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    • 6. 发明授权
    • Methods to form a memory cell with metal-rich metal chalcogenide
    • 用金属富金属硫族化物形成记忆电池的方法
    • US06867114B2
    • 2005-03-15
    • US10231779
    • 2002-08-29
    • John T. MooreTerry L. GiltonKristy A. Campbell
    • John T. MooreTerry L. GiltonKristy A. Campbell
    • H01L27/24H01L45/00H01L21/04
    • H01L45/1675H01L27/2463H01L45/085H01L45/143H01L45/1641
    • The invention relates to the fabrication of a resistance variable material cell or programmable metallization cell. The processes described herein can form a metal-rich metal chalcogenide, such as, for example, silver-rich silver selenide. Advantageously, the processes can form the metal-rich metal chalcogenide without the use of photodoping techniques and without direct deposition of the metal. For example, the process can remove selenium from silver selenide. One embodiment of the process implants oxygen to silver selenide to form selenium oxide. The selenium oxide is then removed by annealing, which results in silver-rich silver selenide. Advantageously, the processes can dope silver into a variety of materials, including non-transparent materials, with relatively high uniformity and with relatively precise control.
    • 本发明涉及电阻可变材料单元或可编程金属化单元的制造。 本文所述的方法可形成金属富金属硫族化物,例如富银硒化银。 有利的是,该方法可以形成富含金属的金属硫属元素化物,而不需要使用光致激发技术,而不会直接沉积金属。 例如,该过程可以从硒化银中除去硒。 该方法的一个实施方案是将氧沉积到硒化银以形成氧化硒。 然后通过退火除去氧化硒,这导致富银银硒化银。 有利的是,该方法可以将银掺杂到各种材料中,包括非透明材料,具有相对高的均匀性和相对精确的控制。