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    • 2. 发明专利
    • 全氟聚醚 PERFLUOROPOLYETHERS
    • TW200521635A
    • 2005-07-01
    • TW093129249
    • 2004-09-27
    • 蘇維索立克斯股份有限公司 SOLVAY SOLEXIS S.P.A.
    • 馬帝亞巴西 BASSI, MATTIA皮爾安東尼奧瓜達 GUARDA, PIER ANTONIO
    • G03F
    • C08G65/32C08G65/007C08G65/30G02B1/04G03F7/2041C08L71/00
    • 一種全氟聚醚之用途,其可以液體使用在光學系統中來透射波長短於250奈米(特別是157奈米)的光,該全氟聚醚具有下式:X1–O(CF2O)n(CF2CF2O)m(CF2CF2CF2O)p(CF2CF2CF2CF2O)q–X2(I)其中:–該些重覆單元–CF2O–、–CF2CF2O–、–CF2CF2CF2O–、 –CF2CF2CF2CF2O–統計上沿著該鏈分佈;–該–X1及–X2為全氟烷基鏈的末端基團,其可彼此相同或 不同且具有式–(CF2)zCF3,其中z為0或1至3之整數;–n、m、p、q為0或由1至100所組成之整數;其附帶條件為:–在n、m、p及q當中,有至少一個不為零;–氧原子與碳原子間之比率(O /C)高於0.33; 其中利用^19F–NMR測量發現其實質上不含氯原子。093129249-p01.bmp
    • 一种全氟聚醚之用途,其可以液体使用在光学系统中来透射波长短于250奈米(特别是157奈米)的光,该全氟聚醚具有下式:X1–O(CF2O)n(CF2CF2O)m(CF2CF2CF2O)p(CF2CF2CF2CF2O)q–X2(I)其中:–该些重复单元–CF2O–、–CF2CF2O–、–CF2CF2CF2O–、 –CF2CF2CF2CF2O–统计上沿着该链分布;–该–X1及–X2为全氟烷基链的末端基团,其可彼此相同或 不同且具有式–(CF2)zCF3,其中z为0或1至3之整数;–n、m、p、q为0或由1至100所组成之整数;其附带条件为:–在n、m、p及q当中,有至少一个不为零;–氧原子与碳原子间之比率(O /C)高于0.33; 其中利用^19F–NMR测量发现其实质上不含氯原子。093129249-p01.bmp
    • 6. 发明专利
    • 全氟聚醚之製法 PROCESS FOR PREPARING PERFLUOROPOLYETHERS
    • 全氟聚醚之制法 PROCESS FOR PREPARING PERFLUOROPOLYETHERS
    • TW200521155A
    • 2005-07-01
    • TW093129247
    • 2004-09-27
    • 蘇維索立克斯股份有限公司 SOLVAY SOLEXIS S.P.A.
    • 朱塞普馬巧尼 MARCHIONNI, GIUSEPPE艾維拉帕格諾 PAGANO, ELVIRA皮爾安東尼奧瓜達 GUARDA, PIER ANTONIO
    • C08G
    • C08G65/3236C08G65/007
    • 一種獲得全氟聚醚的方法,其包括:a)利用下列反應之一來合成該過氧化全氟聚醚:a1)TFE光氧化反應,於UV光存在下,在低溫中,在選自於具有下列通式之全氟碳化物與(單)氫氟碳化物的溶劑中:093129247-p01.bmp其中y為整數2至4;x為等於0或1的整數;於經惰性氣體稀釋的氟存在下進行該反應;或a2)TFE氧化反應,使用氟或式RfOF(III)之次氟酸酯(Rf為含1至3個碳原子的全氟烷基)作為自由基起始劑,在壓力於0至12巴間,溫度從–40℃至–100℃,於惰性溶劑中,在反應條件下操作該反應;b)在溫度從150℃至250℃下,選擇性於分子量調節劑(其可選自於氟或式(III)之次氟酸酯)存在下,熱處理於a)中所獲得的產物;c)在溫度從100℃至250℃下,以元素氟處理在步驟b)中所獲得的聚合物;或在溫度從–50℃至120℃下,於UV輻射存在下,以氟處理該聚合物。
    • 一种获得全氟聚醚的方法,其包括:a)利用下列反应之一来合成该过氧化全氟聚醚:a1)TFE光氧化反应,于UV光存在下,在低温中,在选自于具有下列通式之全氟碳化物与(单)氢氟碳化物的溶剂中:093129247-p01.bmp其中y为整数2至4;x为等于0或1的整数;于经惰性气体稀释的氟存在下进行该反应;或a2)TFE氧化反应,使用氟或式RfOF(III)之次氟酸酯(Rf为含1至3个碳原子的全氟烷基)作为自由基起始剂,在压力于0至12巴间,温度从–40℃至–100℃,于惰性溶剂中,在反应条件下操作该反应;b)在温度从150℃至250℃下,选择性于分子量调节剂(其可选自于氟或式(III)之次氟酸酯)存在下,热处理于a)中所获得的产物;c)在温度从100℃至250℃下,以元素氟处理在步骤b)中所获得的聚合物;或在温度从–50℃至120℃下,于UV辐射存在下,以氟处理该聚合物。