呈两个镜对形式的四个镜，其中，所述四个镜可分别围绕恰好一个旋转轴线旋转，并且第一镜对的两个镜的旋转轴线沿第一空间方向定向，第二镜对的两个镜的旋转轴线沿第二空间方向定向。

6. 发明公开

CN117769793A 具有与靶平面平行或者叠合地延伸的图像平面的聚焦装置审中-实审
公开(公告)号：CN117769793A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202280052584.X
申请日：2022-07-27
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： B·雷加阿尔德
IPC分类号： H01S3/00 , G02B19/00 , H01S3/105 , H05G2/00 , H01S3/23
摘要：本发明涉及一种聚焦装置(10)，所述聚焦装置尤其用于产生EUV辐射。所述聚焦装置(10)构造为用于，对在靶平面(14)上的靶材料(12)进行照明。所述聚焦装置(10)具有至少一个射束成形元件(26，28)，该射束成形元件的光学轴线(30，32)与所述靶平面(14)垂直。由此，被导向穿过所述聚焦元件(26，28)中的至少一个聚焦元件的激光射束(18，20)的图像平面与所述靶平面(14)平行地定向。这能够实现对所述靶材料(12)的高效照射。至少一个激光射束(18，20)的完全无失真的成像可以通过该激光射束(18，20)的射束路径的主轴线相对于如下聚焦元件(26，28)的光学轴线(30，32)的错位来实现：该激光射束(18，20)被导向穿过该聚焦元件。第三激光射束(50)可以被导向穿过聚焦元件(26，28)中的一个聚焦元件，用于对所述靶材料(12)进行中间照射。

7. 发明公开

CN117280874A 具有分离装置的EUV光源审中-实审
公开(公告)号：CN117280874A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202180097519.4
申请日：2021-04-26
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： O·施洛瑟 , S·皮勒
IPC分类号： H05G2/00
摘要：本发明涉及一种EUV光源(1)，包括：提供装置(3)，该提供装置用于提供目标材料(4)；预脉冲激光源(5)，该预脉冲激光源用于发射处于至少一个预脉冲波长(λV)的至少一个预脉冲激光束(9)；主脉冲激光源(6)，该主脉冲激光源用于发射处于不同于至少一个预脉冲波长(λV)的主脉冲波长(λH)的主脉冲激光束(10)；预脉冲射束引导装置(7)，该预脉冲射束引导装置用于将来自预脉冲激光源(5)的至少一个预脉冲激光束(9)输送到辐射发生室(2)中，并且用于分别使用至少一个预脉冲激光束(9)的至少一个预脉冲(11)聚焦地照射辐射发生室(2)内的目标材料(4)；以及主脉冲射束引导装置(8)，该主脉冲射束引导装置用于将来自主脉冲激光源(6)的主脉冲激光束(10)输送到辐射发生室(2)中，并且用于分别使用主脉冲激光束(10)的主脉冲(12)聚焦地照射辐射发生室(2)内的目标材料(4)。目标材料(4)构造为由于照射而发射EUV辐射(19)。预脉冲射束引导装置(7)具有至少一个分离装置(22)，该至少一个分离装置构造为将不包括至少一个预脉冲波长(λV)的至少一个波长范围内的、从辐射发生室(2)进入预脉冲束引导装置(7)的干扰辐射(21)以聚焦方式反射返回辐射发生室(2)中或者以聚焦方式反射到至少一个射束阱(24)中。

8. 发明授权

CN112166369B EUV辐射产生装置有权
公开(公告)号：CN112166369B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201880092706.1
申请日：2018-04-24
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： M·兰贝特 , T·埃尔金
IPC分类号： G02B27/09 , H05G2/00
摘要：本发明涉及一种反射光学元件(16)，其包括：内部的第一表面区域(18a)，用于对照射到反射光学元件(16)上的光束(3)的第一内辐射分量(20a)进行反射以形成第一反射光束(21a)；以及至少一个外部的第二表面区域(18b)，用于对照射光束(3)的至少一个第二外辐射分量(20b)进行反射以形成至少一个第二反射光束(21b)，其中，第二表面区域(18b)构造为使第二反射光束(21b)的射束横截面(D2)相比于第一反射光束(21a)减小，使得第二反射光束(21a)沿着重叠长度(L)完全在第一反射光束(21a)之内延伸。本发明还涉及一种具有至少一个这种反射光学元件(16)的射束引导装置(4)以及一种具有这种射束引导装置(4)的EUV辐射产生装置(1)。

9. 发明授权

CN110869825B 偏振器装置以及具有偏振器装置的EUV辐射产生设备有权
公开(公告)号：CN110869825B
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN201780093027.1
申请日：2017-07-12
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： T·埃尔金
IPC分类号： G02B5/30 , H01S3/10 , G02B27/28 , B23K26/064
摘要：本发明涉及一种偏振器装置(1)，该偏振器装置用于使激光射束(2)偏振，该偏振器装置包括：布置在激光射束(2)的射束路径中的多个板状光学元件(5，16)，所述多个板状光学元件分别具有用于激光射束(2)的射束入射面(5a，6a，...)以及用于激光射束(2)的射束出射面(5b，6b，...)，其中，相应的板状光学元件(5，16)的射束入射面(5a，6a，...)相对于激光射束(2)以布鲁斯特角(OB)地取向。板状光学元件(5，16)的射束入射面(5a，6a，...)与射束出射面(5b，6b，...)彼此分别以至少一个楔角(γ1，γ2)取向。本发明还涉及一种具有这种偏振器装置(1)的EUV辐射产生设备。

10. 发明授权

CN104472019B 具有激光射束源和用于操纵激光射束的射束导引设备的极紫外激励光源有权转让
公开(公告)号：CN104472019B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201380030885.3
申请日：2013-05-29
申请人：通快激光系统半导体制造有限公司
发明人： M·兰贝特 , J·舒尔茨
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： G21K5/04 , B23K26/0676 , H01S3/005 , H01S3/2391 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要：本发明涉及一种极紫外激励光源(1)，其具有：至少一个用于发射至少一个激光射束(10，12)的激光射束源(9，9')和一个用于操纵所述至少一个激光射束(10，12)的射束导引设备(22)，所述射束导引设备具有：用于由所述至少一个激光射束(10，12)产生至少两个分离射束(10'，11，12'，13)的至少一个分束器(2)、用于操纵所述分离射束(10'，11，12'，13)中的至少一个分离射束的至少一个镜(4，5，15，16，17，18)或至少一个透镜、用于叠加所述至少两个分离射束(10″，11″'，12″，13″')的叠加镜(3)，和用于产生所述两个分离射束(10″，11″'，12″，13″')的相应焦点(7，8)的聚焦装置(6)。

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