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1. 发明专利

TW200703455A 實施成形為線光束之雷射與沉積於基材上之薄膜間之交互作用的系統與方法(二) SYSTEMS AND METHODS FOR IMPLEMENTING AN INTERACTION BETWEEN A LASER SHAPED AS A LINE BEAM AND A FILM DEPOSITED ON A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：实施成形为线光束之激光与沉积于基材上之薄膜间之交互作用的系统与方法(二) SYSTEMS AND METHODS FOR IMPLEMENTING AN INTERACTION BETWEEN A LASER SHAPED AS A LINE BEAM AND A FILM DEPOSITED ON A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200703455A
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：TW095116212
申请日：2006-05-08
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC. , 卡爾蔡司工業製造科技公司 CARL ZEISS INDUSTRIELLE MESSTECHNIK GMBH
发明人：達斯帕拉旭P. DAS, PALASH P. , 赫夫曼湯瑪斯 HOFMANN, THOMAS , 山德史壯李察L. SANDSTROM, RICHARD L. , 布奇鄂圖 BOUCKY, OTTO , 史圖帕恩斯特 STUMPP, ERNST , 馬茲寇維斯伯索德 MATZKOVITS, BERTHOLD , 赫爾麥可 HOELL, MICHAEL , 華爾瑟喬治 WALTHER, JOERG , 伯瑞納寇特 BRENNER, KURT , 格魯帕甘特 GRUPP, GUENTER
IPC分类号： H01L , G03F , H01S
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要：揭露一用於聚焦一光束以與一沉積在一基材上之薄膜作一交互作用之系統及方法,其中該經聚焦光束係界定一短軸線及一長軸線。一態樣中,該系統可包括一偵測系統以分析一像平面上自該薄膜反射之光來決定該光束是否在短軸線中聚焦於薄膜處。另一態樣中,可提供一系統以定位一薄膜(具有一不完美、非平面性表面)以供與一經成形線光束之交互作用。
简体摘要：揭露一用于聚焦一光束以与一沉积在一基材上之薄膜作一交互作用之系统及方法,其中该经聚焦光束系界定一短轴线及一长轴线。一态样中,该系统可包括一侦测系统以分析一像平面上自该薄膜反射之光来决定该光束是否在短轴线中聚焦于薄膜处。另一态样中,可提供一系统以定位一薄膜(具有一不完美、非平面性表面)以供与一经成形线光束之交互作用。

2. 发明专利

JP4714734B2 Coordinate measuring apparatus for a probe 有权
公开(公告)号：JP4714734B2
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：JP2007501171
申请日：2005-02-23
申请人：カールツァイスインドゥストリーレメステクニークゲーエムベーハーCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：エントエルレ，エックハルト , ヘルプ，モーニカ
IPC分类号： G01B5/012 , G01B7/012 , G01D11/14
CPC分类号： G01B7/012

3. 发明专利

JP2010517020A Operation control of the coordinate measuring machine 有权
公开(公告)号：JP2010517020A
公开(公告)日：2010-05-20
申请号：JP2009546677
申请日：2008-01-21
申请人：カールツァイスインドゥストリエレメステヒニクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：ルック・オットー
IPC分类号： G01B5/008 , G01B21/00
CPC分类号： G05B19/0426
摘要：本発明は、例えば、最大速度、最大加速度、移動範囲の限界位置又は信号検出の限界値などの、動作中有効性を保持すべき少なくとも一つの動作パラメータを算定する、座標測定器（１１）の動作を制御する方法に関する。座標測定器（１１）の複数のコンポーネント（１１，１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）にそれぞれ動作パラメータの値、動作パラメータを算定するための規則及び動作パラメータを算定するための情報の中の一つ以上を割り当てる。複数のコンポーネント（１１，１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）に対して、動作パラメータの算定シーケンスを規定する。規定された算定シーケンスで動作パラメータを算定する際、各コンポーネント（１１，１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）に対して、次の措置を実施するものとして、シーケンスの第一の位置に有るコンポーネント（１１）から開始し、ｉ）動作パラメータの値がコンポーネント（１１，１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）に割り当てられている場合には、その値を動作に関して有効な動作パラメータの値として採用する措置、ii）動作パラメータの値がコンポーネント（１１，１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）に割り当てられていない場合には、それまでの有効な動作パラメータの値を引き続き有効なままとする措置、iii ）シーケンス内に更に別のコンポーネント（１２，１３，１４，１６，１７，１８，１９）が存在する場合、そのコンポーネントに関して前記の措置を繰り返す。

5. 发明专利

JP2009536325A Method and apparatus for contacting a surface point of the workpiece 有权
公开(公告)号：JP2009536325A
公开(公告)日：2009-10-08
申请号：JP2009508187
申请日：2007-04-28
申请人：カールツァイスインドゥストリーレメステクニークゲーエムベーハーCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：オベレ，オイゲーン , グルップ，ギュンター , ベルンハルト，ラルフ , ベントツーラ，クラオズ
IPC分类号： G01B5/00
CPC分类号： G01B5/008 , G01B21/045
摘要：【課題】加工品に接触する際にヒステリシス効果を最小限にする代替方法を提供する。
【解決手段】プローブヘッド基部５６と触針２２とを有するプローブヘッド２６が提供され、前記触針２２は、プローブヘッド基部５６に対して移動可能である。触針２２は、プローブヘッド基部５６に対して画定された静止位置を有している。接触のために、触針２２が表面点に画定された接触力で触れるまで、プローブヘッドが加工品に対して移動する。静止位置に対する触針２２のヒステリシス作用を表す補正データ記録７４が提供され、接触力が補正データ記録７４を用いて定められる。
【選択図】図３

6. 发明专利

TWI297509B 實施成形為線光束之雷射與沉積於基材上之薄膜間之交互作用的系統與方法(二) SYSTEMS AND METHODS FOR IMPLEMENTING AN INTERACTION BETWEEN A LASER SHAPED AS A LINE BEAM AND A FILM DEPOSITED ON A SUBSTRATE 有权
简体标题：实施成形为线光束之激光与沉积于基材上之薄膜间之交互作用的系统与方法(二) SYSTEMS AND METHODS FOR IMPLEMENTING AN INTERACTION BETWEEN A LASER SHAPED AS A LINE BEAM AND A FILM DEPOSITED ON A SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI297509B
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW095116212
申请日：2006-05-08
申请人：希瑪股份有限公司 CYMER, INC. , 卡爾蔡司工業製造科技公司 CARL ZEISS INDUSTRIELLE MESSTECHNIK GMBH
发明人：達斯帕拉旭P. DAS, PALASH P. , 赫夫曼湯瑪斯 HOFMANN, THOMAS , 山德史壯李察L. SANDSTROM, RICHARD L. , 布奇鄂圖 BOUCKY, OTTO , 史圖帕恩斯特 STUMPP, ERNST , 馬茲寇維斯伯索德 MATZKOVITS, BERTHOLD , 赫爾麥可 HOELL, MICHAEL , 華爾瑟喬治 WALTHER, JOERG , 伯瑞納寇特 BRENNER, KURT , 格魯帕甘特 GRUPP, GUENTER
IPC分类号： H01L , G03F , H01S
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要：揭露一用於聚焦一光束以與一沉積在一基材上之薄膜作一交互
作用之系統及方法,其中該經聚焦光束係界定一短軸線及一長軸
線。一態樣中,該系統可包括一偵測系統以分析一像平面上自該薄
膜反射之光來決定該光束是否在短軸線中聚焦於薄膜處。另一態樣
中,可提供一系統以定位一薄膜(具有一不完美、非平面性表面)以
供與一經成形線光束之交互作用。
简体摘要：揭露一用于聚焦一光束以与一沉积在一基材上之薄膜作一交互作用之系统及方法,其中该经聚焦光束系界定一短轴线及一长轴线。一态样中,该系统可包括一侦测系统以分析一像平面上自该薄膜反射之光来决定该光束是否在短轴线中聚焦于薄膜处。另一态样中,可提供一系统以定位一薄膜(具有一不完美、非平面性表面)以供与一经成形线光束之交互作用。

7. 发明专利

JP4417114B2 Coordinate measuring dexterity probe head 有权
公开(公告)号：JP4417114B2
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：JP2003571680
申请日：2003-01-18
申请人：カールツァイスインドゥストリーレメステクニークゲーエムベーハーCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：エンダーレ，エックハート , ブレンナー，クルト
IPC分类号： G01B5/00 , G01B5/008 , G01B5/012 , G01B21/00
CPC分类号： G01B5/012 , G01B5/0016 , G01B5/008

8. 发明专利

JP2009543083A Method of operation of the equipment and apparatus for generating an electromagnetic beam 有权
公开(公告)号：JP2009543083A
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：JP2009518790
申请日：2007-07-11
申请人：カールツァイスインドゥストリエレメステヒニクゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：エルラー・マルコ
IPC分类号： G01N23/04
CPC分类号： G01N23/046 , G01N2223/419 , H01J35/14 , H05G1/52
摘要：本発明は、装置が、電磁ビーム、特にＸ線ビーム又は極端紫外線ビームを発生するように構成されており、その際、粒子、特に電子が、調節可能な集束装置（２２）によってターゲット（５）に向けて転向されるので、粒子によってターゲット（５）において電磁ビームが発生され、少なくとも１つの対象物、特に校正対象物（７０）が、電磁ビームによって通過照射され、かつ対象物の通過ビーム画像が撮影され、１つ又は複数の通過ビーム画像が自動的に評価され、かつ評価に依存して、集束装置（２２）が調節される装置の動作方法に関する。

9. 发明专利

JP2009503460A Sensor module for the probe of tactile coordinate measuring device 有权
公开(公告)号：JP2009503460A
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：JP2008523165
申请日：2006-07-06
申请人：カールツァイスインドゥストリーレメステクニークゲーエムベーハーCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：ザイツ，カール , シュトラウス，ヴォルフガング , ドミーニクス，ヴァルター , ロート，ローラント
IPC分类号： G01B5/012
CPC分类号： G01B5/012 , G01B7/001 , G01B7/012
摘要：【課題】３つの空間方向におけるそれぞれの曲げ剛性をできるだけ良好に相互に整合させることのできる、微細構造体を測定するためのセンサーモジュールを提供する。
【解決手段】触知式座標測定装置のプローブ２８用のセンサーモジュール４０は、第一測定面を規定する固定モジュールベース４６を有する。前記センサーモジュールはさらに、モジュールベース４６に対して移動可能であって、触針２６を保持するための支持部材４８ａを有している。さらに、支持部材４８ａとモジュールベース４６とを移動可能に相互接続する少なくとも１つの変形可能な接続部材５０を設けている。本発明の１つの局面において、前記接続部材５０は少なくとも、変形可能な第一および第二材料層５０ａ，５０ｂを有し、これらは、第一測定面に対して垂直に、相互に位置がずれた状態に設けられている。
【選択図】図２

10. 发明专利

JP2007526465A Coordinate measuring apparatus for a probe 有权
公开(公告)号：JP2007526465A
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：JP2007501171
申请日：2005-02-23
申请人：カールツァイスインドゥストリーレメステクニークゲーエムベーハーCarl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH
发明人：エントエルレ，エックハルト , ヘルプ，モーニカ
IPC分类号： G01B5/016 , G01B7/012 , G01D11/14
CPC分类号： G01B7/012
摘要：【課題】プローブがコンパクト設計を有する場合に効率的な減衰が可能なように、プローブを改良する。
【解決手段】座標測定装置用プローブは、第１の静止部材と、前記第１の部材に対して相対移動可能な第２の部材とを備え、特に、第２の部材は、触覚ピンまたは触覚ピン延長部３６として設計されている。また、第２の可動部材３６の振動を減衰するための減衰部材９２が設けられている。減衰部材９２は、磁場を形成するためのマグネット構成７０，７２，８８を備え、さらに導体素子８２を備えている。この場合、マグネット構成７０，７２，８８は、導体素子８２の移動経路に沿って磁場の方向が変化するように設計されている。
【選択図】図４

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