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1. 发明公开

CN1366333A 衬底处理装置及采用此装置的衬底处理方法失效
公开(公告)号：CN1366333A
公开(公告)日：2002-08-28
申请号：CN01133875.X
申请日：2001-12-21
申请人：株式会社东芝
发明人：樱井秀昭 , 伊藤正光 , 伊藤信一
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： G03D5/003
摘要：提供一种衬底处理装置及衬底处理方法,可以消除被处理表面上的药液浓度差,可以实现高精度的药液处理。在药液喷出/吸引单元(扫描喷嘴)21中设置有用来向被处理衬底喷出药液的药液喷出开口22和用来吸引被处理衬底上的药液的药液吸引开口23,由于从上述药液喷出开口22连续喷出的药液被上述药液吸引开口23连续吸引,在上述扫描喷嘴21和被处理表面之间,以及在上述药液喷出开口22和上述药液吸引开口23之间的区域中不断有新鲜药液供给被处理表面。

2. 发明授权

CN1199242C 衬底处理装置和衬底处理方法失效
公开(公告)号：CN1199242C
公开(公告)日：2005-04-27
申请号：CN01133875.X
申请日：2001-12-21
申请人：株式会社东芝
发明人：樱井秀昭 , 伊藤正光 , 伊藤信一
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： G03D5/003
摘要：提供一种衬底处理装置和衬底处理方法，可以消除被处理表面上的药液浓度差，可以实现高精度的药液处理。在药液喷出/吸引单元(扫描喷嘴)(21)中设置有用来向被处理衬底喷出药液的药液喷出开口(22)和用来吸引被处理衬底上的药液的药液吸引开口(23)，由于从上述药液喷出开口(22)连续喷出的药液被上述药液吸引开口(23)连续吸引，在上述扫描喷嘴(21)和被处理表面之间，以及在上述药液喷出开口(22)和上述药液吸引开口(23)之间的区域中不断有新鲜药液供给被处理表面。

3. 发明公开

CN1492282A 水洗方法和装置无效
公开(公告)号：CN1492282A
公开(公告)日：2004-04-28
申请号：CN03157927.2
申请日：2003-08-29
申请人：伊斯曼柯达公司
发明人： G·B·埃文斯 , P·赫维特森
IPC分类号： G03D3/13 , G03D3/00
CPC分类号： G03D5/003
摘要：一种从材料的涂布面上洗去污物的方法，其中将材料在至少一个倾斜的基本上平坦的表面上向上传送，并且在此平坦表面的上部处引入洗液。此平坦表面包括基本上非光滑的阻力装置，其可提供针对洗液向下流动的阻力，并具有能够保持比基本上光滑的表面更多的洗液的能力。

4. 发明公开

CN1236907A 把一种溶液施加到光敏材料上的方法和装置无效
公开(公告)号：CN1236907A
公开(公告)日：1999-12-01
申请号：CN99107003.8
申请日：1999-05-21
申请人：伊斯曼柯达公司
发明人：小R·L·皮斯尼诺 , K·H·布拉克莱
IPC分类号： G03D15/06
CPC分类号： G03D5/003 , G03D5/006 , G03D5/067 , Y10S430/136 , Y10S430/162
摘要：一种把有预定粘度的溶液施加到光敏材料比如照片上的装置和方法,其包括传送该光敏材料通过一个罐。在该罐中安装一个引导件有效地把溶液引导到在第一和第二滚轮之间的辊隙部分附近的区域。这一设置在滚轮之间的辊隙部分的附近产生至少一个液滴,使得实现把溶液均匀地和一致地施加到光敏材料上,同时,使得驱动滚轮中的一上滚轮保持为均匀的湿润的状态。

5. 发明申请

WO2016047493A1 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム审中-公开
标题翻译：基板处理方法，计算机存储介质和基板处理系统
公开(公告)号：WO2016047493A1
公开(公告)日：2016-03-31
申请号：PCT/JP2015/076101
申请日：2015-09-15
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：村松　誠 , 冨田　忠利 , 源島　久志 , 楊　元 , 北野　高広
IPC分类号： H01L21/027 , C23C14/10 , C23C14/34 , C23C16/14 , C23C16/34 , G03F7/40 , H01L21/31 , H01L21/316 , H05H1/46
CPC分类号： H01L21/67173 , C08J7/18 , D06M14/18 , G03D5/003 , G03F7/0002 , G03F7/40 , H01J37/32082 , H01J37/3255 , H01L21/02043 , H01L21/027 , H01L21/31 , H01L21/67167 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L29/511 , H01L29/66545 , H05H1/46
摘要：　本発明の基板処理方法は、親水性ポリマーと疎水性ポリマーとを含むブロック共重合体を用いて、基板を処理する基板処理方法であって、基板上にレジスト膜により所定のレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程（Ｓ３）と、レジストパターンの表面に、当該レジストパターンの変形を抑制するための薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｓ４）と、薄膜形成後の基板に対してブロック共重合体を塗布するブロック共重合体塗布工程（Ｓ５）と、ブロック共重合体を親水性ポリマーと疎水性ポリマーに相分離させるポリマー分離工程（Ｓ６）と、を有している。
摘要翻译：该基板处理方法是使用含有亲水性聚合物和疏水性聚合物的嵌段共聚物来处理基板的方法，其特征在于，包括：抗蚀剂图案形成工序（S3），用于在基板上形成预定的抗蚀剂图案，通过抗蚀膜; 用于在抗蚀剂图案的表面上形成用于抑制抗蚀剂图案的变形的薄膜的薄膜形成步骤（S4）在薄膜形成之后将嵌段共聚物施加到基板上的嵌段共聚物施加步骤（S5）和聚合物分离步骤（S6），使嵌段共聚物相分离成亲水性聚合物和疏水性聚合物。

6. 发明申请

WO1997025652A1 SLOT APPLICATOR FOR PROCESSING SOLUTIONS 审中-公开
标题翻译：用于处理解决方案的SLOT应用程序
公开(公告)号：WO1997025652A1
公开(公告)日：1997-07-17
申请号：PCT/US1996020097
申请日：1996-12-19
申请人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY
发明人： MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY , LEONARD, Mark, T.
IPC分类号： G03D05/00
CPC分类号： G03D5/003 , G03D5/006
摘要： Apparatus (1) and process for the application of liquids (29) to photosensitive elements (13) comprising the steps of providing a coating head (1) with an upwardly facing slot (5) therein, providing a liquid (29) within the slot (5) evenly along its length, continuously moving a downwardly facing photosensitive element (29) over the slot (5) and contacting the element (13) with the liquid (29) within the slot (5), removing the photosensitive element (29) from the slot (5) with liquid (29) in or on the element (13), wherein the amount of liquid (29) provided to the slot (5) is more than the amount of the liquid (29) carried away from the slot (5), and excess liquid (29) is collected from the slot (5).
摘要翻译：用于将液体（29）施加到感光元件（13）的装置（1）和方法包括以下步骤：在其中提供具有向上的槽（5）的涂覆头（1），在槽内提供液体（29）（5）沿着其长度均匀地连续地将一个面向下的感光元件（29）移动到所述槽（5）上方并使所述元件（13）与所述槽（5）内的所述液体（29）接触，从而去除所述光敏元件）从元件（13）中或其上的液体（29）从槽（5）中排出，其中设置到槽（5）的液体（29）的量大于从（槽（5）和多余的液体（29）从槽（5）收集。

7. 发明申请

WO1993011463A1 DRUM PROVIDED WITH SPIRAL ON ITS SURFACE IN A PHOTOGRAPHIC PROCESSING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：在摄影处理设备中以表面形式提供的鼓
公开(公告)号：WO1993011463A1
公开(公告)日：1993-06-10
申请号：PCT/EP1992002708
申请日：1992-11-25
申请人： KODAK LIMITED , EASTMAN KODAK COMPANY , FYSON, John, Richard , GLOVER, Edward, Charles, Timothy, Samuel
发明人： KODAK LIMITED , EASTMAN KODAK COMPANY
IPC分类号： G03D03/13
CPC分类号： G03D5/003 , G03D5/04 , G03D13/046
摘要： It is known to use rotating drums in photographic processing apparatus. However, in many embodiments, relatively large volumes of processing solution are required for effective operation of the apparatus. This makes most drum arrangements unsuitable for use with unstable chemistry and single use chemistry as the processing solutions need to be replaced frequently. Described herein is an improvement to the surface (24) of a drum (20) in photographic processing apparatus incorporating a drum arrangement to form a low volume processing tank. The improvement comprises forming a spiral (22) either on or in the surface (24) of the drum (20). This has the advantage of improving the process activity of the apparatus and prevents the material being processed from adhering to the drum surface.
摘要翻译：已知在摄影处理设备中使用旋转鼓。然而，在许多实施例中，需要相对大量的处理方案来有效地操作该装置。这使得大多数鼓装置不适合用于不稳定化学和单一使用化学品，因为处理溶液需要经常更换。这里描述的是对包含滚筒装置以形成低体积处理槽的照相处理设备中的滚筒（20）的表面（24）的改进。该改进包括在滚筒（20）的表面（24）上或其上形成螺旋（22）。这具有改善设备的工艺活性并防止被处理材料粘附到鼓表面的优点。

8. 发明申请

WO1992010790A1 PHOTOGRAPHIC PROCESSING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：摄影加工设备
公开(公告)号：WO1992010790A1
公开(公告)日：1992-06-25
申请号：PCT/EP1991002364
申请日：1991-12-10
申请人： KODAK LIMITED , EASTMAN KODAK COMPANY , GLOVER, Edward, Charles, Timothy, Samuel , MARSDEN, Peter, Douglas , GLOVER, Martyn, Stuart
发明人： KODAK LIMITED , EASTMAN KODAK COMPANY
IPC分类号： G03D05/06
CPC分类号： G03D5/067 , G03D5/003
摘要： It is known to apply processing solution to photographic material using a high speed moving surface. High speed rotating drums have been used to transfer processing solution from a reservoir to the material. Horizontal belts are also known. However, such arrangements require large volumes of processing solution in order to operate effectively. Described herein is a processor (1) comprising a vertically mounted high speed belt (10) which both transfers processing solution (26) from a reservoir (20) onto photographic paper being processed, and provides agitation at the paper surface. Two transport belts (30, 32) are provided, one on either side of the belt (10) to assist in the transport of paper through the apparatus. An arrangement according to the invention has the advantages that only low volumes of processing solutions are required, good surface agitation is provided, and it can be fitted into conventional photographic processing apparatus.
摘要翻译：已知使用高速移动表面将照相材料施加处理溶液。已经使用高速旋转鼓将处理溶液从储存器转移到材料。水平腰带也是已知的。然而，这种布置需要大量的处理解决方案才能有效地运行。这里描述的处理器（1）包括垂直安装的高速皮带（10），其将处理溶液（26）从贮存器（20）转移到被处理的相纸上，并在纸张表面上提供搅动。提供两个输送带（30,32），一个在带（10）的任一侧上，以帮助纸通过设备传送。根据本发明的装置具有的优点是仅需要低体积的处理溶液，提供良好的表面搅拌，并且可以将其装配到传统的照相处理设备中。

9. 发明申请

WO1991002291A1 METHOD AND APPARATUS FOR TRANSPORTING AND LIQUID TREATING INDETERMINATE LENGTHS OF WEB MATERIAL 审中-公开
标题翻译：运输和液体处理网络材料长度的方法和装置
公开(公告)号：WO1991002291A1
公开(公告)日：1991-02-21
申请号：PCT/US1990004242
申请日：1990-07-30
申请人： EASTMAN KODAK COMPANY
发明人： EASTMAN KODAK COMPANY , DEVANEY, Mark, Joseph, Jr. , WANNENWETSCH, Edward, Harold
IPC分类号： G03D05/00
CPC分类号： G03D5/003
摘要： An apparatus for transporting exposed radiation sensitive film strips (102) through process liquids (38) for development includes an essentially vertical, porous serpentine wall (18) formed in oppositely opening loops (32, 34), alternate ones of which partially surround hollow porous partial cylinders (42), thus defining a sinuous path along which a transport web (70) is driven while carrying film strips which are supported and treated by process liquids flowing through the porous wall and partial cylinders.

10. 发明专利

JP4189141B2 A substrate processing apparatus and a substrate processing method using the same 有权
公开(公告)号：JP4189141B2
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：JP2001304016
申请日：2001-09-28
申请人：株式会社東芝
发明人：信一伊藤 , 正光伊藤 , 秀昭桜井
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027 , G03D5/00 , G03F7/40 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： G03D5/003

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