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    • 3. 发明申请
    • PROCEDE DE FABRICATION DE SUPPORTS AMPLIFICATEURS DE CONTRASTE
    • 制造对比放大基板的方法
    • WO2015055810A1
    • 2015-04-23
    • PCT/EP2014/072308
    • 2014-10-17
    • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUEUNIVERSITE DU MAINE
    • AUSSERRE, DominiqueAMRA, ClaudeZERRAD, MyriamABOU KHACHFE, Refahi
    • G02B1/11
    • G02B27/0012G01N21/01G01N2201/068G02B1/02G02B1/11G02B5/003G06F17/5086
    • Procédé de fabrication d'un support amplificateur de contraste (SAC') comprenant un substrat absorbant (SA) portant au moins une couche absorbante (CA'), ledit procédé comprenant une étape de conception dudit support et comprenant les étapes suivantes : i) choisir une longueur d'onde d'éclairage λ; ii) choisir un matériau constituant ledit substrat et présentant, à ladite longueur d'onde d'éclairage λ, un indice de réfraction complexe N 0 =n 0 - jk 0 avec k 0 ≥0,01; iii) choisir un milieu ambiant en contact avec ladite couche du côté opposé audit substrat et présentant, à ladite longueur d'onde d'éclairage λ, un indice de réfraction complexe N 3 =n 3 -jk 3 avec k 3 ≥0; iv) déterminer un indice de réfraction complexe nominal N 1 =n 1 -jk 1 et une épaisseur nominale e 1 de ladite couche telles qu'elle se comporte en tant que couche antireflet lorsqu'elle est éclairée en incidence normale à ladite longueur d'onde d'éclairage λ; et v) choisir un matériau constituant ladite couche et présentant, à ladite longueur d'onde d'éclairage λ, un indice de réfraction complexe dont les parties réelle et imaginaire coïncident avec celles dudit indice de réfraction complexe nominal.
    • 本发明涉及一种用于制造包括支持至少一个吸收层(CA')的吸收性基材(SA)的对比放大基板(SAC')的方法,所述方法包括设计所述基板的步骤,包括以下步骤:i )选择照明波长λ; ii)选择构成所述衬底的材料,并且在所述照射波长λ处具有复折射率N0 = n0-jk0,其中k0≥0.01; iii)选择与所述衬底相对侧的所述层接触的环境介质,并且在照明波长λ处具有复折射率N3 = n3-jk3,其中k3≥0; iv)确定所述层的标称复反射指数N1 = n1-jk1和标称厚度e1,使得当在所述照射波长λ下以正入射照射时,其表现为抗反射层; 以及v)选择构成所述层的材料,并且在所述照射波长λ处具有复折射率,其复数折射率与所述标称复反射指数的实数和虚部重合。
    • 8. 发明公开
    • PROCEDE DE FABRICATION DE SUPPORTS AMPLIFICATEURS DE CONTRASTE
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VONKONTRASTVERSTÄRKENDENSUBSTRATEN
    • EP3058399A1
    • 2016-08-24
    • EP14786862.4
    • 2014-10-17
    • Centre National de la Recherche ScientifiqueUniversite du Maine
    • AUSSERRE, DominiqueAMRA, ClaudeZERRAD, MyriamABOU KHACHFE, Refahi
    • G02B1/11
    • G02B27/0012G01N21/01G01N2201/068G02B1/02G02B1/11G02B5/003G06F17/5086
    • The invention relates to a method for manufacturing a contrast amplifying substrate (SAC') including an absorbent substrate (SA) supporting at least one absorbent layer (CA'), said method including a step of designing said substrate and including the following steps: i) selecting an illumination wavelength λ; ii) selecting a material constituting said substrate and having, at said illumination wavelength λ, a complex refraction index N
      0 =n
      0 - jk
      0 where k
      0 ≥0,01; iii) selecting an ambient medium in contact with said layer of the side opposite said substrate and having, at the illumination wavelength λ, a complex refraction index N
      3 =n
      3 -jk
      3 where k
      3 ≥0; iv) determining a nominal complex reflection index N
      1 =n
      1 -jk
      1 and a nominal thickness e
      1 of said layer such that it behaves as an antireflection layer when illuminated with normal incidence at said illumination wavelength λ; and v) selecting a material constituting said layer and having, at said illumination wavelength λ, a complex refraction index, the real and imaginary parts of which coincide with those of said nominal complex reflection index.
    • 一种对比放大支架的制造方法,其特征在于,包括承载至少一层吸收层的吸收性基板,其特征在于,具备支撑体的设计工序和后续工序:i)选择照射波长λ; ii)选择构成基板的材料,并且在照明波长λ处表现出具有k0≥0.01的复折射率N0 = n0-jk0; iii)选择与衬底相对侧的层接触的环境介质,并且在照明波长λ处表现出具有k3≥0的复折射率N3 = n3-jk3; iv)确定标称复折射率N1 = n1-jk1和该层的标称厚度e1,其中在照射波长λ的法线入射时照射时,其在抗反射层的幌子中行为; 以及v)选择构成层的材料,并且在照射波长λ处呈现其实部和虚部与标称复折射率重合的复折射率。