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    • 10. 发明专利
    • 噻吩并-茚并-單體及聚合物
    • 噻吩并-茚并-单体及聚合物
    • TW201833117A
    • 2018-09-16
    • TW106142815
    • 2017-12-06
    • 德商巴地斯顏料化工廠BASF SE沙烏地阿拉伯阿布杜拉國王科技大學KING ABDULLAH UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
    • 陳虎CHEN, HU張衛民ZHANG, WEIMIN休爾漢吉 麥可HURHANGEE, MICHAEL麥克古羅奇 伊愛恩MCCULLOCH, IAIN海奧茲 帕斯卡HAYOZ, PASCAL卡畢恩 丹尼爾KAELBLEIN, DANIEL
    • C07D495/04C08G61/12H01L51/30H01L51/46H01L51/54
    • 本發明係關於包含至少一個下式之單元之聚合物,或及下式之化合物:或其中,在式1、1’、2及2’中 n 係0、1、2、3或4 m 係0、1、2、3或4 M1及M2彼此獨立地係芳香族或雜芳香族單環或二環系統; X 在每次出現時選自由以下組成之群:O、S、Se或Te, Q 在每次出現時選自由以下組成之群:C、Si或Ge R 在每次出現時選自由以下組成之群:氫、C1-100-烷基、C2-100-烯基、C2-100-炔基、C5-12-環烷基、C6-18-芳基、5至20員雜芳基、C(O)-C1-100-烷基、C(O)-C5-12-環烷基及C(O)-OC1-100-烷基, R2、R2’、R2’’、R*在每次出現時獨立地選自由以下組成之群:氫、C1-30-烷基、C2-30-烯基、C2-30-炔基、C5-12-環烷基、C6-18-芳基、5至20員雜芳基、OR21、OC(O)-R21、C(O)-OR21、C(O)-R21、NR21R22、NR21-C(O)R22、C(O)-NR21R22、N[C(O)R21][C(O)R22]、SR21、鹵素、CN、SiRSisRSitRSiu及OH, L1及L2彼此獨立地且在每次出現時選自由以下組成之群:C6-30-伸芳基、5至30員伸雜芳基、及。
    • 本发明系关于包含至少一个下式之单元之聚合物,或及下式之化合物:或其中,在式1、1’、2及2’中 n 系0、1、2、3或4 m 系0、1、2、3或4 M1及M2彼此独立地系芳香族或杂芳香族单环或二环系统; X 在每次出现时选自由以下组成之群:O、S、Se或Te, Q 在每次出现时选自由以下组成之群:C、Si或Ge R 在每次出现时选自由以下组成之群:氢、C1-100-烷基、C2-100-烯基、C2-100-炔基、C5-12-环烷基、C6-18-芳基、5至20员杂芳基、C(O)-C1-100-烷基、C(O)-C5-12-环烷基及C(O)-OC1-100-烷基, R2、R2’、R2’’、R*在每次出现时独立地选自由以下组成之群:氢、C1-30-烷基、C2-30-烯基、C2-30-炔基、C5-12-环烷基、C6-18-芳基、5至20员杂芳基、OR21、OC(O)-R21、C(O)-OR21、C(O)-R21、NR21R22、NR21-C(O)R22、C(O)-NR21R22、N[C(O)R21][C(O)R22]、SR21、卤素、CN、SiRSisRSitRSiu及OH, L1及L2彼此独立地且在每次出现时选自由以下组成之群:C6-30-伸芳基、5至30员伸杂芳基、及。