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1. 发明公开

CN1794098A 用于电子束光刻系统的电磁聚焦方法无效
公开(公告)号：CN1794098A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200510092406.8
申请日：2005-08-18
申请人：三星电子株式会社
发明人：文昌郁 , 悉多尔金·瓦迪姆 , 崔昌勋
IPC分类号： G03F7/207 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/31793
摘要：提供一种用于在电子束光刻系统的真空室中将电子束的预定图案从发射器投影到晶片的方法。首先设置用于进行电磁聚焦的初始条件，并校正由从发射器发射的电子之间的初始发射速度差异和初始发射角度差异而导致的电子束的扩张现象。然后，校正当电场不平行于磁场时导致的电子束的偏移，并校正由磁场梯度导致的电子束的偏移，其后校正由从发射器发射的电子之间的库仑相互作用导致的电子束的束直径的增大。然后，确定聚焦误差是否在容许误差的范围内。当确定聚焦误差在容许误差的范围之外时，重复上述操作。

2. 发明公开

CN103477285A 用于磁屏蔽的系统无效
公开(公告)号：CN103477285A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201280018758.7
申请日：2012-02-13
申请人：迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人： A.罗森塔尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/147 , H01J37/317 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70858 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/708 , H01J37/09 , H01J37/1475 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774 , H01J2237/31793 , H01L21/6719 , H01L21/67213
摘要：本发明涉及用于磁屏蔽带电粒子光刻设备的系统（100）。该系统包括第一腔室、第二腔室（102）、和一组两个线圈（102a；102b）。该第一腔室具有多个壁，且至少部分地包围该带电粒子光刻设备，其中这些壁包括磁屏蔽材料。该第二腔室也具有包括磁屏蔽材料的壁，且包围该第一腔室。该组两个线圈被置放在第二腔室中，而位于第一腔室的相对侧上。该组两个线圈具有公共轴线。

3. 发明公开

CN101443877A 用于生成高电流密度构图带电粒子束的光学器件无效
公开(公告)号：CN101443877A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200680054644.2
申请日：2006-03-27
申请人：多束系统公司 , 东京毅力科创株式会社
发明人： N·W·帕克
IPC分类号： H01J37/302
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/043 , H01J2237/045 , H01J2237/049 , H01J2237/10 , H01J2237/30472 , H01J2237/30477 , H01J2237/31754 , H01J2237/31761 , H01J2237/31776 , H01J2237/31793
摘要：本发明提供了一种带电粒子射束平版印刷系统和/或方法，包括用于无需多个射束成形孔就可生成高电流密度成形射束(222)的构图射束定义孔(212)、用于将带电粒子束(222)聚焦到晶片(221)上的透镜(205、216)，及用于无需电子源(201)与晶片(221)之间的中间跨接结构就可以偏转带电粒子束(222)的消隐偏转器(277、278)。

4. 发明公开

CN1551169A 电子束记录衬底无效
公开(公告)号：CN1551169A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410007225.6
申请日：2004-02-27
申请人：先锋株式会社
发明人：胜村昌広
IPC分类号： G11B9/10
CPC分类号： G11B7/261 , G03F7/09 , H01J2237/31793
摘要：一种电子束记录衬底，保持有一抗蚀膜，电子束信息记录在该抗蚀膜上进行，该衬底具有表面层区域，该表面层区域由抑制通过来自抗蚀膜一侧的电子束照射在内部扩散的电子的散射分布直径的扩大的材料形成。

5. 发明授权

EP1849175B1 CHARGED-PARTICLE EXPOSURE APPARATUS 有权转让
标题翻译：与带电粒子曝光装置
公开(公告)号：EP1849175B1
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：EP06704702.7
申请日：2006-02-16
申请人： IMS Nanofabrication AG
发明人： STENGL, Gerhard , PLATZGUMMER, Elmar , CERNUSCA, Stefan
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3175 , H01J2237/31788 , H01J2237/31793
摘要： A particle-beam projection processing apparatus (100) for irradiating a target (41), with an illumination system (101) for forming a wide-area illuminating beam (Ip) of energetic electrically charged particles; a pattern definition means (102) for positioning an aperture pattern (21) in the path of the illuminating beam; and a projection system (103) for projecting the beam thus patterned (pb) onto a target (41) to be positioned after the projection system. A foil (34, 35) located across the path of the patterned beam (pb) is positioned between the pattern definition means (102) and the position of the target (41) at a location close to an image (i0) of the aperture pattern (21) formed by the projection system.

6. 发明申请

WO2007038134A2 METHOD OF ALIGNING A PARTICLE-BEAM-GENERATED PATTERN TO A PATTERN ON PRE-PATTERNED SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：将预先形成图案的基板上的颗粒束生成图案对准图案的方法
公开(公告)号：WO2007038134A2
公开(公告)日：2007-04-05
申请号：PCT/US2006/036646
申请日：2006-09-20
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： SULLIVAN, Jeffrey, S. , YOUNG, Tony, Tiecheng
IPC分类号： G03F9/00 , G21G5/00 , G03C5/00 , A61N5/00
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , H01J2237/31793 , Y10S430/143
摘要： A significant improvement in the alignment of a particle-beam-generated pattern relative to a pre-existing pattern present on a substrate has been accomplished using optical measurement to register the particle beam to the pre-existing pattern. Use of a position fiducial which can be accurately measured by both an optical microscope and a particle beam axis is used to align a pre-existing pattern with a particle-beam-generated pattern during writing of the particle-beam-generated pattern. Registration of the pre- existing pattern to the fiducial and registration of the particle beam axis to the fiducial periodically during production of the particle-beam-generated pattern continually provides an improvement in the overall alignment of the pattern being created to the pre-existing pattern on the substrate. The improved method of alignment can be used to correct for drift, or thermal expansion, or gravitational sag, by way of example.
摘要翻译：已经使用光学测量来完成粒子束产生的图案相对于衬底上存在的预先存在的图案的对准的重大改进，以将粒子束注册到预先存在的图案。在写入粒子束产生的图案期间，使用可以通过光学显微镜和粒子束轴精确测量的位置基准来将预先存在的图案与粒子束生成图案对齐。将预先存在的图案配准到基准上并且在生成粒子束生成图案期间周期性地将粒子束轴配准到基准提供了对正在创建的图案与预先存在的图案的整体对准的持续改进在衬底上。举例来说，改进的对准方法可用于校正漂移，热膨胀或重力下垂。

7. 发明公开

EP2005460A4 OPTICS FOR GENERATION OF HIGH CURRENT DENSITY PATTERNED CHARGED PARTICLE BEAMS 审中-公开
标题翻译： LOOK结构性带电粒子束与高电流密度生产
公开(公告)号：EP2005460A4
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：EP06758214
申请日：2006-03-27
申请人： MULTIBEAM SYSTEMS INC , TOKYO ELECTRON LTD
发明人： PARKER WILLIAM N
IPC分类号： H01J37/302
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/043 , H01J2237/045 , H01J2237/049 , H01J2237/10 , H01J2237/30472 , H01J2237/30477 , H01J2237/31754 , H01J2237/31761 , H01J2237/31776 , H01J2237/31793

8. 发明公开

EP2005460A1 OPTICS FOR GENERATION OF HIGH CURRENT DENSITY PATTERNED CHARGED PARTICLE BEAMS 审中-公开
标题翻译： LOOK结构性带电粒子束与高电流密度生产
公开(公告)号：EP2005460A1
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：EP06758214.8
申请日：2006-03-27
申请人： Multibeam Systems, Inc. , Tokyo Electron Limited
发明人： PARKER, William, N.
IPC分类号： H01J37/302
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/043 , H01J2237/045 , H01J2237/049 , H01J2237/10 , H01J2237/30472 , H01J2237/30477 , H01J2237/31754 , H01J2237/31761 , H01J2237/31776 , H01J2237/31793
摘要： A charged particle beam lithography system and/or method, which comprises a patterned beam defining aperture (212) for generating a high current density shaped beams (222) without the need for multiple beam shaping apertures, lenses (205, 216) for focusing charged particle beams (222) on a wafer (221), and blanking deflectors (277, 278) for deflecting the charged particle beams (222) without the need for an intermediate crossover between an electron source (201) and the wafer (221).

9. 发明申请

WO2007102298A1 回転駆動装置及び電子ビーム照射装置审中-公开
标题翻译：旋转驱动装置和电子束辐射装置
公开(公告)号：WO2007102298A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/JP2007/052576
申请日：2007-02-14
申请人：パイオニア株式会社 , 和田泰光
发明人：和田泰光
IPC分类号： G11B7/26 , G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G11B7/261 , H01J37/065 , H01J2237/06308 , H01J2237/31793
摘要：【課題】電磁誘導を介したトランス機構により、固定側から回転側に非接触で電力を供給することで、耐久性を向上する。【解決手段】ターンテーブル内に設けられ回転軸とともに回転するクランプ電極に対し、筐体側からクランプ電圧をロータリトランスを介して供給し、クランプ電極の静電力によってターンテーブルに載置された基板を把持する。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、非接触で電力を供給することができ、摩耗を招くことがなく耐久性を向上することができる。
摘要翻译： [问题]为了通过从固定侧向旋转侧以非接触的方式供电，通过电磁感应使用变压器机构来提高耐久性。解决问题的手段将设置在转盘中并与主轴一起旋转的夹紧电极通过旋转变压器从壳体侧供给钳位电压，并且放置在转盘上的基板被静电夹持钳形电极。因此，通过电磁感应，通过变压器机构的供电，不产生磨损，耐久性提高，能够以非接触的方式供给动力。

10. 发明申请

WO2007038134A3 METHOD OF ALIGNING A PARTICLE-BEAM-GENERATED PATTERN TO A PATTERN ON PRE-PATTERNED SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：将粒子束生成图案对准预制基板上的图案的方法
公开(公告)号：WO2007038134A3
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：PCT/US2006036646
申请日：2006-09-20
申请人： APPLIED MATERIALS INC
发明人： SULLIVAN JEFFREY S , YOUNG TONY TIECHENG
IPC分类号： H01J37/08 , H01J27/02
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , H01J2237/31793 , Y10S430/143
摘要： A significant improvement in the alignment of a particle-beam-generated pattern relative to a pre-existing pattern present on a substrate has been accomplished using optical measurement to register the particle beam to the pre-existing pattern. Use of a position fiducial which can be accurately measured by both an optical microscope and a particle beam axis is used to align a pre-existing pattern with a particle-beam-generated pattern during writing of the particle-beam-generated pattern. Registration of the pre- existing pattern to the fiducial and registration of the particle beam axis to the fiducial periodically during production of the particle-beam-generated pattern continually provides an improvement in the overall alignment of the pattern being created to the pre-existing pattern on the substrate. The improved method of alignment can be used to correct for drift, or thermal expansion, or gravitational sag, by way of example.
摘要翻译：已经使用光学测量来实现粒子束生成图案相对于存在于衬底上的预先存在的图案的对准的显着改进，以将粒子束注册到预先存在的图案。使用可以通过光学显微镜和粒子束轴两者精确测量的位置基准来使用在粒子束产生的图案的写入期间将预先存在的图案与粒子束产生的图案对准。在生成粒子束生成图案期间，将预先存在的图案注册到基准和粒子束轴的基准周期性地连续地提供了所创建的图案与预先存在的图案的整体对准的改进在基板上。改进的对准方法可以用于校正漂移或热膨胀或重力下垂的例子。

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