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1. 发明公开

CN102257574A 堆芯护罩的拐角接头有权
公开(公告)号：CN102257574A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980150966.0
申请日：2009-12-14
申请人：西屋电气有限责任公司
发明人： C·B·吉尔摩 , D·R·福塞斯
IPC分类号： G21C5/08 , G21C13/02 , G21C3/322
CPC分类号： G21C21/00 , G21C3/322 , G21C5/08 , G21C13/02 , Y02E30/38
摘要：提供了一种堆芯护罩，其包括若干平面构件、若干单元拐角构件以及均包含所述平面构件和单元拐角构件的组合的若干子组件。每个单元拐角构件包含具有第一平面部分和与第一平面部分垂直的第二平面部分的单元挤出件。至少一个子组件包含以交替相对关系并排布置的多个单元拐角构件。多个子组件可以联合起来以形成堆芯护罩的四分之一周界部分。四个四分之一的周界部分连在一起形成堆芯护罩。

2. 发明公开

CN113643830A 一种热管冷却反应堆堆芯的加工方法审中-实审
公开(公告)号：CN113643830A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202110913108.X
申请日：2021-08-10
申请人：上海交通大学
发明人：熊进标 , 李涛 , 何辉
IPC分类号： G21C5/12 , G21C5/08 , G21C5/16 , G21C17/00
摘要：本发明公开了一种热管冷却反应堆堆芯的加工方法，涉及热管冷却反应堆技术领域，所述方法中，燃料棒和热管依次装配在基体中，燃料棒和基体之间、热管和基体之间填充粉末。本发明通过将粉末填充在燃料棒与基体、热管与基体之间，提高了传热效率；粉末填充间隙较高的有效导热系数，可降低堆芯基体与热管之间的温差，提高反应堆的安全裕量；填充的粉末具有流动性，可有效吸收堆芯基体和热管的热膨胀，降低堆芯基体和热管的接触应力。

3. 发明公开

CN101006522A 核反应堆有权
公开(公告)号：CN101006522A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200580027605.9
申请日：2005-08-08
申请人：卵石层模反应堆(私人)有限公司
发明人：马克·诺兰·米歇尔 , 沃斯特·约翰
IPC分类号： G21C5/08 , F16G13/00 , G21C13/08 , F16B1/00
CPC分类号： G21C13/08 , F16G13/00 , G21C5/08 , G21Y2002/301 , G21Y2004/101 , Y02E30/40
摘要：本发明提供一种用于支撑高温气体冷却核反应堆50的反射体12的支撑件。所述支撑件包括多个围绕所述反射体12延伸的带52。每个带52包括互连片段18和20。片段18由金属制成，而片段20由纤维增强陶瓷制成，使得带52的热膨胀系数对应于反射体12的热膨胀系数。本发明还提供一种高温气体冷却核反应堆和一种支撑高温气体冷却核反应堆的反射体的方法。

4. 发明公开

CN115910391A 一种轴向压紧装置及卧式高温气冷堆审中-实审
公开(公告)号：CN115910391A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202310118528.8
申请日：2023-01-31
申请人：中国核电工程有限公司
发明人：王晓和 , 王晓轩 , 房柯 , 马晓荣 , 张昕予 , 赵英超 , 刘天斌 , 李华 , 焦少阳 , 堵树宏 , 汪俊
IPC分类号： G21C1/12 , G21C5/02 , G21C5/08
摘要：本发明公开一种轴向压紧装置以及包括该轴向压紧装置的卧式高温气冷堆，轴向压紧装置包括支撑组件、弹性组件与压紧板，支撑组件包括支撑柱与支撑板，支撑柱的一端与支撑板固定连接，另一端抵靠在卧式高温气冷堆的压力容器封头上，压紧板与支撑板平行相对设置，并且位于支撑板远离支撑柱的一侧，压紧板用于压紧卧式高温气冷堆的炭砖层，弹性组件包括导向柱与压紧弹簧，支撑板上设有导向孔，导向柱的一端固定安装在压紧板上，导向柱的另一端穿过支撑板上的导向孔，压紧弹簧套设于导向柱上，并且压紧弹簧处于压缩状态，其两端分别与支撑板与压紧板相抵。所述轴向压紧装置能够有效地保证卧式高温气冷堆在轴向上的结构稳定性。

5. 发明授权

CN102257574B 堆芯护罩、核反应堆和组装堆芯护罩的方法有权
公开(公告)号：CN102257574B
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN200980150966.0
申请日：2009-12-14
申请人：西屋电气有限责任公司
发明人： C·B·吉尔摩 , D·R·福塞斯
IPC分类号： G21C5/08 , G21C13/02 , G21C3/322
CPC分类号： G21C21/00 , G21C3/322 , G21C5/08 , G21C13/02 , Y02E30/38
摘要：提供了一种堆芯护罩，其包括若干平面构件、若干单元拐角构件以及均包含所述平面构件和单元拐角构件的组合的若干子组件。每个单元拐角构件包含具有第一平面部分和与第一平面部分垂直的第二平面部分的单元挤出件。至少一个子组件包含以交替相对关系并排布置的多个单元拐角构件。多个子组件可以联合起来以形成堆芯护罩的四分之一周界部分。四个四分之一的周界部分连在一起形成堆芯护罩。

6. 发明公开

CN115995304A 一种卧式高温气冷堆堆内构件及卧式高温气冷堆审中-实审
公开(公告)号：CN115995304A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202310119103.9
申请日：2023-01-31
申请人：中国核电工程有限公司
发明人：王晓和 , 王晓轩 , 李海涛 , 马晓荣 , 房柯 , 李华 , 张昕予 , 方晓璐 , 刘迎 , 张耀春 , 刘天斌 , 吴明 , 汪俊
IPC分类号： G21C5/02 , G21C11/08 , G21C11/06 , G21C11/02 , G21C1/12 , G21C5/08
摘要：本发明公开一种卧式高温气冷堆堆内构件及卧式高温气冷堆，所述堆内构件横向设置，其包括反射层组件、隔热屏蔽层组件、集气层组件，所述反射层组件横向设置，其内部形成第一空腔，堆芯容置在第一空腔内；所述集气层组件设于堆芯的一侧，集气层组件内部具有汇聚结构，所述汇聚结构用于将流经堆芯的冷却剂朝集气层组件的中轴线方向汇聚，所述隔热屏蔽层组件套设在所述反射层组件以及集气层组件的外部。采用该堆内构件有效降低了反应堆的高度，便于对其进行运输。

7. 发明公开

CN115954119A 一种径向压紧机构及高温气冷堆审中-实审
公开(公告)号：CN115954119A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202310107817.8
申请日：2023-01-31
申请人：中国核电工程有限公司
发明人：王晓和 , 王晓轩 , 马晓荣 , 房柯 , 焦少阳 , 李华 , 陈科 , 赵英昆 , 路晓晖 , 刘天斌 , 堵树宏
IPC分类号： G21C1/12 , G21C5/02 , G21C5/08
摘要：本发明公开一种径向压紧机构以及包括该径向压紧机构的高温气冷堆，径向压紧机构包括法兰、压紧组件、压紧板，法兰固定连接在反应堆压力容器壁上，法兰设有安装孔，压紧组件包括压紧弹簧、第一压紧块、第二压紧块以及压紧调节螺母，压紧调节螺母、第二压紧块、第一压紧块依次压接设置在安装孔内，压紧调节螺母与安装孔螺纹连接，压紧弹簧夹设于第一压紧块与第二压紧块之间，第一压紧块的下部从安装孔中伸出，并与压紧板径向的一侧连接，以用于压紧所述压紧板，压紧板径向的另一侧与炭砖层接触。径向压紧机构能够保证在高温状态下的高温气冷堆始终处于径向压紧状态，以使反应堆压力容器不会与圆柱腔体在径向脱离。

8. 发明授权

CN101006522B 高温气体冷却核反应堆及其反射体的支撑件和支撑方法有权
公开(公告)号：CN101006522B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580027605.9
申请日：2005-08-08
申请人：卵石层模反应堆(私人)有限公司
发明人：马克·诺兰·米歇尔 , 沃斯特·约翰
IPC分类号： G21C5/08 , F16G13/00 , G21C13/08 , F16B1/00
CPC分类号： G21C13/08 , F16G13/00 , G21C5/08 , G21Y2002/301 , G21Y2004/101 , Y02E30/40
摘要：本发明提供一种用于支撑高温气体冷却核反应堆50的反射体12的支撑件。所述支撑件包括多个围绕所述反射体12延伸的带52。每个带52包括互连片段18和20。片段18由金属制成，而片段20由纤维增强陶瓷制成，使得带52的热膨胀系数对应于反射体12的热膨胀系数。本发明还提供一种高温气体冷却核反应堆和一种支撑高温气体冷却核反应堆的反射体的方法。

9. 发明授权

CN1004239B 组合式径向中子反射层失效
公开(公告)号：CN1004239B
公开(公告)日：1989-05-17
申请号：CN85108227
申请日：1985-11-09
申请人：西屋电气公司
发明人：丹尼尔·克拉克·加纳 , 多纳尔德·加伊尔·舍伍德 , 阿尔伯特·C·达维德森
IPC分类号： G21C11/06 , G21C5/08 , G21C7/28
CPC分类号： G21C5/08 , G21C11/02 , G21C11/06 , Y02E30/40
摘要：一种用于核反应堆中不规则空间(13)内的中子反射层装置，该空间是在细长、平直的燃料组件(3)(反应堆冷却剂经过燃料组件循环)的阵列(5)和围绕该阵列的圆柱形堆芯吊篮筒体(7)之间。该装置包括有许多反射层组件(15)，每个组件包含一块细长的强力垫板(21)和多块细长板(23)，这些板沿其纵向边缘连接起来形成一细长的内部放置中子反射体的盒子(17)，用来插到燃料组件阵列(5)和圆柱形堆芯吊篮筒体(7)之间的不规则空间(13)中。

10. 发明申请

WO2021063603A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON GRAPHIT UND VERTIKALER GRAPHITIERUNGSOFEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2021063603A1
公开(公告)日：2021-04-08
申请号：PCT/EP2020/073932
申请日：2020-08-27
申请人： ONEJOON GMBH
发明人： MUCK, Matthias , VERVOORT, Petrus Jacobus
IPC分类号： C01B32/205 , G21C1/12 , G21C5/08
摘要： Bei einem Verfahren zum Herstellen von Graphit in einem vertikalen Graphitierungsofen mit wenigstens einem Prozessraum (22), der eine Heizzone (28) begrenzt, wird in der Heizzone (28) eine Temperatur von 2.200 °C bis 3.200 °C, insbesondere von 3.000 °C, erzeugt, partikelförmiges graphitierbares Material (14) dem Prozessraum (22) durch einen Zugang (30) zugeführt, graphitierbares Material (14) durch die Heizzone (28) des Prozessraumes (22) hindurch gefördert, in der es zu Graphit graphitiert wird, und erhaltenes Graphit (12) durch einen Ausgang (40) aus dem Prozessraum (22) abgeführt. Dabei wird als Variante A graphitierbares Material (14) verwendet, dessen Partikel eine Partikelgröße von kleiner als 3 mm haben und und/oder als Variante B in der gesamten Heizzone (28) eines bestimmten Prozessraumes (22) eine Materialsäule (94) ausgebildet, wobei graphitierbares Material (14) nach Zuführen durch den Zugang (30) von oben durch eine Einlasszone (24) des Prozessraumes (22) hindurch auf die Materialsäule (94) rieselt, und/oder als Variante C eine Materialsäule (94) in einer Stand-Heizzone (98) eines bestimmten Prozessraumes (22) ausgebildet, die von der Heizzone (28) umfasst ist, wobei graphitierbares Material (14) nach Zuführen durch den Zugang (30) von oben durch eine Fall-Heizzone (96), die ebenfalls von der Heizzone (28) umfasst ist, auf die Materialsäule (94) rieselt, und/oder als Variante D graphitierbares Material (14) in einem oder mehreren Materialbehältern (100) durch einen bestimmten Prozessraum (22) und durch dessen Heizzone (28) gefördert. Außerdem ist ein vertikaler Graphitierungsofen (10) angegeben, der insbesondere bezogen auf die Varianten C und D optimiert ist.

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