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1. 发明申请

WO2008016069A1 ワーク加工機、このワーク加工機を用いたワーク加工システム及びワーク加工方法审中-公开
标题翻译：工作处理机，工作处理系统及使用加工机器的工序处理方法
公开(公告)号：WO2008016069A1
公开(公告)日：2008-02-07
申请号：PCT/JP2007/065042
申请日：2007-08-01
申请人：シチズンホールディングス株式会社 , 金谷昭秀 , 安藤洋介 , 竹内庸二 , 松本仁 , 益田昌章 , 高橋光 , 古正明
发明人：金谷昭秀 , 安藤洋介 , 竹内庸二 , 松本仁 , 益田昌章 , 高橋光 , 古正明
IPC分类号： B23B15/00 , B23B3/30 , B23Q41/02 , G05B19/4061
CPC分类号： B23B3/06 , B23Q41/02
摘要：　三つの主軸（１１１），（１１２），（１１３）と少なくとも前記主軸の各々に対応して設けられた複数の刃物台を有する二台のワーク加工機（１），（１′）の組を、主軸の配置が線対称の関係になるように配置し、組を構成する二つのワーク加工機（１），（１′）のうち、加工工程の上流側に位置する一方のワーク加工機（１）の第三主軸（１１３）と、下流側に位置する他方のワーク加工機（１′）の第三主軸（１１３′）とを同一の軸線上で対向させ、一方のワーク加工機（１）の第三主軸（１１３）と他方のワーク加工機（１′）の第三主軸（１１３′）とを互いに接近させる方向に移動させることで、一方のワーク加工機の第三主軸（１１３）から他方のワーク加工機の第三主軸（１１３′）にワークを受け渡すようにした。
摘要翻译：一对具有主轴（111,112,113）和对应于每个主轴布置的至少多个叶片台的加工机（1,1'）被布置成使得主轴线对称布置。在构成该对的两个加工机（1,1）中，处理步骤上游的一个加工机（1）的第三主轴（113）和其他工件的第三主轴（113'）在下游的加工机（1'）面对同一轴线，一个加工机（1）的第三主轴（113）和另一个加工机的第三主轴（113'）（1'）沿两个主轴彼此靠近的方向移动。因此，工件从一个加工机的第三主轴（113）传递到另一个加工机的第三主轴（113'）。

2. 发明专利

JP2016047495A ワーク分離装置审中-公开
标题翻译：工作分离装置
公开(公告)号：JP2016047495A
公开(公告)日：2016-04-07
申请号：JP2014172878
申请日：2014-08-27
申请人：シチズンホールディングス株式会社 , シチズンマシナリー株式会社
发明人：粕谷浩史 , 柳川章全 , 小竹恭太 , 秋元暁 , 茂木貴裕 , 竹内庸二 , 露崎梅夫
IPC分类号： B23Q11/00 , B03B5/64
CPC分类号： B03B5/64 , B23Q11/00
摘要：【課題】加工屑またはワークを分離容器上端の液面上に滞留させることなく円滑に排出するワーク分離装置を提供すること。【解決手段】液体供給手段130が、送出口121aよりも下方から液体を供給して分離容器110内に下方から上方への液流を発生させ、この液流によって分離容器110における上方に位置する流出口115aから液体を溢れて流出させ、投入筒120に投入されて送出口121aから分離容器110内に送り出される混合物からワークWと加工屑Kとを分離するワーク分離装置100において、分離容器110中の送出口121aから流出口115aまでの区間LB1、LB2における分離容器内側と投入筒外側との間の液体流路の平面視の断面積Sが、送出口121aの位置より、流出口115aの位置で小さくなるように形成されているワーク分離装置100。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种工作分离装置，其能够在分离容器上端部的液面上平滑地排出加工屑或加工而不将其积聚在液面上。解决方案：在工作分离装置100中，液体供给装置130从下部在分离容器110中产生从下侧到上侧的液体流的排出口121a的侧面，液体流动使液体从位于分离容器110的上部的流出口115溢出并流出，并且加工W和加工屑K与装入充气筒120中的混合物分离，并从输送口121a送入分离容器110。在分离容器内部的液体通道的平面图中的从分配容器110中的输送口121a到流出端口115a的部分LB1和LB2中的充气筒之间的横截面积S在流出口115a比在输送口121a的位置处的流出口115a

3. 发明专利

JP5806235B2 ワーク分離装置有权
标题翻译：工作分离装置
公开(公告)号：JP5806235B2
公开(公告)日：2015-11-10
申请号：JP2012548782
申请日：2011-12-13
申请人：シチズンホールディングス株式会社 , シチズンマシナリー株式会社
发明人：柳川章全 , 粕谷浩史 , 小竹恭太 , 秋元暁 , 竹内庸二 , 露▲崎▼ 梅夫 , 茂木貴裕
IPC分类号： B03B5/28 , B23Q11/00
CPC分类号： B03B5/623 , B03B5/00 , B08B3/048 , B23Q11/0075 , B23Q7/12 , Y02P70/171

4. 发明专利

JP6278640B2 ガイドブッシュ装置有权
公开(公告)号：JP6278640B2
公开(公告)日：2018-02-14
申请号：JP2013176326
申请日：2013-08-28
申请人：シチズン時計株式会社 , シチズンマシナリー株式会社
发明人：竹内庸二
IPC分类号： B23B13/12

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