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1. 发明专利

JP6849119B2 直描露光装置有权
公开(公告)号：JP6849119B2
公开(公告)日：2021-03-24
申请号：JP2020037239
申请日：2020-03-04
申请人：株式会社ニコン
发明人：加藤正紀 , 奈良圭 , 鈴木智也 , 渡辺智行 , 鬼頭義昭 , 堀正和
IPC分类号： G03F7/24

2. 发明专利

JP2020201505A デバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020201505A
公开(公告)日：2020-12-17
申请号：JP2020139661
申请日：2020-08-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：鬼頭義昭 , 鈴木智也 , 堀正和
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/677 , B65H20/00 , G03F7/20
摘要：【課題】複数の処理工程の各々で使われる処理ユニットを効率的に運用させることができ、基板処理に係る製造ライン全体の生産性を向上させる。【解決手段】第1処理ユニット内に第1速度で搬送しながら、シート基板に感光性機能層を塗布する塗布工程と、第1処理ユニットから搬出されるシート基板を第1回収ロールに巻き取って切断する第1の回収工程と、シート基板を第1速度よりも遅い第2速度で搬送しつつ第2処理を施す第2処理ユニットのうち、シート基板を処理していない第2処理ユニット内に、シート基板を搬送しつつ感光性機能層にパターンを形成する第1のパターン形成工程と、シート基板を第2回収ロールに巻き取って切断する第2の回収工程と、第2回収ロールに巻かれたシート基板を搬送しつつ感光性機能層にパターンを形成する第2のパターン形成工程と、を含み、第1のパターン形成工程の完了前に第2のパターン形成工程を開始するように設定した。【選択図】図1

3. 发明专利

JP6794980B2 基板処理装置、及びデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6794980B2
公开(公告)日：2020-12-02
申请号：JP2017502524
申请日：2016-02-26
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 奈良圭 , 加藤正紀 , 渡辺智行 , 鬼頭義昭 , 堀正和 , 林田洋祐 , 小宮山弘樹
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24

4. 发明专利

JP6787447B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6787447B2
公开(公告)日：2020-11-18
申请号：JP2019119918
申请日：2019-06-27
申请人：株式会社ニコン
发明人：堀正和 , 林田洋祐 , 鬼頭義昭 , 加藤正紀 , 鈴木智也
IPC分类号： G01B11/24 , G03F7/24 , G01B11/00

5. 发明专利

JP2020079954A 基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020079954A
公开(公告)日：2020-05-28
申请号：JP2020025525
申请日：2020-02-18
申请人：株式会社ニコン
发明人：堀正和 , 鬼頭義昭 , 鈴木智也 , 渡辺智行 , 林田洋祐 , 加藤正紀
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/68 , H01L21/677 , G03F7/20
摘要：【課題】円筒部材の周方向における位置をエンコーダ計測するにあたって、計測時のアッベ誤差を最小にする。【解決手段】回転ドラムと、シート基板が回転ドラムに密着支持される周方向の範囲内の第1の特定位置で、シート基板に処理を施す第1の処理部と、シート基板の周方向における位置変化をエンコーダ計測する為に、回転ドラムと共に中心線の回りに回転するように回転ドラムの中心線の方向の端面側に設けられ、回転ドラムの回転の周方向に沿って所定ピッチで環状に刻設される目盛が中心線と垂直な側面に形成されたスケール円盤と、回転ドラムの回転の周方向に関して第1の特定位置と同じ方位であって、スケール円盤の側面と対向するように配置され、目盛を読み取る第1のエンコーダヘッドと、を備え、回転ドラムの外周面の半径と、第1のエンコーダヘッドによる目盛の読取位置の中心線からの距離とを同じに設定した、基板処理装置。【選択図】図23

6. 发明专利

JP6665953B2 デバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6665953B2
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：JP2019008350
申请日：2019-01-22
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也
IPC分类号： H01L29/786 , B41M1/30 , B41M1/34 , H01L51/50 , H05B33/02 , G02F1/13 , G02F1/1368 , H05B33/10 , H01L21/336

7. 发明专利

JP6575651B2 基板処理装置の性能確認方法有权
公开(公告)号：JP6575651B2
公开(公告)日：2019-09-18
申请号：JP2018162329
申请日：2018-08-31
申请人：株式会社ニコン
发明人：倉重貴広 , 加藤正紀 , 鈴木智也
IPC分类号： G03F7/20

8. 发明专利

JP2019153809A 湿式処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019153809A
公开(公告)日：2019-09-12
申请号：JP2019094399
申请日：2019-05-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 木内徹
IPC分类号： C23C18/31 , B08B11/00 , H05K3/18 , H01L21/027
摘要：【解決手段】基板Pの表面を液体によって処理する湿式処理装置PR4は、基板Pの搬送方向に離して順に配置されるローラR10、調整ローラRT10、及びローラR11を有し、基板PをローラR10、調整ローラRT10、及びローラR11に略V字状に掛け渡して長尺方向に搬送する搬送機構40と、ローラR10と調整ローラRT10との間を平面的に通る基板Pに沿って設けられ、湿式処理されない基板Pの裏面を非接触又は低摩擦の状態で平面状に支持する平面支持部34と、基板Pを挟んで平面支持部34と対向するように設けられ、湿式処理される基板Pの表面から垂直方向に所定の厚みで液体LQ1を保持すると共に、液体LQ1が基板Pの表面と接液する所定領域を囲むように基板Pの表面と対向して、液体LQ1の第1の所定領域外への遺漏を防止するシール部SEPeを有する液体保持機構30と、を備える。【選択図】図8

9. 发明专利

JP2019152879A デバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019152879A
公开(公告)日：2019-09-12
申请号：JP2019096281
申请日：2019-05-22
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 木内徹 , 宮地章
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00 , G03F9/00
摘要：【課題】種々の大きさの表示デバイスのパターンを基板に転写させることができるデバイス製造方法を提供する。【解決手段】所定の中心線から一定半径の円筒状の外周面に沿って形成され、デバイスパターンのうち少なくとも画素部に関わる第1パターンが、繰返しパターン領域と、緩衝領域とを有し、繰返しパターン領域の2以上のn個が緩衝領域のn−1個を挟み込んで外周面の周方向に継ぎ合せたときの大きさを、基板に転写されるデバイスパターンの長尺方向の大きさに対応させた円筒状マスクを用意することと、基板の長尺方向への移動と円筒状マスクの回転とを同期させ、円筒状マスクの繰返しパターン領域と緩衝領域とが基板上で長尺方向に順次継ぎ合されるように転写する第1の露光工程と、円筒状マスクの緩衝領域に対応した基板上の領域に、第1パターンと実質的に同じ形状のパターンを追加転写する第2の露光工程と、を含む。【選択図】図8

10. 发明专利

JP6551562B2 シート基板の搬送装置有权
公开(公告)号：JP6551562B2
公开(公告)日：2019-07-31
申请号：JP2018037938
申请日：2018-03-02
申请人：株式会社ニコン
发明人：堀正和 , 鬼頭義昭 , 鈴木智也 , 渡辺智行 , 林田洋祐 , 加藤正紀
IPC分类号： G01D5/245 , G03F9/00 , G03F7/20 , G03F7/24 , B65H20/02 , B65H43/00 , B65H23/18 , H01L21/68 , G01D5/244

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