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1. 发明专利

JP5778686B2 新規共重合体有权
标题翻译：新共聚物
公开(公告)号：JP5778686B2
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：JP2012542801
申请日：2011-11-02
申请人：日本曹達株式会社 , JSR株式会社
发明人：新谷武士 , 岡戸俊明 , 成瀬秀則 , 梶田徹
IPC分类号： C08F297/02
CPC分类号： C08F265/04 , C08F297/026 , C09D11/326

2. 发明专利

JP5996751B2 新規共重合体有权
标题翻译：新共聚物
公开(公告)号：JP5996751B2
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：JP2015184104
申请日：2015-09-17
申请人：日本曹達株式会社 , JSR株式会社
发明人：新谷武士 , 岡戸俊明 , 丹藤泉 , 成瀬秀則 , 梶田徹
IPC分类号： C08F297/02

3. 发明专利

JP2016035064A 新規共重合体有权
标题翻译：新型共聚物
公开(公告)号：JP2016035064A
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：JP2015184104
申请日：2015-09-17
申请人：日本曹達株式会社 , JSR株式会社
发明人：新谷武士 , 岡戸俊明 , 丹藤泉 , 成瀬秀則 , 梶田徹
IPC分类号： C08F297/02
摘要：【課題】優れた顔料分散性能を有する新規共重合体の提供、特に、カラーフィルタにおいて、緑色画素の高輝度化及び高コントラスト化を達成することができる顔料分散剤として使用できる新規共重合体の提供。【解決手段】3級アミノ基を有する繰り返し単位を含むブロック鎖(A)と、式(I)で表される繰り返し単位を含むブロック鎖(B)を含有し、アミン価が80〜250mgKOH/gである共重合体。 (R 1 はH又はC1〜C3アルキル基;R 2 及びR 3 は夫夫独立にH又はC1〜C6アルキル基;Qは置換基としてアルキル基を有していてもよい含酸素飽和ヘテロ環基又はC2〜C20アルケニル基;nは0〜6の整数) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的颜料分散性能的新型共聚物，特别是提供一种可用作能够在滤色器中实现高亮度和高对比度的绿色像素的颜料分散剂的新共聚物。解决方案：有提供含有含有具有叔氨基的重复单元的嵌段链（A）和含有式（I）所示的重复单元的嵌段链（B））的共聚物，其胺值为80〜250mgKOH / G。（R代表H或具有1至3个碳原子的烷基; Rand Reach独立地表示H或具有1至6个碳原子的烷基; Q表示可以具有烷基作为取代基的含氧饱和杂环基或具有2至20个碳原子的烯基; n表示0至6的整数。）选择的图示：无

4. 发明专利

JP5750953B2 硬化膜の形成方法有权
标题翻译：用于形成固化膜的方法
公开(公告)号：JP5750953B2
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：JP2011057284
申请日：2011-03-15
申请人： JSR株式会社
发明人：高瀬英明 , 一戸大吾 , 梶田徹
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G02B5/20 , G03F7/028

5. 发明申请

WO2005109100A1 感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，间隔物及其形成方法
公开(公告)号：WO2005109100A1
公开(公告)日：2005-11-17
申请号：PCT/JP2005/003090
申请日：2005-02-18
申请人： JSR株式会社 , 梶田徹 , 一戸大吾 , 志保浩司
发明人：梶田徹 , 一戸大吾 , 志保浩司
IPC分类号： G03F7/032
CPC分类号： G03F7/038 , G02F1/1339
摘要：高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制された感放射線性樹脂組成物、それから形成されたスペーサー、およびその形成方法を提供すること。(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
摘要翻译：具有高灵敏度和高分辨率的辐射敏感性树脂组合物可以容易地形成包括图案形状，压缩强度，耐摩擦性和对透明基底的粘附性的各种性能优异的图案化薄膜，并且在燃烧时不会发出升华; 由该组合物形成的间隔物; 以及形成间隔物的方法。辐射敏感性树脂组合物的特征在于：（A）具有羧基和环氧基的聚合物，其中以聚苯乙烯换算的重均分子量（Mw）与数均分子量（Mn）的比率通过凝胶渗透色谱法测定的聚苯乙烯（Mw / Mn）为1.7以下，（B）聚合性不饱和化合物，（C）辐射敏感性聚合引发剂。

6. 发明申请

WO2005108458A1 硬化性樹脂組成物、保護膜およびその形成方法审中-公开
标题翻译：可固化树脂组合物，OVERCOATS及其形成方法
公开(公告)号：WO2005108458A1
公开(公告)日：2005-11-17
申请号：PCT/JP2005/003076
申请日：2005-02-18
申请人： JSR株式会社 , 梶田徹 , 馬場厚 , 志保浩司
发明人：梶田徹 , 馬場厚 , 志保浩司
IPC分类号： C08G59/20
CPC分类号： H01L23/293 , G03F7/0007 , G03F7/038 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：所要の透明性、耐熱性、表面硬度、密着性を満たすとともに、加熱下でも耐荷重性に優れ、焼成時の昇華物が少なく、また下地基板上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜を形成しうる硬化性樹脂組成物、この組成物から形成された保護膜、並びに該保護膜の形成方法を提供すること。(A)2個以上のエポキシ基を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体および(B)(A)成分とは異なるカチオン重合性化合物を含有する硬化性樹脂組成物。
摘要翻译：一种固化树脂组合物，其能够形成用于光滑装置的光学装置的外涂层，其使得形成在基板上的滤色器的不平坦表面平滑化，其满足透明性，耐热性，表面硬度和紧密粘合性的要求，并且甚至显示出优异的负载电阻在加热下很少产生升华在烘烤中; 由组合物制成的大衣; 以及形成大衣的过程。一种可固化树脂组合物，其包含（A）具有两个或更多个环氧基并且Mw / Mn比为1.7或更低的聚合物，其中Mw和Mn分别是重均分子量和数均分子量，由关于聚苯乙烯的凝胶渗透色谱法和（B）不同于组分（A）的阳离子可聚合化合物。

7. 发明申请

WO2005101124A1 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，中间层绝缘膜，微生物及其生产工艺
公开(公告)号：WO2005101124A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/JP2005/003071
申请日：2005-02-18
申请人： JSR株式会社 , 梶田徹 , 蓑輪貴樹 , 志保浩司
发明人：梶田徹 , 蓑輪貴樹 , 志保浩司
IPC分类号： G03F7/023
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0005
摘要：高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができそして焼成時に発生する昇華物が低減された、居間絶縁膜やマイクロレンズの形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、並びに(B)1,2-キノンジアジド化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
摘要翻译：具有高辐射敏感性的辐射敏感性树脂组合物，即使在显影步骤中超过最佳显影时间时，也可以形成具有期望图案构型的显影余量，其能够容易地形成具有优异粘附性的图案化薄膜并降低烧成时产生的升华物的量，适用于制造层间绝缘膜或微透镜。提供了一种辐射敏感性树脂组合物，其包含羧化环氧化聚合物（A），其显示出通过凝胶渗透色谱法测定的以聚苯乙烯换算的重均分子量（Mw）与数均分子量（Mn）之间的比例聚苯乙烯，Mw / Mn为1.7以下，1,2-醌二叠氮化合物（B）。

8. 发明申请

WO2005100445A1 光半導体封止用組成物、光半導体封止材および光半導体封止用組成物の製造方法审中-公开
标题翻译：用于密封光学半导体的组合物，光学半导体密封材料，用于生产用于密封光学半导体的组合物的AMD方法
公开(公告)号：WO2005100445A1
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：PCT/JP2005/007493
申请日：2005-04-13
申请人： JSR株式会社 , 秋池利之 , 梶田徹 , 山田欣司
发明人：秋池利之 , 梶田徹 , 山田欣司
IPC分类号： C08G77/14
CPC分类号： C08G77/14 , C08K5/09 , C08L83/06 , C09K3/1018 , H01L23/293 , H01L33/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：エポキシ基を有するシラン化合物とエポキシ基を持たないシラン化合物とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下で加熱して得られる重量平均分子量500～100万のポリオルガノシロキサン、それを主成分とする光半導体封止用組成物、光半導体封止材および光半導体。
摘要翻译：公开了通过在有机溶剂，有机碱和水的存在下加热具有环氧基的硅烷化合物和不具有环氧基的硅烷化合物而获得的重均分子量为500-1,000,000的聚有机硅氧烷。还公开了用于密封主要包含聚有机硅氧烷，光学半导体密封材料和光学半导体的光学半导体的组合物。

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