专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP2006088327A Device to hold and transport workpiece having plat face 审中-公开
标题翻译：设备保持和运输具有平面的工作
公开(公告)号：JP2006088327A
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：JP2005276009
申请日：2005-09-22
申请人： Singulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人： KEMPF STEFAN , ROHRMANN REINER
IPC分类号： B25J15/06
CPC分类号： H01L21/6838 , B65G47/911 , G11B23/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To supply a device for holding a workpiece by utilizing the venturi effect and transporting the workpiece in a holding force direction and/or a direction perpendicular to the holding force direction, and a method for using the same.
SOLUTION: In order to achieve the above purpose, there is provided with a retention plug engaged with an opening on the surface of the workpiece, a retention face that faces the plane on the retention side of the above workpiece, is a plane parallel to the surface, and surrounds the above retention plug and a gas supply means for injecting a gas or a gas mixture into a space to generate a gas flow via a gap arranged in the above retention plug and formed between the above workpiece surface and the flat and parallel area. This invention can lift, hold, and transport the workpiece having the opening by utilizing the venturi effect of the gas flow between the device and the workpiece.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：通过利用文丘里效应并沿与保持力方向垂直的保持力方向和/或方向输送工件来提供用于保持工件的装置及其使用方法。解决方案：为了实现上述目的，提供了一种与工件表面上的开口接合的保持插头，与上述工件的保持侧上的平面相对的保持面是平面平行于表面并且围绕上述保持塞和气体供应装置，用于将气体或气体混合物喷射到空间中，以通过布置在上述保持塞中的间隙产生气流，并形成在上述工件表面和平坦和平行的区域。本发明可利用装置和工件之间的气流的文丘里效应提升，保持和运送具有开口的工件。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

2. 发明专利

JP2005200214A Substrate support body adapter system 审中-公开
标题翻译：基板支撑体适配器系统
公开(公告)号：JP2005200214A
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：JP2004344301
申请日：2004-11-29
申请人： Singulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人： KEMPF STEFAN , MERZ THOMAS , RUNKEL STEFFEN
IPC分类号： B65G49/07 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C16/458 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/68728 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/68707
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate support body adapter system holding substrates with different shapes and sizes in a system, carrying them through the system, and used for various purposes. SOLUTION: This ring-shaped substrate support body comprises an internal space for receiving the substrates, a vertical annular wall part limiting the internal space, a projected projecting part present on the outer surface of the annular wall part, and two recessed groove parts engaged with a holding means. Also a device for operating the substrate support body holding and/or capable of holding the substrate support body is provided. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在系统中保持具有不同形状和尺寸的基板的基板支撑体适配器系统，将其运载通过系统，并用于各种目的。解决方案：该环形基板支撑体包括用于接收基板的内部空间，限制内部空间的垂直环形壁部分，存在于环形壁部分的外表面上的突出突出部分和两个凹槽与保持装置接合的零件。还提供了一种用于操作保持和/或能够保持基板支撑体的基板支撑体的装置。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

3. 发明专利

JP2016516290A 基板を自然に酸化する方法およびシステム有权
标题翻译：的方法和系统自然氧化衬底
公开(公告)号：JP2016516290A
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2015559464
申请日：2014-02-18
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：ベルトルト・オッカー , ヴォルフラム・マース
IPC分类号： H01L21/316 , C23C14/14 , C23C14/56 , C23C14/58 , H01L21/31 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67376 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/0223 , H01L21/02233 , H01L21/02238 , H01L21/67201 , H01L21/67389 , H01L31/18 , H01L31/1868 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本発明は、反応チャンバ内で基板を処理するシステムおよび方法に関する。搬送チャンバを、第1のロックと第2のロックとの間に配置し、第2のロックを、搬送チャンバと反応チャンバとの間に備える。本方法を行う際、基板を、第1のロック(12)を通過させて、搬送チャンバ内に搬送し、第1のロックを閉じる。次のステップにおいて、搬送チャンバを、反応チャンバ内と同じ気体で満たし(または、溢れさせ、flooded)、搬送チャンバ内の気体雰囲気の圧力および温度を、反応チャンバ内と同じであるように制御する。次いで、第2のロックを開き、基板を処理するために、基板を、搬送チャンバから、反応チャンバ内に搬送する。本発明はまた、本発明の方法を行うためのコンピュータプログラム製品に関する。
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理在反应室中的衬底的系统和方法。传送腔室被布置在第一锁定和第二锁之间，所述第二锁定装置包括输送腔室和反应室之间。执行该方法时，基板通过第一锁（12）被输送到传送室通过，关闭第一锁。在接下来的步骤中，传送腔室，填充有相同的气体作为反应室（或，淹，淹），压力和在传送室中的气体气氛的温度被控制为相同的反应室中。然后，打开第二锁，以便处理所述衬底，所述衬底，所述传送腔室被输送到反应室中。本发明还涉及一种计算机程序产品，用于执行本发明的方法。

5. 发明专利

JP2004344881A Method for drying coated cd-r substrate and recordable dvd substrate, especially coated with dyestuff, with infrared ray of short wavelength, in order to remove solvent residual material 审中-公开
公开(公告)号：JP2004344881A
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：JP2004149259
申请日：2004-05-19
申请人： Singulus Technologies Ag , ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人： HUBER MARCO , SCHRAMM HOLGER , NOVAK EMMERICH MANFRED
IPC分类号： F26B9/06 , B05D3/06 , F26B3/30 , F26B15/04 , F26B23/04 , G11B7/26
CPC分类号： F26B15/04 , F26B3/30
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and a device for drying a substrate, especially a CD-R substrate or a recordable DVD semi-substrate which is coated with a dyestuff dissolved in a solvent.
SOLUTION: The coated substrate is irradiated with an electromagnetic wave within the range of infrared. The coated surface of the substrate is irradiated with a short-wavelength radiation within the range of infrared having the maximum intensity at wavelengths between approximately 1.3 μm and 1.7 μm.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

6. 发明专利

JP2019529691A 基板の同時の回転及び浮揚のための非接触基板キャリア审中-公开
公开(公告)号：JP2019529691A
公开(公告)日：2019-10-17
申请号：JP2019504752
申请日：2017-06-27
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフト , SINGULUS TECHNOLOGIES AG
发明人：アレクセイ・イヴァノフ , アンドレアス・クレプル , ヨハネス・リヒター
IPC分类号： C23C14/50 , H01L21/683 , H01L21/31 , C23C16/458
摘要：基板の堆積及び/またはエッチングの間の基板(130)の同時の回転と浮揚のためのシステム(100)及び対応する方法。システム(100)は、基板(130)下に設置されたキャリア(110)を備え、キャリア(110)は、キャリア上の基板を浮揚するための基板(130)の底面にガスを供給するための少なくとも2つの注入口(110)を備える。システムは、さらにキャリア(110)に接続され、基板(130)の水平のドリフトを制限するように構成された少なくとも1つの保持部材(120)を備える。【選択図】図2

8. 发明专利

JP2009521066A A method of forming a highly uniform space layer between the two disks 审中-公开
公开(公告)号：JP2009521066A
公开(公告)日：2009-05-28
申请号：JP2008546070
申请日：2006-12-21
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：チェム・ヤファザー , トーマス・プファフ , ベルント・ハインツ
IPC分类号： G11B7/26 , G11B7/24
CPC分类号： B29C65/521 , B29C65/14 , B29C65/1406 , B29C65/1487 , B29C65/4845 , B29C65/76 , B29C66/001 , B29C66/1122 , B29C66/452 , B29C66/72321 , B29C66/73161 , B29C66/82661 , B29C2035/0827 , B29K2105/243 , B29L2017/005 , B32B37/025 , B32B37/12 , B32B2038/0076 , B32B2309/68 , B32B2310/0831 , B32B2429/02 , C09J5/02 , C09J2400/228 , G11B7/24018 , G11B7/26
摘要：本発明に係る方法は、複数のディスク状基板を接合する方法に関し、第１および第２の基板を提供するステップと；第１および第２の接合表面上に液体接着剤を塗布するステップと；ラッカの粘性を増大させるために、第１および第２の基板の少なくとも一方の接着ラッカが塗布された表面に紫外線光を照射するステップと；真空下で基板を接合して接合層を形成するステップと、接合ディスク間にあるラッカの粘性を増大させるために、接合ディスクに紫外線光を照射するステップと；接合基板を回転可能チャック上に配置するステップと；５００ｒｐｍより大きい回転速度で接合基板を回転させるステップと；２つの基板の一方に接合層全体を残した状態で基板を分離するステップとを有する。

9. 发明专利

JP2009514671A A method and apparatus for controlling the film thickness by spin coating 审中-公开
公开(公告)号：JP2009514671A
公开(公告)日：2009-04-09
申请号：JP2008539391
申请日：2006-10-27
申请人：ジングルス・テヒノロギース・アクチェンゲゼルシャフトSingulus Technologies Ag
发明人：ツェム・ヤヴァサー , トーマス・プファフ , ベルント・ハインツ , ヨゼフ・シュタインケラー
IPC分类号： B05D1/40 , B05C9/14 , B05C11/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/168 , B05D1/005 , B05D3/067 , G03F7/162 , G11B7/266
摘要：第１工程で基板上の液体を熱的に調整し、例えば半導体ウエハやデータ記憶メディアの上で、粘性のある液体を基板の表面上に所定の領域で均一になるように拡げ、更なる２つの工程で、スピンコートプロセス中またはプロセス前にＵＶ照射を行うための方法および装置が示されている。

10. 发明专利

JPH1060625A DEVICE FOR MASKING SUBSTRATE 失效
公开(公告)号：JPH1060625A
公开(公告)日：1998-03-03
申请号：JP9377597
申请日：1997-04-11
申请人： SINGULUS TECHNOLOGIES AG
发明人： KEMPF STEFAN
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/34 , G11B7/26 , H01J37/34
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device capable of executing sputtering at a low cost by adequately masking a substrate of a CD, etc. SOLUTION: This device has a sputtering cathode 2 and masks or covers the substrate 27. The device has a central mask guiding element 56 on which the central mask 26 covering the substrate 27 is arranged. The central mask 26 operates cooperatively with an outer mask 4 in such a manner that only the un-covered parts of the substrate 27 are coated during the time of the coating stage. The outer mask 4 and/or the central mask 26 are adjusted in the positions in the direction of a central shaft 58 extending in a longitudinal direction respectively independently.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式