专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JPWO2020080461A1 水質管理方法、イオン吸着装置、情報処理装置および情報処理システム有权
公开(公告)号：JPWO2020080461A1
公开(公告)日：2021-02-15
申请号：JP2019040870
申请日：2019-10-17
申请人：オルガノ株式会社
发明人：山下幸福 , 矢野大作 , 蔦野恭平
IPC分类号： C02F1/28 , G01N33/18
摘要：分析対象水に含まれる不純物イオンの濃度を管理する水質管理方法は、イオン吸着体(24)と積算流量計(26)とが設けられたイオン吸着装置(20)を分析対象水が流れる流通管(11)に接続する工程と、イオン吸着装置(20)に対して所定の期間にわたって流通管(11)からイオン吸着体(24)に分析対象水を通水して分析対象水に含まれるイオンを吸着させてイオン吸着体試料とする工程と、を有する。イオン吸着装置(20)において、イオン吸着体(24)の分析対象水の流れ方向の下流側に積算流量計(26)を設ける。

2. 发明专利

JP2019144143A 過酸化水素濃度の測定システムおよび測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019144143A
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：JP2018029279
申请日：2018-02-22
申请人：オルガノ株式会社
发明人：森野翔太 , 川上雅之 , 山下幸福 , 矢野大作
IPC分类号： G01N33/18 , G01N31/10 , G01N31/00
摘要：【課題】1台の溶存酸素濃度計を用い、測定系統を切り替えて検体水中の過酸化水素濃度を測定する場合に、測定系統の切り替え後の測定値が安定するまでの時間を短縮することができる過酸化水素濃度の測定システムおよび測定方法を提供する。【解決手段】検体水を採取して2つに分ける工程と、検体水の一方を直接溶存酸素濃度測定手段に導入して該検体水中の溶存酸素濃度を測定しながら、検体水の他方を過酸化水素分解手段で処理してそのまま排水する工程と、検体水の一方をそのまま排水しながら、検体水の他方を過酸化水素分解手段で処理して処理水を得、溶存酸素濃度測定手段に導入して該処理水中の溶存酸素濃度を測定する工程と、検体水中の溶存酸素濃度と処理水中の溶存酸素濃度とから、検体水中の過酸化水素濃度を算出する演算工程と、を含む、過酸化水素濃度測定方法。【選択図】図6

3. 发明专利

JP6117348B2 銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム有权
公开(公告)号：JP6117348B2
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：JP2015514807
申请日：2014-04-17
申请人：オルガノ株式会社
发明人：矢野大作 , 村山雅美 , 山下幸福 , 山中弘次
IPC分类号： B01F1/00 , C02F1/32 , C02F1/58 , B01J31/08 , H01L21/304
CPC分类号： B08B3/08 , B01J31/08 , C02F1/32 , C02F9/00 , C11D7/02 , C23G1/103 , C23G1/20 , H01L21/02068 , H01L21/6704 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/68 , C02F2103/04

4. 发明专利

JP6754512B1 水質管理方法、イオン吸着装置、情報処理装置および情報処理システム有权
公开(公告)号：JP6754512B1
公开(公告)日：2020-09-09
申请号：JP2020522081
申请日：2019-10-17
申请人：オルガノ株式会社
发明人：山下幸福 , 矢野大作 , 蔦野恭平
IPC分类号： G01N30/00 , C02F1/28 , C02F1/00 , G01N33/18
摘要：分析対象水に含まれる不純物イオンの濃度を管理する水質管理方法は、イオン吸着体(24)と積算流量計(26)とが設けられたイオン吸着装置(20)を分析対象水が流れる流通管(11)に接続する工程と、イオン吸着装置(20)に対して所定の期間にわたって流通管(11)からイオン吸着体(24)に分析対象水を通水して分析対象水に含まれるイオンを吸着させてイオン吸着体試料とする工程と、を有する。イオン吸着装置(20)において、イオン吸着体(24)の分析対象水の流れ方向の下流側に積算流量計(26)を設ける。

5. 发明专利

JP2019132677A 過酸化水素濃度の測定システムおよび測定方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019132677A
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：JP2018014416
申请日：2018-01-31
申请人：オルガノ株式会社
发明人：森野翔太 , 川上雅之 , 山下幸福 , 矢野大作
IPC分类号： G01N33/18
摘要：【課題】検体水中の過酸化水素を連続的かつ高精度で定量することができる過酸化水素濃度の測定方法および測定システムを提供する。【解決手段】水処理プロセスの所定位置から採取した検体水中の過酸化水素濃度を測定する方法であって、検体水を採取する採取工程と、検体水又は検体水を過酸化水素分解手段で処理した処理水の溶存酸素濃度を第1溶存酸素濃度測定手段と第2溶存酸素濃度測定手段とで測定して、2つの溶存酸素濃度値の差分である補正値を取得する補正値取得工程と、検体水中の溶存酸素濃度を第1溶存酸素濃度測定手段で測定し、処理水中の溶存酸素濃度を第2溶存酸素濃度測定手段で測定して、2つの溶存酸素濃度値の差分である測定値を取得する測定値取得工程と、測定値取得工程で得られた測定値と補正値取得工程で得られた補正値とから、補正した過酸化水素濃度を算出する演算工程と、を含む。【選択図】図7

6. 发明专利

JP2015088740A 基板処理方法および基板処理装置审中-公开
标题翻译：用于处理基板的方法和装置
公开(公告)号：JP2015088740A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2014185063
申请日：2014-09-11
申请人：オルガノ株式会社
发明人：矢野大作 , 山下幸福 , 村山雅美 , 山中弘次
IPC分类号： C02F1/68 , C02F1/70 , B01J23/44 , H01L21/304
摘要：【課題】基板表面に露出した金属配線の腐食や酸化を、より一層抑制できる、基板処理方法及び基板処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、基板Wが配置され、基板Wを処理する基板処理液が供給される処理室2を有する基板処理装置1に係る。この装置は、基板Wが配置された処理室2の中に不活性ガスを充填する不活性ガス充填機構(18,39,41)と、処理室2の近傍または内部に設置され、超純水に水素を添加してなる水素溶解水を通液する白金族系金属触媒が充填された触媒ユニット21と、を備え、該水素溶解水を白金族系金属触媒に通液して得た水素溶解処理液を前記基板処理液として処理室(2)内に供給するものである。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够进一步抑制暴露在基板表面上的金属丝的腐蚀或氧化的基板的处理方法和装置。解决方案：本发明涉及一种基板处理装置1，其具有处理室 2，其中设置有基板W，并且供应用于处理基板W的基板处理液体。该装置包括：惰性气体填充机构（18,39,41），用于在其中设置有基底W的处理室2的内部填充惰性气体; 以及安装在处理室2附近或内部的催化单元21，并且填充有允许氢溶解的水通过的铂族金属催化剂，所述氢溶解的水包含加入氢的超纯水。将氢溶解处理液作为基板处理液体供给到处理室2中，通过使溶解了氢的水通过铂族金属催化剂得到氢溶解处理液。

7. 发明专利

JP2015088726A モリブデン露出基板の処理方法审中-公开
标题翻译：用于处理暴露于茂氏基底的方法
公开(公告)号：JP2015088726A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2014097459
申请日：2014-05-09
申请人：オルガノ株式会社
发明人：矢野大作 , 山下幸福 , 村山雅美 , 山中弘次
IPC分类号： H01L21/308 , H01L21/304
摘要：【課題】基板表面に露出したモリブデンの腐食を、より一層抑制できる、モリブデン露出基板の処理方法を提供する。【解決手段】本発明の方法は、基板Wが配置され、基板Wを処理する基板処理液が供給される処理室2を有する基板処理装置1により実現できる。この装置は、基板Wが配置された処理室2の中に不活性ガスを充填する不活性ガス充填機構(18,39,41)と、水素が添加された超純水である水素溶解水を通す白金族系金属触媒が充填された触媒ユニット21と、水素溶解水を触媒ユニット22に通水して得た水素溶解処理液を通す膜分離ユニット22と、を備え、膜分離ユニット22を通った水素溶解処理液を前記基板処理液として処理室2に向けて供給するものである。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种处理暴露于钼的基板的方法，能够进一步抑制暴露在基板表面上的钼的腐蚀。解决方案：本发明的方法可以通过具有处理的基板处理装置1来实现其中设置有基板W并且供应用于处理基板W的基板处理液体的腔室2。该装置包括：惰性气体填充机构（18,39,41），用于在其中设置有基底W的处理室2的内部填充惰性气体; 填充有允许氢溶解的水通过的铂族金属催化剂的催化单元21，所述氢溶解的水包含加入氢的超纯水; 以及使氢溶解处理液通过的膜分离单元22，通过使氢溶解的水通过催化单元21而获得的溶解氢的处理液。通过膜分离单元22的氢溶解处理液作为基板处理液体朝向处理室2供给。

8. 发明专利

JP2020179372A ガス溶解水製造装置および方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020179372A
公开(公告)日：2020-11-05
申请号：JP2019085684
申请日：2019-04-26
申请人：オルガノ株式会社
发明人：山下幸福 , 島崎裕史
IPC分类号： B01F3/04 , B01F5/06 , C02F1/68 , B01F1/00
摘要：【課題】ガス溶解水製造装置において、ガス溶解膜の耐水圧に制限されることなくガス溶解水の圧力を高めることを可能とする。【解決手段】ガス溶解膜によって区画された気相室と液相室とを備えるガス溶解膜モジュールを含む、被処理水にガスを溶解させてガス溶解水を製造するガス溶解水製造装置であって、前記液相室の二次側に設置された、ガス溶解水を昇圧する昇圧ポンプを含むことを特徴とするガス溶解水製造装置。【選択図】図1

9. 发明专利

JP6738726B2 希釈液製造装置および希釈液製造方法有权
公开(公告)号：JP6738726B2
公开(公告)日：2020-08-12
申请号：JP2016254940
申请日：2016-12-28
申请人：オルガノ株式会社
发明人：山下幸福 , 山中弘次 , 森野翔太
IPC分类号： B01F3/08 , B01J4/00 , B01F1/00 , B01F5/00 , B01F15/04

10. 发明专利

JP2018103146A 希釈液製造装置および希釈液製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018103146A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016254938
申请日：2016-12-28
申请人：オルガノ株式会社
发明人：山下幸福 , 山中弘次
IPC分类号： H01L21/304 , B01F3/08 , B01J4/00 , B01F1/00 , B01F5/00 , B01F15/04
摘要：【課題】所定の濃度に調整された希釈液を継続的かつ安定的に製造する。【解決手段】希釈液製造装置10は、第1の液体を供給する第1の配管11と、第2の液体を貯留する第1のタンク12aと、第1のタンク12aと第1の配管11とを接続する第2の配管13と、第1のタンク12a内の圧力を調整する圧力調整部18であって、第1のタンク12a内の第2の液体を第2の配管13を通じて圧送して第1の配管11に供給する圧力調整部18と、第1の配管11内を流れる第1の液体または希釈液の流量と希釈液の濃度との測定値に基づいて、希釈液の濃度が所定の濃度になるように、圧力調整部18による第1の液体への第2の液体の添加量を調整する制御部20と、第1のタンク12aに直列に接続され、第1のタンク12aに補充される第2の液体を一時的に貯留する第2のタンク12bと、を有している。【選択図】図2

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式