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    • 51. 发明公开
    • 用于形成焊料凸块的系统和方法
    • CN114127900A
    • 2022-03-01
    • CN202080051084.5
    • 2020-06-17
    • 国际商业机器公司
    • E.P.莱万多夫斯基J-W.纳赫姚正邦P.J.索斯
    • H01L21/48H01L39/24H01L39/02H01L39/06H01L39/22
    • 一种用于形成焊料凸块(122)的方法包括:制备转移模具(100),该转移模具具有焊料柱(112),该焊料柱(112)从模具衬底(102)延伸并且穿过第一光致抗蚀剂层(104)并且具有部分地由第二光致抗蚀剂层(108)限定的形状,该第二光致抗蚀剂层(108)在转移焊料之前被去除;提供具有可润湿焊盘(120)的器件衬底(114):将转移模具(100)和器件衬底(114)置于对准接触中,使得焊料柱(112)与可润湿焊盘(120)接触;在所述焊料柱(112)与所述可润湿焊盘(120)之间形成金属接合,例如,采用冷焊或回流工艺去除所述模具衬底(102)和所述第一光致抗蚀剂层(104)。模具衬底(102)和转移模具(100)可以是柔性的。转移模具可以包括以下至少一个:在模具衬底(402)之上的润湿层,在这种情况下,包括铝的柱(112)可以被沉积和回流:在模具衬底(402)之上的籽晶层以及在第二光致抗蚀剂层(408)之上的非润湿层。器件衬底(114、502)可以包括通孔(118、504)并且可以是由硅、玻璃和/或有机衬底材料制成的内插器。该方法可以进一步包括将该内插器(I14,502)附接到量子位半导体器件(超导芯片)(300,516)上,其中该量子位半导体器件(300,516)包括约瑟夫逊结(304,518),并且其中将该内插器(114,502)附接到该量子位半导体器件(300,516)上包括将穿过该内插器(11,502)的孔(118,504)与该约瑟夫逊结(304,518)对准以便提供用于访问该约瑟夫逊结(304,518)的路径,特别是对其设计频率做出调整。该焊料柱(122)可以是围绕该量子位半导体器件(300)与该内插器(114)之间的该孔(118)形成的多个焊料柱中的一个,用于提供该约瑟夫逊结(304)的热隔离量,从而在该量子位周围并且在该内插器(114)与该超导芯片(300)之间形成一个圆形壁(200A,200B),其中该圆形壁(200A,200B)可以包括穿过其中的至少一个空隙(202)。焊料柱(512)可以是转移模具的多个焊料柱(512)中的一个,包括具有第一直径的第一焊料柱(512)和具有第二直径的第二焊料柱(512),第一直径大于第二直径。器件衬底(602)可以包括半导体衬底,该半导体衬底包括深凹部(604),其中,电路组件(608)可以包括在深凹部(604)中。转移模具(100)的制备可包括:对第一和第二光致抗蚀剂层(104、108)进行图案化以限定延伸穿过第一和第二光致抗蚀剂层(104、108)的凹部(110),以及使用注塑焊接(IMS)来用焊料填充凹部(110)以形成焊料柱(112)。可替代地,转移模具的制备可包括:图案化第一光致抗蚀剂层和第二光致抗蚀剂层(404、408)以限定延伸穿过第一光致抗蚀剂层和第二光致抗蚀剂层(404、408)的凹部(410):形成籽晶层,其中,籽晶层的至少一部分设置在凹部(410)中;以及使用电镀来用焊料填充所述凹部(410)并形成所述焊料柱。柱(112)可以是由镀铜或铜柱凸块形成的3D金属柱。