专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201303977A 新型熱處理設備审中-公开
简体标题：新型热处理设备
公开(公告)号：TW201303977A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101120494
申请日：2012-06-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG, EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 李吉平 , LI, JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要：本發明大體而言係關於光學系統，該光學系統能夠跨越包含於基材之表面上的退火區域可靠地遞送數量均勻之能量。該光學系統經調適以在基材之表面上之所要區域上遞送或投射具有所要二維形狀的數量均勻之能量。用於光學系統之能量源通常為複數個雷射，該複數個雷射經組合以形成能量場。
简体摘要：本发明大体而言系关于光学系统，该光学系统能够跨越包含于基材之表面上的退火区域可靠地递送数量均匀之能量。该光学系统经调适以在基材之表面上之所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀之能量。用于光学系统之能量源通常为复数个激光，该复数个激光经组合以形成能量场。

2. 发明专利

TWI381452B 用於擴大溫度高溫測定之方法與設備失效
简体标题：用于扩大温度高温测定之方法与设备
公开(公告)号：TWI381452B
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW098125587
申请日：2009-07-29
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC. , 先進能量工業公司 , ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
发明人：杭特艾倫M , HUNTER, AARON M. , 李吉平 , LI, JIPING , 拉馬諾札拉傑希S , RAMANUJAM, RAJESH S. , 郝湯瑪士 , HAW, THOMAS
IPC分类号： H01L21/324 , G01J5/10

3. 发明专利

TWI700736B 用於熱處理基材之設備與系統以及用於組合電磁能脈衝之設備有权
简体标题：用于热处理基材之设备与系统以及用于组合电磁能脉冲之设备
公开(公告)号：TWI700736B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107145005
申请日：2012-06-07
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT,STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN,DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS,SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG,EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS,BRUCE E. , 李吉平 , LI,JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER,AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324

4. 发明专利

TWI547978B 用於熱處理基材之設備與系統以及用於組合電磁能脈衝之設備有权
简体标题：用于热处理基材之设备与系统以及用于组合电磁能脉冲之设备
公开(公告)号：TWI547978B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW101120494
申请日：2012-06-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG, EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 李吉平 , LI, JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057

5. 发明专利

TW201312673A 利用獨立光源以測量晶圓溫度之方法與設備审中-公开
简体标题：利用独立光源以测量晶圆温度之方法与设备
公开(公告)号：TW201312673A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101124043
申请日：2012-07-04
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：李傑瑞阿瑪 , LEE, JARED AHMAD , 李吉平 , LI, JIPING
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/306
CPC分类号： G01J5/0007 , H01L21/67248
摘要：本發明提供一種用於在蝕刻製程期間測量基材溫度的設備，該設備包含：一或多個窗口，該等窗口形成在基材支撐表面中；第一訊號產生器，該第一訊號產生器經配置以激發第一訊號；及第一感測器，該第一感測器經設置以接收：從該第一訊號產生器透射穿越一或多個窗口的能量。本發明提供一種用於在蝕刻製程期間測量基材溫度的方法，該方法包含以下步驟：使用幅射能量來加熱基材；激發第一光；決定代表當該第一光開啟時穿越基材的總體透射率之量度(metric)；決定代表當該第一光關閉時穿越基材的背景透射率之量度；及決定製程溫度。
简体摘要：本发明提供一种用于在蚀刻制程期间测量基材温度的设备，该设备包含：一或多个窗口，该等窗口形成在基材支撑表面中；第一信号产生器，该第一信号产生器经配置以激发第一信号；及第一传感器，该第一传感器经设置以接收：从该第一信号产生器透射穿越一或多个窗口的能量。本发明提供一种用于在蚀刻制程期间测量基材温度的方法，该方法包含以下步骤：使用幅射能量来加热基材；激发第一光；决定代表当该第一光打开时穿越基材的总体透射率之量度(metric)；决定代表当该第一光关闭时穿越基材的背景透射率之量度；及决定制程温度。

6. 发明专利

TW201812868A 用於熱處理基材之設備與系統以及用於組合電磁能脈衝之設備审中-公开
简体标题：用于热处理基材之设备与系统以及用于组合电磁能脉冲之设备
公开(公告)号：TW201812868A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106128051
申请日：2012-06-07
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT,STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN,DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS,SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG,EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS,BRUCE E. , 李吉平 , LI,JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER,AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要：本發明大體而言係關於光學系統，該光學系統能夠跨越包含於基材之表面上的退火區域可靠地遞送數量均勻之能量。該光學系統經調適以在基材之表面上之所要區域上遞送或投射具有所要二維形狀的數量均勻之能量。用於光學系統之能量源通常為複數個雷射，該複數個雷射經組合以形成能量場。
简体摘要：本发明大体而言系关于光学系统，该光学系统能够跨越包含于基材之表面上的退火区域可靠地递送数量均匀之能量。该光学系统经调适以在基材之表面上之所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀之能量。用于光学系统之能量源通常为复数个激光，该复数个激光经组合以形成能量场。

7. 发明专利

TWI600063B 用於熱處理基材之設備與系統以及用於組合電磁能脈衝之設備有权
简体标题：用于热处理基材之设备与系统以及用于组合电磁能脉冲之设备
公开(公告)号：TWI600063B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW105115758
申请日：2012-06-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG, EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 李吉平 , LI, JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057

8. 发明专利

TW201637079A 用於熱處理基材之設備與系統以及用於組合電磁能脈衝之設備审中-公开
简体标题：用于热处理基材之设备与系统以及用于组合电磁能脉冲之设备
公开(公告)号：TW201637079A
公开(公告)日：2016-10-16
申请号：TW105115758
申请日：2012-06-07
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：莫非特史帝夫 , MOFFATT, STEPHEN , 霍姆葛倫道格拉斯E , HOLMGREN, DOUGLAS E. , 赫威爾斯山謬C , HOWELLS, SAMUEL C. , 童艾德瑞克 , TONG, EDRIC , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E. , 李吉平 , LI, JIPING , 杭特亞倫穆爾 , HUNTER, AARON MUIR
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/477 , B23K26/0006 , B23K26/0081 , B23K26/03 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/0608 , B23K26/0622 , B23K26/08 , B23K26/127 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , F27B5/14 , H01L21/268 , H01S3/0057
摘要：本發明大體而言係關於光學系統，該光學系統能夠跨越包含於基材之表面上的退火區域可靠地遞送數量均勻之能量。該光學系統經調適以在基材之表面上之所要區域上遞送或投射具有所要二維形狀的數量均勻之能量。用於光學系統之能量源通常為複數個雷射，該複數個雷射經組合以形成能量場。
简体摘要：本发明大体而言系关于光学系统，该光学系统能够跨越包含于基材之表面上的退火区域可靠地递送数量均匀之能量。该光学系统经调适以在基材之表面上之所要区域上递送或投射具有所要二维形状的数量均匀之能量。用于光学系统之能量源通常为复数个激光，该复数个激光经组合以形成能量场。

9. 发明专利

TW201023270A 用於擴充的高溫測定的方法和設備 METHOD AND APPARATUS FOR EXTENDED TEMPERATURE PYROMETRY 失效
简体标题：用于扩充的高温测定的方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR EXTENDED TEMPERATURE PYROMETRY
公开(公告)号：TW201023270A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW098125587
申请日：2009-07-29
申请人：應用材料股份有限公司 , 先進能量工業公司
发明人：杭特艾倫M , 李吉平 , 拉馬諾札拉傑希S , 郝湯瑪士
IPC分类号： H01L , G01J
摘要：本發明具體實施方式是有關於一種在擴大溫度測定範圍(包含低溫)下快速熱處理一基板的方法和設備。在此也揭露了一種使用一擴大測定溫度範圍之高溫計系統的(其採用了一穿透式偵測器系統)系統和方法。同時也敘述了結合穿透式輻射偵測器系統和發射式輻射偵測器系統的系統。
简体摘要：本发明具体实施方式是有关于一种在扩大温度测定范围(包含低温)下快速热处理一基板的方法和设备。在此也揭露了一种使用一扩大测定温度范围之高温计系统的(其采用了一穿透式侦测器系统)系统和方法。同时也叙述了结合穿透式辐射侦测器系统和发射式辐射侦测器系统的系统。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式