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    • 7. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON POLYETHERCARBONATPOLYOLEN
    • WO2021110589A1
    • 2021-06-10
    • PCT/EP2020/083919
    • 2020-11-30
    • COVESTRO INTELLECTUAL PROPERTY GMBH & CO. KG
    • BRAUN, StefanieHOFMANN, JoergTRAVING, Michael
    • C08G65/26C08G64/34
    • Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Polyethercarbonatpolyolen durch Anlagerung von Alkylenoxid und Kohlendioxid in Anwesenheit eines DMC-Katalysators oder eines Metallkomplexkatalysators auf Basis der Metalle Cobalt und/oder Zink an H-funktioneller Startersubstanz, wobei (a) gegebenenfalls eine Teilmenge H-funktioneller Startersubstanz und/oder ein Suspensionsmittel, das keine H-funktionelle Gruppen aufweist, in einem Reaktor gegebenenfalls gemeinsam mit DMC-Katalysator oder einem Metallkomplexkatalysators auf Basis der Metalle Zink und/oder Cobalt vorgelegt wird, (ß) gegebenenfalls zur Aktivierung eines DMC-Katalysators eine Teilmenge (bezogen auf die Gesamtmenge der bei der Aktivierung und Copolymerisation eingesetzten Menge an Alkylenoxid) von Alkylenoxid zu der aus Schritt (α) resultierenden Mischung zugesetzt wird, wobei diese Zugabe einer Teilmenge an Alkylenoxid gegebenenfalls in Gegenwart von CO2 erfolgen kann, und wobei dann die aufgrund der folgenden exothermen chemischen Reaktion auftretende Temperaturspitze („Hotspot“) und/oder ein Druckabfall im Reaktor jeweils abgewartet wird, und wobei der Schritt (ß) zur Aktivierung auch mehrfach erfolgen kann, (γ) H-funktionelle Startersubstanz, Alkylenoxid sowie Katalysator während der Anlagerung kontinuierlich in den Reaktor zudosiert werden und das resultierende Reaktionsgemisch kontinuierlich aus dem Reaktor abgeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass (i) vor Schritt (γ) und nach den optionalen Schritten (α) und/oder (ß) eine Suspension an Katalysator in Suspensionsmittel und/oder H-funktioneller Startersubstanz im Reaktor auf eine Temperatur T1 im Bereich von 100 bis 150 °C eingestellt wird, wobei T1 mindestens 10 % oberhalb einer Temperatur T2 ist und T2 eine Temperatur im Bereich von 50 bis 135 °C ist, (ii) ab Beginn der Zugabe von Alkylenoxid in Schritt (γ) die in (i) eingestellte Temperatur T1 im Reaktor kontinuierlich bis zur Temperatur T2 reduziert wird und die Temperatur T2 frühestens nach 50 Minuten erreicht wird.
    • 10. 发明申请
    • SCHICHTAUFBAU MIT VERÄNDERTER STRUKTUR SOWIE DEREN HERSTELLUNG
    • WO2021099248A1
    • 2021-05-27
    • PCT/EP2020/082217
    • 2020-11-16
    • COVESTRO INTELLECTUAL PROPERTY GMBH & CO. KG
    • TZIOVARAS, GeorgiosKUENZEL, RolandKOEHLER, ChristophPLANKEN, KiraJANKE, StefanPUDLEINER, Heinz
    • B42D25/41B42D25/333B42D25/351B42D25/328
    • Die Erfindung betrifft einen Schichtaufbau, beinhaltend: (A) eine erste transparente, strahlungs-gravierbare Schicht (A) mit einer ersten Oberfläche a1), und einer zweiten Oberfläche a2), die im Wesentlichen parallel zu der Oberfläche a1) verläuft, wobei die erste Schicht (A) auf ihrer ersten Oberfläche a1), die eine erste Außenfläche des Schichtaufbaus bildet, eine bunte oder schwarze teilflächige Gravur aufweist, die mittels nicht-ionisierender elektromagnetischer Strahlung (E) erzeugt wurde; (B) optional eine weitere transparente strahlungs-gravierbare Schicht (B) mit einer ersten Oberfläche b1), die in Richtung der ersten Schicht (A) weist und einer weiteren Oberfläche b2), die in die Richtung weist, die abgewandt von der ersten Schicht (A) ist und im Wesentlichen parallel zu der Oberfläche b1) verläuft; (C) optional mindestens eine zusätzliche transparente Kunststoff-Schicht (C), wobei die zusätzliche Schicht (C) wahlweise angeordnet ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus: auf der Seite der ersten Oberfläche a1) der Schicht (A), auf der Seite der weiteren Oberfläche b2) der weiteren Schicht (B), zwischen den beiden Schichten (A) und (B) oder bei mehreren weiteren Schichten (C) einer Kombination aus mindestens zwei hiervon, wobei sich ein Abbild der bunten oder schwarzen teilflächigen Gravur in Form einer intransparenten Strukturveränderung an der Oberfläche des Schichtaufbaus befindet, die eine weitere Außenfläche des Schichtaufbaus bildet und der ersten Oberfläche a1) gegenüberliegt. Ebenfalls betrifft die Erfindung die Herstellung des Schichtaufbaus als auch ein Sicherheitsdokument enthaltend den erfindungsgemäßen Schichtaufbau.