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51. 发明公开

CN104812925A 具有增强的减摩擦和减磨损性质的电弧PVD涂层失效
公开(公告)号：CN104812925A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201380054066.2
申请日：2013-07-25
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 特吕巴赫
发明人： J.拉姆 , M.L.索比伊奇 , F.塞伯特 , B.维德格
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/32 , C23C28/04
CPC分类号： C10M103/06 , C10M103/04 , C10M2201/053 , C10M2201/0613 , C23C14/024 , C23C14/06 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , C23C14/325 , C23C28/042 , C23C28/044
摘要：本发明涉及包含具有物体表面(3)的物体(1)和沉积在至少一部分物体表面(3)上的涂层体系(20)的涂布物体，所述涂层体系(20)包含至少一个作为最外层(9)沉积的硬质减摩涂层，其在表面具有微滴(10)，其特征在于所述最外层(9)包含氮化钼铜和/或氮化钼和氮化铜，且至少一些微滴(10)主要由铜构成，优选大多数最大微滴(10)主要由铜构成。

52. 发明公开

CN116529415A 用于静电卡盘的改进的抗等离子体涂层审中-实审
公开(公告)号：CN116529415A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202180081950.X
申请日：2021-12-02
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： M·P·柯尔克
IPC分类号： C23C14/50
摘要：用于生产在制造半导体部件的等离子体蚀刻室内使用的装置的方法，所述方法包括提供形成所述装置的基材的主体，在所述主体的表面上施加第一涂层，其中所述第一涂层包含金属和/或金属合金薄膜涂层以形成金属涂布的主体，在所述金属涂布的主体上施加第二涂层，其中所述第二涂层包含陶瓷涂层，其中所述第二涂层与所述第一涂层至少部分重叠。

53. 发明公开

CN114341395A 阴极电弧源审中-实审
公开(公告)号：CN114341395A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061854.4
申请日：2020-07-03
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： S·克拉斯尼策 , J·哈格曼 , A·P·特鲁霍尔兹
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/06 , C23C14/08
摘要：本发明涉及阴极电弧蒸发设备，其包含：‑靶(3)，其具有包含活性表面(3’’)的靶表面(3’)，在阴极电弧方法中材料能够从其蒸发；‑围绕所述靶表面(3’)的外边界的限制部(4)；‑具有电子接受表面(2’，2’’，2’’’)的阳极(2)，所述阳极(2)在靶平面和所述活性表面前方的轴向距离中的至少一个中包括所述靶(3)和所述限制部(4)中的至少一个；‑磁性引导系统，其适于在所述靶表面处提供基本上平行于所述靶表面的至少外部区域的磁场，使得磁场线平行于所述靶表面或以锐角α向所述靶表面倾斜，在那里在表面(3’)区域中限定活性表面(3’’)，其中磁场线以锐角α≤45°进入所述靶表面；‑中心轴Z或中心平面Z’；其中所述限制部(4)和所述阳极(2)两者被制成闭合的几何形状，并且两者相对于彼此和所述靶电绝缘，在那里所述电子接受表面(2’，2’’,2’’’)距所述活性表面(3’’)的最小距离由所述靶表面(3’)的外边界到所述电子接受表面的内边界的径向距离Δr14中的至少一个限定，由此所述靶表面(3’)的外边界具有距所述靶的中间的径向距离r1，并且所述电子接受表面的内边界具有距所述靶的中间的径向距离r4，以及从所述靶表面(3’)到所述限制部的上边界的轴向距离h1或从所述靶表面(3’)到所述电子接受表面(2’，2’’，2’’’)的下边界的轴向距离h2。

54. 发明授权

CN105722607B 在应用区域中把UV辐射施加到衬底的设备及其制造方法有权
公开(公告)号：CN105722607B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201480048601.8
申请日：2014-06-30
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： O.泽格
IPC分类号： B05D3/06
CPC分类号： B05D3/067 , F26B3/28
摘要：本发明涉及一种用于在应用区域中以UV辐射加载衬底的设备，其中所述设备包括：不仅辐射UV辐射而且辐射可见光和红外辐射到空间角中的辐射源、主要反射UV辐射并且主要透射VIS和IR辐射的辐射选择性的转向镜，其特征在于，所述转向镜包括至少两个平的镜条带，所述镜条带相互倾斜。

55. 发明公开

CN108998758A 具有涂层的钻头有权
公开(公告)号：CN108998758A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201810749584.0
申请日：2012-10-18
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： S·克拉斯尼策尔
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/35 , C23C14/54 , C23C16/27 , C23C16/50 , C23C28/04 , C23C30/00 , H01J37/34
摘要：本发明涉及一种涂覆基材，优选涂覆钻头的方法，其中借助HIPIMS方法施涂至少一个第一HIPIMS层。优选地，在所述第一HIPIMS层上借助不包括HIPIMS方法的涂覆方法施涂至少一个第二层。

56. 发明授权

CN105683409B 装饰性HIPIMS-硬材料层失效
公开(公告)号：CN105683409B
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201480047434.5
申请日：2014-06-26
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： S.克拉斯尼茨尔
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34 , C23C14/06 , C23C14/00
CPC分类号： C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0641 , C23C14/3414 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3429 , H01J37/3467
摘要：本发明涉及在真空涂覆室中进行的用装饰性硬材料层涂覆基底的方法，其中借助反应性HIPIMS法沉积该装饰性硬材料层，且其中调节功率脉冲中的能量含量以使沉积的硬材料层具有均匀颜色、高光滑度和高硬度。

57. 发明授权

CN105026604B 用嵌入的PVD-层涂覆的塑料部件失效
公开(公告)号：CN105026604B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201380067492.X
申请日：2013-10-22
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： C.里贝罗 , S.鲍尔
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/20 , C23C14/58 , C23C28/00
CPC分类号： C23C14/20 , C23C14/024 , C23C14/58 , C23C28/00
摘要：本发明涉及包含基材和施加在该基材上的层体系的塑料部件，其中直接在该基材上施加第一漆层，并且在该漆层上还有PVD层体系，其特征在于，PVD层体系至少包含第一层、第二层和第三层，其中该第一层位于第一漆层上并且构建为粘附层，所述第二层构建为起稳定作用的缓冲层，并且所述第三层构建为着色层。

58. 发明公开

CN107873064A 通过使用基于氮化钼的涂层的磨损和/或摩擦减少有权
公开(公告)号：CN107873064A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201680030533.1
申请日：2016-05-25
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： J·卡纳 , V·德夫林格 , M·E·鲁伊奇迪
IPC分类号： C23C30/00 , C23C28/04 , C23C28/00 , C23C14/32 , C23C14/06
摘要：本发明涉及一种包括涂覆有涂层的衬底表面的部件，所述涂层包括具有不小于40nm的厚度的至少一个MoN层，其特征在于在所述衬底表面与所述至少一个MoN层之间：i)包括衬底表面硬化层，其是硬化的含氮衬底表面层并且具有不小于10nm、优选地不小于20nm并且不大于150nm的厚度，所述硬化的含氮衬底表面层通过在所述衬底表面处进行氮化处理产生，和/或ii)包括由多于2个MoN层和多于2个CrN层组成的层系统，其中形成所述层系统的所述MoN和CrN层是彼此交替沉积以形成多层MoN/CrN涂层膜的单独层。

59. 发明授权

CN105050733B 用于钟控式运行的UV辐照设备失效
公开(公告)号：CN105050733B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201380067452.5
申请日：2013-10-22
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： C.里贝罗 , T.卡施 , R.舍弗 , M.卡斯帕
IPC分类号： B05D3/06 , F26B3/28 , B01J19/12
CPC分类号： B05D3/067 , F26B3/28 , G02B5/208 , G02B5/283
摘要：本发明涉及一种辐照设备，其具有‑至少一个辐射源，其发出UV辐射以及W辐射，即可见光和/或IR辐射，以及‑具有运输设备，其用于递送要辐照的衬底，以及‑至少一个以45°角反射UV辐射以及传送W辐射的选择波长的滤波器，‑具有用于吸收IR辐射的装置，该装置在传播方向上布置在未由选择波长的滤波器偏转的W辐射的辐射路径中排列在光学的滤波器之后，其中用于吸收IR辐射的装置也被构造为用于吸收可见光和UV辐射的装置，以及辐照设备包括移动装置，以便将选择波长的滤波器引导到辐射源的辐射路径中以及从该辐射路径中引导出该选择波长的滤波器。

60. 发明公开

CN107299313A 用于制备立方氧化锆层的方法无效
公开(公告)号：CN107299313A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201710548833.5
申请日：2010-09-24
申请人：欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
发明人： J·拉姆 , B·维德里希
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/32 , H01M8/1253
摘要：为了在沉积基材上产生基于氧化锆的层，使用了包含单质锆石和至少一种稳定剂的混合靶，或者使用由元素锆组成的锆靶，在该方法中使用了反应性火花蒸发，该火花蒸发使用脉冲的火花电流和/或施加了垂直于火花靶的磁场，其中除了氧气之外，将氮气用作反应性气体。作为选项，与混合靶使用相结合，除了氧气之外，氮气也可以用作反应性气体。

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