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1. 发明专利

JP2016510113A 色情報を測定することができる３次元形状測定装置有权
标题翻译：能够测量颜色信息的3维形状测定装置
公开(公告)号：JP2016510113A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2015561283
申请日：2014-03-17
申请人：エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッドSnu Precision Co., Ltd. , エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッドSnu Precision Co., Ltd.
发明人：テヨンチョ， , テヨンチョ， , ヨンミンファン， , ヨンミンファン， , ソンリョンキム， , ソンリョンキム， , サンソカン， , サンソカン， , ヒジェパク， , ヒジェパク，
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02 , G01J3/46 , G01N21/27
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02029 , G01B9/02034 , G01B9/02057 , G01J3/0208 , G01J3/0229 , G01J3/50 , G01J3/506 , G01N21/8806 , G01N21/95 , G01N2021/8845 , G01N2021/9513
摘要：本発明は、色情報を測定することができる3次元形状測定装置に関する。本発明の色情報を測定することができる3次元形状測定装置は、干渉計を用いて測定対象物の形状を測定する3次元形状測定装置において、光を放出する光源と、前記光源から放出された光を反射させ、測定対象物によって反射された光を透過させる光分割器と、前記光分割器によって反射された光を前記測定対象物に集束させるレンズ部と、前記測定対象物から反射される光を検出する光検出部と、前記光源と前記光分割器との間の光経路上に配置され、前記光源の中心領域から放出される光を遮断して前記レンズ部で発生する光の干渉を弱化させる光調節部を含むことを特徴とする。【選択図】図2
摘要翻译：本发明涉及一种能够测量颜色信息的三维形状测量装置。 3维形状测量能够测量本发明的颜色信息，在干涉仪的装置的三维形状测量装置用于使用发射光的光源测量所述测量物体的形状，从所述光源发射的的光被反射，并且光分路器，其发送由所述测量物体反射的光，和用于聚焦由所述光分路器到测量物体反射的光的透镜单元，从测量对象反射的一个光检测器，用于检测光，设置在光分离器和光源之间的光学路径上，以阻止从透镜单元产生的光的光源的中心区域发射的光其特征在于，它包括用于削弱干扰的光调节部分。 .The

2. 发明专利

JP2014025929A Thickness measurement device and method using digital optical technique 有权
标题翻译：厚度测量装置和使用数字光学技术的方法
公开(公告)号：JP2014025929A
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：JP2013153982
申请日：2013-07-24
申请人： Snu Precision Co Ltd , エスエヌユープレシジョンカンパニー,リミテッドSNU Precision Co.,Ltd.
发明人： HWANG YOUNG MIN , JO TAE YONG , KIM KWAN GRAK
IPC分类号： G01B11/06 , G01N21/17
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thickness measurement device and method using digital optical technique capable of minimizing loss of light and measuring the thickness of a plurality of fields of measurement simultaneously.SOLUTION: A thickness measurement device 100 includes: a light source 110 for emitting light; a beam splitter 120 for making light emitted from the light source reflect or making reflected light by a measuring object 105 penetrate; a lens part 130 for focusing light reflected by the beam splitter into the measuring object; a reflection type optical route conversion part 140 for making light penetrated from the beam splitter selectively reflect; and a spectrometer 150 for analyzing light reflected from the reflection type optical route conversion part to acquire information on the thickness of the measuring object.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种厚度测量装置和方法，该厚度测量装置和方法使用能够最小化光损失并同时测量多个测量场的厚度的数字光学技术。解决方案：厚度测量装置100包括：光源110，用于发光; 用于使从光源射出的光由测量对象105反射或产生反射光的分束器120穿透; 用于将由分束器反射的光聚焦到测量对象中的透镜部分130; 用于使从光束分离器穿透的光的反射型光路转换部140选择性地反射; 以及用于分析从反射型光路转换部反射的光的光谱仪150，获取关于测量对象的厚度的信息。

3. 发明专利

JP2015523288A 破損防止機能を備えた基板処理システム有权
标题翻译：具有故障预防功能的基片处理系统
公开(公告)号：JP2015523288A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2015517158
申请日：2012-06-22
申请人：エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッドSnu Precision Co., Ltd. , エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッドSnu Precision Co., Ltd.
发明人：サンヒョンパク， , サンヒョンパク， , ドンヒョンイ， , ドンヒョンイ， , ヒュンピルオ， , ヒュンピルオ， , クァンチンジョン， , クァンチンジョン， , チンハオンクウォン， , チンハオンクウォン， , ソンチンパク， , ソンチンパク，
IPC分类号： B65D90/18 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32807 , B01J3/002 , C23C14/06 , C23C14/243
摘要：本発明は、破損防止機能を備えた基板処理システムに関するものであって、本発明による破損防止機能を備えた流体タンクは、流体を貯蔵することができる流体タンクと、前記流体タンクから流体の供給を受けて、基板が処理される空間を提供するチャンバーと、前記流体が流動できるように、前記流体タンクと前記チャンバーを相互連結するパイプと、前記パイプで前記流体が流動することにより熱の供給を受けて発生する熱膨張に対応して前記流体タンクの位置変更ができるようにする破損防止部とを含むことを特徴とする。これによって、流体タンクがパイプの熱膨張による体積変化に対応して流体タンクの破損を防止することができる破損防止機能を備えた基板処理システムが提供される。【選択図】図 1
摘要翻译：本发明涉及一种具有故障防止功能，流体箱与根据本发明的预防损伤功能的基片处理系统，包括能够储存流体，流体从所述流体储存器供给的流体储 WO接收手，加工基板蛾是WO提供至腔室门的空间，流体蛾流可以哟两个流体箱门腔室WO互连管门，管道流出流体蛾流动到古都Niyori热卢供给响应于由接收所产生的热膨胀，其特征在于它包括一防止破损部分，以允许所述流体罐的重新定位。因此，具有能够流体箱的损坏预防功能的基板处理系统，以防止响应于体积变化的流体箱损坏由于管的热膨胀提供。点域1

4. 发明公开

KR20120030794A Monomer deposition apparatus 有权
标题翻译：单体沉积装置
公开(公告)号：KR20120030794A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR20100092537
申请日：2010-09-20
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： YOON HYUNG SEOK , NAMGOONG SUNG TAE , LEE TAE SUNG , PARK IL JUN
IPC分类号： C23C14/12 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/12 , B05D1/60 , C23C14/564
摘要： PURPOSE: A monomer deposition apparatus is provided to minimize the deposition of monomer vapor on the peripheral members of a substrate by condensing monomer, which is not deposited on the substrate, on a cooling plate. CONSTITUTION: A monomer deposition apparatus(100) comprises a chamber(140) having a processing space for processing a substrate, a deposition unit(110) which is partially accommodated in the chamber and arranged separate from the substrate to eject monomer to the substrate, and a cooling plate(120) which is arranged adjacent to the deposition unit in order not to interfere with the ejection of monomer and separate from the substrate in order to cool and condense monomer not deposited on the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种单体沉积装置，用于通过将不沉积在基底上的单体冷凝在冷却板上，使单体蒸汽沉积在基板周边部件上最小化。构成：单体沉积装置（100）包括具有用于处理基板的处理空间的室（140），部分容纳在室中并与基板分离设置以将单体喷射到基板的沉积单元（110）以及与沉积单元相邻布置的冷却板（120），以便不干扰单体的喷射并与基板分离以冷却和冷凝未沉积在基板上的单体。

5. 发明公开

KR20100120941A Apparatus for depositing film and system for depositing film having the same 有权
标题翻译：用于沉积膜的装置和用于沉积膜的系统
公开(公告)号：KR20100120941A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：KR20090039826
申请日：2009-05-07
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： BAE KYUNG BIN , YOON HYUNG SEOK , KANG CHANG HO
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/541
摘要： PURPOSE: A film deposition apparatus and a film deposition system having the same are provided to improve processing speed by simultaneously performing deposition on a plurality of substrates. CONSTITUTION: A film deposition apparatus comprises a transfer chamber(400), a first processing chamber(200A), a second processing chamber, and a spray unit. The transfer chamber transfers substrates. The first and the second processing chamber, in which a first and a second substrate holder for supporting substrates in an upright position are installed at an interval, are respectively connected to both sides of the transfer chamber. The spray unit is installed between the first and the second substrate holder and successively supplies a deposition material to the first and the second substrate holder.
摘要翻译：目的：提供一种成膜装置和具有该成膜装置的成膜系统，以通过在多个基板上同时进行沉积来提高处理速度。构成：成膜装置包括传送室（400），第一处理室（200A），第二处理室和喷射单元。转移室转移衬底。第一处理室和第二处理室分别连接到传送室的两侧，其中用于以直立位置支撑基板的第一和第二基板保持器分别连接到传送室的两侧。喷射单元安装在第一和第二基板保持器之间，并且将沉积材料依次提供给第一和第二基板保持器。

6. 发明公开

KR20120030796A Apparatus for depositing monomer and method for exhausting monomer of the same 有权
标题翻译：用于沉积单体的装置和用于排出单体的方法
公开(公告)号：KR20120030796A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR20100092539
申请日：2010-09-20
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： YOON HYUNG SEOK , NAMGOONG SUNG TAE , LEE TAE SUNG , PARK IL JUN
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/56 , H01L51/56
摘要： PURPOSE: An apparatus for depositing a monomer and an exhausting method thereof are provided to reduce the replacement costs of a vacuum pump by mounting a monomer recovery unit between a monomer chamber and a vacuum pump. CONSTITUTION: A monomer is deposited on a substrate in a main chamber. The monomer is accepted to a monomer chamber(120) in vapor. A monomer recovery unit recovers the monomer from a gas exhausted to the outside from the monomer chamber. A first vacuum pump(151) is connected to the main chamber or the monomer recovery unit. The first vacuum pump inhales the monomer or the gas within the main chamber or the monomer chamber. A first valve opens or blocks a flow path between the first vacuum pump and the main chamber. A second valve(162) opens or blocks the flow path between the first vacuum pump and the monomer recovery unit.
摘要翻译：目的：提供一种用于沉积单体的装置及其排气方法，以通过在单体室和真空泵之间安装单体回收单元来降低真空泵的更换成本。构成：单体沉积在主室中的基底上。单体被蒸气接受到单体室（120）。单体回收单元从单体室从排出到外部的气体中回收单体。第一真空泵（151）连接到主室或单体回收单元。第一个真空泵吸入主室或单体室内的单体或气体。第一阀打开或阻塞第一真空泵和主室之间的流动路径。第二阀（162）打开或阻止第一真空泵和单体回收单元之间的流动路径。

7. 发明授权

KR100761238B1 DEVICE FOR PROCESSING MATERIALS BY LASER BEAM 有权
标题翻译：激光加工材料的装置
公开(公告)号：KR100761238B1
公开(公告)日：2007-09-27
申请号：KR20070024482
申请日：2007-03-13
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： PAHK HEUI JAE , KIM TAI WOOK , LEE DONG SUNG , SHIN HEUNG HYUN
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/04
CPC分类号： B23K26/067
摘要： A laser beam machining system that can machine a complicated or curved surface of an object in an accurate and prompt manner, can control the machining depth of the object by controlling the output of laser beams, and can observe the shape of a machined object by using an auxiliary light when machining the object with laser beams is provided. A laser beam machining system comprises: a laser beam generating part(30) oscillating laser beams; and a micromirror device(40) having a plurality of micromirrors which are configured in such a manner that the micromirrors optionally transmit some of the irradiated laser beams(L) to the surface of an object(A) to machine the object into a desired shape after the laser beams oscillated in the laser beam generating part are irradiated onto the micromirrors, wherein the micromirrors can optionally convert light paths of the laser beams oscillated in the laser beam generating part, and the micromirror device controls an output of laser beams(L1) irradiated onto the machining surface area by allowing the light paths to be converted with respect to only some micromirrors among micromirrors corresponding to a machining surface area of the object to be machined.
摘要翻译：能够以准确，及时的方式加工物体的复杂或弯曲表面的激光束加工系统可以通过控制激光束的输出来控制物体的加工深度，并且可以通过使用来观察加工对象的形状提供了用激光束加工物体时的辅助光。激光束加工系统包括：激光束产生部分（30）振荡激光束; 和具有多个微镜的微镜装置（40），其以这样的方式配置，使得微镜可选地将一些照射的激光束（L）传输到物体（A）的表面，以将物体加工成期望的形状在激光束产生部分中振荡的激光束照射到微镜上之后，其中微镜可以可选地转换在激光束产生部分中振荡的激光束的光路，并且微镜装置控制激光束（L1）的输出，通过相对于对应于待加工物体的加工表面区域的微反射镜中的仅一些微镜转换光路，照射到加工表面区域。

8. 发明公开

KR20120030856A Sputtering apparatus 有权
标题翻译：溅射装置
公开(公告)号：KR20120030856A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR20100092660
申请日：2010-09-20
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： YOON HYUNG SEOK , NAMGOONG SUNG TAE , LEE TAE SUNG , PARK BYOUNG WOO
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
摘要： PURPOSE: A sputtering device is provided to prevent the formation of particles and smoothly ventilate a chamber by implementing an environment for smooth gas flow around a shield adjacent to a pumping port. CONSTITUTION: A sputtering device(1000) comprises a chamber(100), a cathode(300), a pumping port, and a shield(400). The cathode is coupled to an inner side of the chamber. The pumping port is formed on an inner side of the chamber. The shield is coupled to an inner side of the chamber between the cathode and the pumping port and formed with a flow hole.
摘要翻译：目的：提供溅射装置以防止颗粒的形成并且通过实现围绕靠近泵送端口的屏蔽件的平滑气体流动的环境来平稳地通风室。构成：溅射装置（1000）包括室（100），阴极（300），泵送端口和屏蔽件（400）。阴极耦合到腔室的内侧。泵送口形成在室的内侧。屏蔽件耦合到阴极和泵送端口之间的室的内侧，并形成有流动孔。

9. 发明公开

KR20120030795A Cold trap for adhering monomer and apparatus for depositing monomer using the same 有权
标题翻译：用于安装单体的冷藏和装置使用该单体沉积单体
公开(公告)号：KR20120030795A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：KR20100092538
申请日：2010-09-20
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： YOON HYUNG SEOK , NAMGOONG SUNG TAE , KIM JANG MI , PARK IL JUN
IPC分类号： B01D8/00 , C23C14/12 , H01L51/56
CPC分类号： B01D8/00 , B05D1/60 , C23C14/12 , C23C14/56 , H01L51/56
摘要： PURPOSE: A monomer cooling trap and a monomer depositing apparatus using the same are provided to save costs required for replacing a vacuum pump and to improve the productivity of the depositing apparatus. CONSTITUTION: A monomer cooling trap is installed on a flow path which discharges gas and monomer generated from a depositing process. The monomer cooling trap includes a case(110), a sucking hole, a cooling plate(130), and an exhaust hole. The sucking hole sucks gas and monomer. The cooling plate is arranged in the case and includes a through hole(131). A cooling path is formed in the cooling plate, and the monomer is attached on the surface of the cooling plate. The exhaust hole exhausts gas from the case. A monomer depositing apparatus includes a main chamber, a monomer chamber, a shutter, and a monomer cooling trap. Monomer is deposited on the substrate in the main chamber. The monomer of a vapor state is contained in the monomer chamber. The shutter opens the monomer chamber to spray the monomer from the monomer chamber to the main chamber.
摘要翻译：目的：提供单体冷却阱和使用其的单体沉积装置以节省更换真空泵所需的成本并提高沉积设备的生产率。构成：将单体冷却捕集器安装在排放从沉积过程产生的气体和单体的流动路径上。单体冷却捕集器包括壳体（110），吸入孔，冷却板（130）和排气孔。吸孔吸气体和单体。冷却板布置在壳体中并且包括通孔（131）。在冷却板上形成冷却路径，将单体附着在冷却板的表面。排气孔从壳体排出气体。单体沉积设备包括主室，单体室，快门和单体冷却阱。单体沉积在主室中的基板上。蒸汽状态的单体包含在单体室中。快门打开单体室，以将单体从单体室喷射到主室。

10. 发明授权

KR100863700B1 VISION INSPECTION SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTING WORKPIECE USING THE SAME 有权
标题翻译：视觉检查系统及使用其检查工作的方法
公开(公告)号：KR100863700B1
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：KR20080014403
申请日：2008-02-18
申请人： SNU PRECISION CO LTD
发明人： KANG SUNG BUM , PAHK HEUI JAE , LEE IL HWAN
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/88
CPC分类号： G01B11/245 , G01N21/89
摘要： A vision inspection system and a method for inspecting a workpiece thereby are provided to easily carry out positioning and alignment of line-scan cameras and to accurately inspect defects of a workpiece. A vision inspection system includes a workpiece stage, line-scan cameras(40-1~40-n), and a computer. The workpiece stage transfers a table to a first position for loading a workpiece on the table and to a second position for scanning the workpiece. The table includes marks having mark stage coordinates in the alignment direction of the line-scan cameras. The line-scan cameras scan the workpiece to obtain image of the workpiece. The computer is connected to the workpiece stage and the line-scan cameras.
摘要翻译：提供了视觉检查系统和用于检查工件的方法，以便容易地执行线扫描照相机的定位和对准，并且精确地检查工件的缺陷。视觉检查系统包括工件台，行扫描摄像机（40-1〜40-n）和计算机。工件台将工作台转移到用于将工件装载在工作台上的第一位置和用于扫描工件的第二位置。该表包括在行扫描相机的排列方向上具有标记台坐标的标记。线扫描相机扫描工件以获得工件的图像。计算机连接到工件台和行扫描摄像机。

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