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1. 发明公开

CN101061432A 印花转印刻蚀有权
公开(公告)号：CN101061432A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200580039211.5
申请日：2005-10-14
申请人：伊利诺斯大学理事会
发明人：拉尔夫·G·努若 , 威廉·R·蔡尔兹 , 迈克尔·J·莫特拉 , 李健在
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/0038 , B81C2201/0159 , B81C2201/0191 , B81C2203/038 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/34 , G03F7/346
摘要：一种制造微结构的方法，包括选择性活化含硅弹性体的部分表面，使该活化部分与物质接触，以及使该活化部分与物质结合，使得该表面的活化部分和与该活化部分接触的物质不可逆地连接。通过在该含硅弹性体的表面上配置掩模以及用UV射线照射该露出部分可以实现这种选择性活化。

2. 发明授权

CN101061432B 印花转印刻蚀有权
公开(公告)号：CN101061432B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200580039211.5
申请日：2005-10-14
申请人：伊利诺斯大学理事会
发明人：拉尔夫·G·努若 , 威廉·R·蔡尔兹 , 迈克尔·J·莫特拉 , 李建宰
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/0038 , B81C2201/0159 , B81C2201/0191 , B81C2203/038 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/34 , G03F7/346
摘要：一种制造微结构的方法，包括选择性活化含硅弹性体的部分表面，使该活化部分与物质接触，以及使该活化部分与物质结合，使得该表面的活化部分和与该活化部分接触的物质不可逆地连接。通过在该含硅弹性体的表面上配置掩模以及用UV射线照射该露出部分可以实现这种选择性活化。

3. 发明申请

WO1992021068A1 FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE 审中-公开
标题翻译：柔版印刷板
公开(公告)号：WO1992021068A1
公开(公告)日：1992-11-26
申请号：PCT/US1992002726
申请日：1992-03-26
申请人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
发明人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY , PRIOLEAU, Lori-Ann, S. , CANTY, George
IPC分类号： G03F07/11
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/346 , G03F7/36 , G03F7/38
摘要： Negative-acting flexographic printing plates display enhanced performance when backside irradiated with ionizing radiation instead of longer wavelength ultraviolet radiation. A better defined floor and more readily controlled floor is produced on the final printing plate.

4. 发明专利

JPS60194453A Preparation of thin film pattern and adhesive sheet used for it 失效
标题翻译：制作薄膜图案和粘合片用于此
公开(公告)号：JPS60194453A
公开(公告)日：1985-10-02
申请号：JP5076184
申请日：1984-03-16
申请人： Nippon Kogaku Kk
发明人： KAMEYAMA MASAOMI
IPC分类号： H01L21/306 , G03C11/00 , G03F7/26 , G03F7/34 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/346
摘要： PURPOSE:To prevent a piece of a thin film part lifted off effectively from resticking by using an adhesive sheet in forming a thin film pattern necessary for manufacture of semiconductors, such as LSI by the lift-off method. CONSTITUTION:A substrate W is coated with a photoresist, exposed through a photomask having a prescribed pattern, and developed to form a resist pattern A on the substrate W. A thin film B made of aluminum or the like is formed on most of the whole surface of the substrate by vapor deposition or the like, and further, an adhesive sheet C having an adhesive layer C2 is placed on the thin film B, and heated to harden the layer C2 and to stick the sheet C to the thin film B. The thin film part Ba on the resist pattern A is lifted off together with the sheet C by dissolving off the resist pattern A, and a thin film pattern Bb having a pattern reversed from the resist pattern A is obtained.
摘要翻译：目的：通过使用粘合片，通过剥离法形成LSI等半导体制造所需的薄膜图案，防止一片薄膜部件有效地脱离。构成：将衬底W涂覆有光刻胶，通过具有规定图案的光掩模曝光，并显影以在衬底W上形成抗蚀剂图案A.在大部分整体上形成由铝等制成的薄膜B 通过气相沉积等形成基板的表面，此外，将具有粘合层C2的粘合片C放置在薄膜B上，并加热以使层C2硬化并将薄片C粘附到薄膜B. 抗蚀剂图案A上的薄膜部分Ba通过溶解掉抗蚀剂图案A而与片材C一起被剥离，并获得具有与抗蚀剂图案A相反的图案的薄膜图案Bb。

5. 发明专利

JPS59172642A Metal film image formation apparatus 失效
标题翻译：金属膜成像装置
公开(公告)号：JPS59172642A
公开(公告)日：1984-09-29
申请号：JP1691384
申请日：1984-02-01
申请人： Minnesota Mining & Mfg
发明人： SUTANREI KUREIGU BASUMAN , JIYON CHIENGUUCHIYUNGU CHIYANG
IPC分类号： G03F7/004 , G03F1/54 , G03F7/09 , G03F7/105 , G03F7/34
CPC分类号： G03F1/54 , G03F7/346

6. 发明申请

WO2006132664A2 DECAL TRANSFER LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2006132664A2
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/US2005/036812
申请日：2005-10-14
申请人： THE BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS , NUZZO, Ralph, G. , CHILDS, William, R. , MOTALA, Michael, J. , LEE, Keon, Jae
发明人： NUZZO, Ralph, G. , CHILDS, William, R. , MOTALA, Michael, J. , LEE, Keon, Jae
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/0038 , B81C2201/0159 , B81C2201/0191 , B81C2203/038 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/34 , G03F7/346
摘要： A method of making a microstructure includes selectively activating a portion of a surface of a silicon-containing elastomer, contacting the activated portion with a substance, and bonding the activated portion and the substance, such that the activated portion of the surface and the substance in contact with the activated portion are irreversibly attached. The selective activation may be accomplished by positioning a mask on the surface of the silicon-containing elastomer, and irradiating the exposed portion with UV radiation.
摘要翻译：制造微结构的方法包括选择性地激活含硅弹性体的表面的一部分，使活化部分与物质接触，并且将活化部分和物质接合，使得表面的活化部分和物质在与活化部分的接触不可逆地附着。选择性激活可以通过将掩模定位在含硅弹性体的表面上，并用UV辐射照射暴露部分来实现。

7. 发明申请

WO02033488A1 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE PHOTOSENSITIVE DRY FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERNS 审中-公开
标题翻译：正性感光树脂组合物，阳性感光干膜和形成图案的方法
公开(公告)号：WO02033488A1
公开(公告)日：2002-04-25
申请号：PCT/JP2001/009030
申请日：2001-10-15
IPC分类号： C08F2/50 , C08K5/00 , C08K5/3447 , C08K5/42 , C08L101/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/34
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/346
摘要： A positive photosensitive resin composition comprising (A) a positive photosensitive resin, (B) a photoacid generator, and (C) a photosensitizer consisting of a benzopyran fused compound capable of making sensitive to visible rays having wavelengths of 480 nm or above; a positive photosensitive dry film obtained by applying the photosensitive resin composition on the surface of a supporting film and drying the resulting wet coating to form a photosensitive resin layer; and a method for forming patterns by the use of the resin composition or the dry film.
摘要翻译：一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）正性感光性树脂，（B）光致酸产生剂，和（C）由能够对波长为480nm以上的可见光敏感的苯并吡喃稠合化合物组成的光敏剂; 通过将感光性树脂组合物涂布在支撑膜的表面上并干燥所得湿涂层以形成感光性树脂层而获得的正型感光性干膜; 以及通过使用树脂组合物或干膜形成图案的方法。

8. 发明申请

WO2012087075A3 METHOD FOR FORMING FINE PATTERN IN LARGE AREA USING LASER INTERFERENCE EXPOSURE, METHOD FOR NON-PLANAR TRANSFER OF THE FINE PATTERN FORMED BY THE METHOD, AND ARTICLE TO WHICH THE FINE PATTERN IS TRANSFERRED BY THE TRANSFER METHOD 审中-公开
标题翻译：使用激光干涉曝光在大面积形成精细图案的方法，通过该方法形成的精细图案的非平面传输方法，以及通过传送方法转移细微图案的方法
公开(公告)号：WO2012087075A3
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/KR2011010063
申请日：2011-12-23
申请人： KOREA IND TECH INST , LEE SUNG HO , KIM JONG SEOK , KANG KYUNG TAE , LEE SANG HO
发明人： LEE SUNG HO , KIM JONG SEOK , KANG KYUNG TAE , LEE SANG HO
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/40 , H01L31/042
CPC分类号： G03F7/34 , G03F7/0757 , G03F7/346 , H01L31/0543 , H01L31/0547 , H01L31/1892 , Y02E10/52
摘要： The present invention relates to a method for the non-planar transfer of a fine pattern and to an article to which the fine pattern is transferred by the transfer method. More particularly, the present invention relates to a method for the non-planar transfer of a fine pattern and to an article to which the fine pattern is transferred by the transfer method, wherein the method coats an upper surface of a substrate having a flat structure with a sacrificial layer and a pattern forming layer, forms a fine pattern into a large area on the coated pattern forming layer, separates the pattern forming layer on which the fine pattern is transferred, and attaches the separated pattern forming layer to an object article.
摘要翻译：本发明涉及一种精细图案的非平面转印和通过转印方法转印精细图案的制品的方法。更具体地说，本发明涉及一种精细图案的非平面转印和通过转印方法转印微细图案的制品的方法，其中该方法涂覆具有平坦结构的基材的上表面具有牺牲层和图案形成层，在涂覆图案形成层上的大面积上形成精细图案，分离其上转印微细图案的图案形成层，并将分离的图案形成层附着到物品上。

9. 发明申请

WO2012087075A2 레이저간섭 노광을 이용한 대면적 미세패턴 제작 방법, 상기 방법을 이용하여 제작된 미세패턴의 비평면적 전사 방법 및 이를 이용하여 미세 패턴을 전사한 물품 审中-公开
标题翻译：大面积的微图案的制造方法，所述方法包括：通过使用转印法和精细图案的通过使用本文使用激光干涉曝光转印制造的精细图案的临界区域
公开(公告)号：WO2012087075A2
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：PCT/KR2011/010063
申请日：2011-12-23
申请人： 한국생산기술연구원 , 이성호 , 김종석 , 강경태 , 이상호
发明人： 이성호 , 김종석 , 강경태 , 이상호
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/40 , H01L31/042
CPC分类号： G03F7/34 , G03F7/0757 , G03F7/346 , H01L31/0543 , H01L31/0547 , H01L31/1892 , Y02E10/52
摘要： 본 발명은 미세 패턴의 비평면적 전사 방법 및 이를 이용하여 미세 패턴을 전사한 물품에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 평면 구조의 기판 상부에 희생층 및 패턴형성층을 코팅시킨 다음 상기 코팅된 패턴형성층 상부에 미세 패턴을 대면적으로 형성시키고 상기 미세 패턴이 전사된 패턴형성층을 분리시켜 적용 대상 물품에 접착시킴으로써 미세 패턴을 비평면적으로 전사하는 방법 및 이를 이용하여 미세 패턴을 전사한 물품에 관한 것이다.
摘要翻译：
本发明涂覆，更具体地说，涉及在牺牲层和平面结构的衬底上方的图案形成层涉及精细图案制品的传递通过使用精细图案的这种方法的关键区域转移，并用于形成上在大面积上涂布的图案形成层的顶部上的精细图案，并通过向粘合剂上的应用程序产物转移精细图案下面的方法分离，并且通过使用此，微细图案的转印其中微细图案转印图案形成层的临界区域这是一个项目。

10. 发明申请

WO1998011471A1 DRY PEEL-APART IMAGING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：干豌豆成像系统
公开(公告)号：WO1998011471A1
公开(公告)日：1998-03-19
申请号：PCT/US1997001256
申请日：1997-01-29
申请人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
发明人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY , CHOU, Hsin-Hsin
IPC分类号： G03F07/34
CPC分类号： G03F7/346 , G03F7/0007 , G03F7/095
摘要： The present invention describes a process for the information of a black image on a substrate comprising the steps of: a) providing a donor element comprising a carrier substrate, a black, pigmented photohardenable layer, and photopolymerizable adhesive layer in which the unexposed photopolymerizable adhesive layer has a viscosity at 25 DEG C of less than 100,000 cps, b) adhering said photopolymer adhesive layer to a first substrate, c) irradiating said photopolymer adhesive in an imagewise distribution of radiation to polymerize said adhesive in an imagewise distribution, and d) stripping said element from said first substrate leaving an imagewise distribution of said black pigmented layer secured to said substrate. The black image formed on a substrate by the present invention comprises a substrate, an imagewise distribution of areas of cured photopolymerizable adhesive with a layer of black pigmented polymer over each area of cured photopolymer adhesive, and uncured photopolymerizable adhesive having no black pigmented material on its surface on said substrate between areas of black pigmented polymer. This process is especially useful in the formation of black matrices for color filter elements.
摘要翻译：本发明描述了一种用于信息基底上的黑色图像的方法，包括以下步骤：a）提供施主元件，该施主元件包括载体基底，黑色，着色光硬化层和可光聚合粘合剂层，其中未曝光的可光聚合粘合剂层在25℃下的粘度小于100,000cps，b）将所述光聚合物粘合剂层粘合到第一基底上，c）以成像分布的辐射照射所述光聚合物粘合剂，以成像分布聚合所述粘合剂，以及d）剥离来自所述第一衬底的所述元件留下所述黑色着色层的固定在所述衬底上的成像分布。通过本发明在基板上形成的黑色图像包括基板，在固化的光聚合物粘合剂的每个区域上具有黑色着色聚合物层的固化光聚合性粘合剂的区域的成像分布，以及在其上没有黑色着色材料的未固化光聚合性粘合剂在黑色着色聚合物的区域之间的所述基底上的表面。该过程在形成用于滤色器元件的黑色矩阵中特别有用。

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