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1. 发明公开

EP1358467A1 PROCEDE DE CARACTERISATION OU DE CONTROLE DE L'ELABORATION D'UN COMPOSANT EN COUCHES MINCES PAR METHODES OPTIQUES 审中-公开
标题翻译：检定和制造薄膜 - 薄膜组分控制方法采用光学方法
公开(公告)号：EP1358467A1
公开(公告)日：2003-11-05
申请号：EP02701368.9
申请日：2002-01-31
申请人： Centre National de la Recherche Scientifique ( CNRS) , Jobin Yvon S.A.
发明人： HOFRICHTER, Alfred , DREVILLON, Bernard , KOUZNETSOV, Dmitri
IPC分类号： G01N21/21 , G01B11/06
CPC分类号： G01B11/0616 , G01N21/211
摘要： The invention relates to a method for characterising or controlling the production of a thin-layered component using optical methods. Acquired signals S1 and S2 are processed in order to obtain parameters x, ε of the deposited layers. The stacking is represented by the product of two Abeles matrices for each direction of polarisation s (perpendicular to the incidence plane) and p (parallel to the incidence plane): a known matrix Mos,p representing the support and matrix dMs,p representing a thin transparent layer being deposited. The signal variations measured, dS1 and dS2, are inverted to obtain thickness x and dielectric constant ε of the thin layer by means of the following operations: Taylor expansion as a function of variation dx of thickness x of the thin layer of the coefficients of matrix dM; the coefficients of matrix Ms,p are calculated each in the form A(ε±2) dx2 + B(ε±1) dx + C and the relation S¿1,2? = A1,2(ε?±2) dx2¿ + B¿1,2?(ε?±1¿) dx + C¿1,2? is thereby deduced which connects signals S1 and S2 to parameters ε and dx; dx is eliminated and a master function P(ε?±4¿) = 0 is thereby deduced; the equation is solved using a suitable method and the solutions to said equation are selected corresopnding to values that are physically plausible in order to measure ε and use the ε value obtained to determine dx.

2. 发明申请

WO2002061401A1 PROCEDE DE CARACTERISATION OU DE CONTROLE DE L'ELABORATION D'UN COMPOSANT EN COUCHES MINCES PAR METHODES OPTIQUES 审中-公开
标题翻译：使用光学方法表征或控制薄层组件的生产方法
公开(公告)号：WO2002061401A1
公开(公告)日：2002-08-08
申请号：PCT/FR2002/000380
申请日：2002-01-31
申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S.) , JOBIN YVON S.A. , HOFRICHTER, Alfred , DREVILLON, Bernard , KOUZNETSOV, Dmitri
发明人： HOFRICHTER, Alfred , DREVILLON, Bernard , KOUZNETSOV, Dmitri
IPC分类号： G01N21/21
CPC分类号： G01B11/0616 , G01N21/211
摘要： La présente invention concerne un procédé de caractérisation ou de contrôle de l'élaboration d'un composant en couches minces par méthodes optiques. On traite les signaux S1 et S2 ainsi acquis pour obtenir les paramètres x, e des couches déposées. L'empilement est représenté par le produit de deux matrices d'Abeles pour chaque direction de polarisation s (perpendiculaire au plan d'incidence) et p (parallèle au plan d'incidence) : une matrice Mos,p connue représentant le support, une matrice dMs,p représentant une couche mince transparente en cours de dépôt.L''inversion des variations des signaux mesurés dS1, dS2 permet d'obtenir l'épaisseur x et la constante diélectrique e de la couche mince par les opérations suivantes : développement de Taylor en fonction de la variation dx de l'épaisseur x de la couche mince des coefficients de la matrice dM, calcul des coefficients de la matrice Ms,p chacun sous la forme A(e±2) dx² + B(e±1) dx + C, en déduire la relation S1,2 = A1,2(e±2) dx² + B1,2(e±1) dx + C1,2 reliant les signaux S1 et S2 aux paramètres e et dx, éliminer dx, en déduire une fonction maître P(e±4) = 0, résoudre l'équation par une méthode appropriée, sélectionner les solutions de cette équation correspondant ô des valeurs physiquement plausibles, pour mesurer
摘要翻译：本发明涉及使用光学方法来表征或控制薄层成分的制造的方法。处理获取信号S1和S2以获得沉积层的参数x，ε。堆叠由每个偏振方向s（垂直于入射平面）和p（平行于入射平面）的两个Abeles矩阵的乘积表示：已知矩阵Mos，p表示支持和矩阵dMs，p表示薄的透明层被沉积。测量的信号变化dS1和dS2被反转以通过以下操作获得薄层的厚度x和介电常数ε：作为矩阵系数的薄层的厚度x的变化dx的函数的泰勒展开 DM; 矩阵Ms，p的系数各自以形式A（ε= +/- 2））dx2 + B（ε1+/- 1）dx + C计算，并且关系式S1,2 = A1，因此，推导出将信号S1和S2连接到参数ε和dx的2（ε<+/- 2>）dx2 + B1,2（epsilon <+/- 1>）dx + C1,2; dx被消除，从而推断出主函数P（ε<+/- 4>）= 0; 使用合适的方法来求解该方程，并且选择与所述方程式的解相对应的物理上似乎为了测量ε而使用获得的ε值来确定dx的值。

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